Polska Akademia Nauk

Komitet Elektrotechniki
Sekcja Materiaw i Technologii Elektrotechnicznych








Henryka Danuta Stryczewska


TECHNOLOGIE PLAZMOWE
W ENERGETYCE I INYNIERII RODOWISKA


















Wydawnictwo Politechniki Lubelskiej
Lublin 2009

OPINIODAWCY:
Prof. dr hab. in. Zbigniew Koaciski
Prof. zw. dr hab. in. Czesaw Krlikowski















Projekt okadki i skad komputerowy:
Grzegorz Komarzyniec



Wydano za zgod Rektora Politechniki Lubelskiej


WSZELKIE PRAWA ZASTRZEONE
Copyright by Politechnika Lubelska





ISBN 978-83-7497-070-9





WYDAWNICTWO POLITECHNIKI LUBELSKIEJ
20-109 Lublin, ul. Bernardyska 13
E-mail:wydawnictwo@pollub.pl


Druk: Drukarnia Pektor Sp. z o.o.
20-341 Lublin, ul. Przesmyk 7
5
SPIS TRECI
Przedmowa.................................................................................................7
1. WPROWADZENIE DO PROBLEMW OCHRONY
RODOWISKA NATURALNEGO..............................................10
1.1. Energetyka i zrwnowaony rozwj..............................................15
1.2. Problemy zanieczyszczenia rodowiska naturalnego ....................17
1.3. Zanieczyszczenia powietrza ..........................................................19
1.4. Problemy zanieczyszczenia wody i gleb .......................................22
1.5. Podsumowanie...............................................................................24
2. TECHNOLOGIE PLAZMOWE....................................................25
2.1. Waciwoci i podzia plazmy .......................................................26
2.2. Plazma nietermiczna warunki generacji i zastosowania.............30
2.3. Wyadowania elektryczne jako rdo plazmy..............................35
2.4. Wyadowania przy napiciu staym DC ........................................39
2.5. Wyadowania koronowe ................................................................41
2.6. Wyadowania czstotliwoci radiowej...........................................45
2.7. Wyadowania impulsowe...............................................................48
2.8. Wyadowania dielektryczne barierowe DBDs...............................49
2.9. Wyadowania jarzeniowe przy cinieniu atmosferycznym ...........51
2.10. Wyadowania w mikro-otworach i kapilarach...............................54
2.11. Wyadowania mikrofalowe............................................................58
2.12. Wyadowania ukowe ....................................................................59
2.13. Podsumowanie...............................................................................61
3. REAKTORY PLAZMY NIETERMICZNEJ ................................63
3.1. Reaktory z wyadowaniami barierowymi ozonatory..................64
3.1.1. Proces syntezy ozonu w wyadowaniach barierowych..................66
3.1.2. Reaktor z wyadowaniami barierowymi jako odbiornik
energii elektrycznej........................................................................68
3.1.3. Elektryczne i energetyczne parametry reaktorw
z wyadowaniami barierowymi......................................................71
3.2. Reaktory z wyadowaniami ukowymi ..........................................79
3.2.1. Reaktory plazmowe z ukiem ekspansyjnym.................................80
3.3. Reaktory ze lizgajcym si ukiem elektrycznym........................82
6
3.3.1. Charakterystyki reaktorw ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym........................................................................................87
3.3.2. Cykl pracy reaktora ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym........................................................................................94
3.4. Podsumowanie.............................................................................102
4. UKADY ZASILANIA REAKTORW PLAZMOWYCH......103
4.1. Ukady transformatorowe ............................................................105
4.2. Zintegrowany ukad zasilania ......................................................106
4.2.1. Transformator piciokolumnowy w ukadzie zasilania
reaktorw ukowych ....................................................................118
4.3. Ukady zasilania reaktorw z wyadowaniami barierowymi.......124
4.4. Ukady Przeksztatnikowe ...........................................................129
4.5. Analiza mocy i sprawnoci wybranych transformatorowych
ukadw zasilania reaktorw plazmowych..................................134
4.5.1. Moc i sprawno wybranych ukadw zasilania reaktorw
z wyadowaniami barierowymi....................................................135
4.5.2. Moc i sprawno wybranych ukadw zasilania reaktorw
ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym...............................138
4.6. Wybrane zagadnienia projektowania ukadw zasilania
reaktorw plazmowych................................................................140
4.7. Podsumowanie.............................................................................143
5. MODELOWANIE MATEMATYCZNE REAKTORW ZE
LIZGAJCYM SI WYADOWANIEM UKOWYM.........145
5.1. Przegld modeli matematycznych wyadowa ukowych...........147
5.2. Modelowanie lizgajcego si wyadowania ukowego ..............151
5.3. Modelowanie rozkadu temperatury w przestrzeni
wyadowczej reaktora ..................................................................160
5.4. Podsumowanie.............................................................................169
6. ZASTOSOWANIE TECHNOLOGII NIETERMICZNEJ
PLAZMY W PROCESACH STERYLIZACJI ...........................170
6.1. Obrbka gleby..............................................................................173
6.2. Podsumowanie.............................................................................189
Literatura ................................................................................................191
Skorowidz .............................................................................................209
7
Przedmowa
Celem ksiki jest podanie podstaw wytwarzania i zastosowa nie-
termicznej plazmy generowanej wyadowaniami elektrycznymi w energe-
tyce i inynierii rodowiska (oczyszczanie powietrza, wody, gleby, utyli-
zacja odpadw). Ksika zawiera wyniki wieloletnich bada prowadzo-
nych w Instytucie Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii dotycz-
cych zaawansowanych technologii wykorzystujcych procesy elektroma-
gnetyczne, elektrotermiczne i plazmowe. Wiele tych bada prowadzo-
nych byo we wsppracy z orodkami naukowo-badawczymi w kraju i za
granic, wiele rozwiza zostao opatentowanych i znalazo zastosowanie
w praktyce przemysowej. Ich uwieczeniem byo przyznanie
Instytutowi Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii w 2003 roku,
w 5. konkursie Ramowego Programu Unii Europejskiej, statusu Europej-
skiego Centrum Doskonaoci Zastosowa Technologii Nadprzewodni-
kowych i Plazmowych w Energetyce ASPPECT (z ang. Application of
Superconductivity and Plasma Technologies in Power Engineering), co
wiadczy o uznaniu wysokiego poziomu prowadzonych bada w zakresie
tych technologii, ale przede wszystkim stanowi potwierdzenie wanoci
prowadzonych bada dla rozwoju technologicznego nie tylko naszego
regionu, czy kraju ale take w wymiarze europejskim.
Wykady z zastosowa technologii plazmy nietermicznej w energety-
ce i inynierii rodowiska byy czciowo prezentowane przez autork
ksiki w ramach przedmiotu Advanced Technology for Electrical Ener-
gy, podczas rocznego pobytu jako profesor wizytujcy w Uniwersytecie
Kumamoto w Japonii.
Japonia, ktra posiada znacznie ograniczone zasoby energetyczne,
przywizuje wielk wag do oszczdnego nimi gospodarowania oraz
ochrony rodowiska naturalnego. W Uniwersytecie Kumamoto utworzo-
no, ufundowan przez Korporacj Elektroenergetyczn Kyushu, katedr
Zawansowanych Technologii Inynierii Elektrycznej, do ktrej zaprasza-
8
ni byli rokrocznie specjalici z caego wiata, przekazujc studentom ja-
poskim swoje dowiadczenia oraz najnowsze wyniki bada podczas wy-
kadw oraz realizacji wsplnych projektw badawczych. Twrcom tej
idei przywieca cel szybkiego wdroenia w Japonii wielu zaawansowa-
nych technologii oraz rozwinicia wsplnych bada i wsppracy mi-
dzynarodowej w zakresie energooszczdnych i przyjaznych rodowisku
technologii. Jest to w obecnych czasach, gdy adna z potg wiatowych
nie jest ju samowystarczalna w produkcji energii, a zanieczyszczenia,
bdce wynikiem wytwarzania i przetwarzania energii nie maj granic
i powoduj globalne problemy rodowiskowe, idea warta naladowania,
przez wszystkich, niezalenie od tego, gdzie pracujemy i yjemy i jaki
jest nasz udzia w technologicznym rozwoju oraz zanieczyszczaniu ro-
dowiska naturalnego.
Intencj autorki jest, aby czytelnik zdoby podstawy wiedzy o techno-
logiach wykorzystujcych nietermiczn, nierwnowagow plazm, sto-
sowan we wspczesnych procesach oczyszczania wody, powietrza
i gleby.
Ksika obejmuje krtkie omwienie podstaw zrwnowaonego
rozwoju energetyki (Rozdzia 1). Przedstawiono problemy zwizane
z jakoci energii, stratami generowanymi na kadym etapie jej wytwa-
rzania oraz wpywem procesw przetwarzania energii na rodowisko.
Rozdzia 2 powicono przedstawieniu wpywu procesw technologicz-
nych na stan wody, powietrza i gleb, jako najwaniejszych elementw,
niezbdnych do prawidowego funkcjonowania rodowiska naturalnego.
Zawarto w nim take przegld najbardziej dokuczliwych obecnie substan-
cji zanieczyszczajcych rodowisko naturalne, z opisem ich wpywu na
jako wody, powietrza i gleb, zarwno w zakresie lokalnym jak i global-
nym.
Podstaw wytwarzania plazmy dla celw technologicznych s wya-
dowania elektryczne, dlatego omwiono rodzaje wyadowa elektrycz-
nych stosowanych w technologiach plazmowych i podstawowe zjawiska
9
im towarzyszce odsyajc zainteresowanych do pogbienia wiedzy
w bogatej literaturze dotyczcej wyadowa elektrycznych w gazach.
Omwiono rodzaje stosowanych obecnie reaktorw plazmowych, gw-
nie z punktu widzenia ich zastosowa w technologiach inynierii rodo-
wiska, ale zwrcono take uwag i przedstawiono podstawowe rozwiza-
nia reaktorw plazmy ukowej stosowanych w technologiach obrbki
materiaowej, jak cicie, napylanie czy topienie.
Reaktory plazmowe wykorzystywane dla celw technologicznych s
bardzo nietypowymi odbiornikami energii elektrycznej i stawiaj ich
ukadom zasilania szczeglne wymagania. Tym wymaganiom oraz sto-
sowanym rozwizaniom ukadw zasilania powicono rozdzia 4. Jed-
nemu z ukadw zasilania, zwanego zintegrowanym, ktrego wsptwr-
czyni jest autorka ksiki, powicono nieco wicej uwagi (rozdz. 4.2)
podajc moliwe rozwizania oraz zasady modelowania i projektowania
reaktorw plazmowych zasilanych z ukadu zintegrowanego. Wybrane
wyniki prac wasnych autorki i zespow badawczych, z ktrymi wsp-
pracowaa w zakresie modelowania reaktorw plazmowych ze lizgaj-
cym si wyadowaniem ukowym, zawarto w rozdziale 5. Ostatni 6 roz-
dzia powicono omwieniu wybranych zastosowa technologii nieter-
micznej plazmy w procesach sterylizacji i dezynfekcji. Przedstawiono
w nim wyniki bada nad procesami sterylizacji gleby prowadzone we
wsppracy z Laboratorium Przemian Energii Uniwersytetu Kumamoto
w Japonii. S one przykadem wykorzystania technologii nietermicznej
plazmy w inynierii rodowiska i biotechnologiach.







10
1. WPROWADZENIE DO PROBLEMW OCHRONY RODOWISKA
NATURALNEGO
Ostatnie dwa stulecia niespotykanego wczeniej intensywnego roz-
woju techniki i nieustannego wzrostu liczby ludnoci przyczyniy si do
gbokich zmian rodowiska naturalnego czowieka i znacznej jego de-
gradacji. Zmiany te dotycz w rwnym stopniu powietrza, wody i gleb
i s efektem dynamicznego rozwoju gospodarki, w tym szczeglnie ener-
getyki i przemysu chemicznego, ktrych oddziaywanie objo ca Zie-
mi.
Wspczenie nikt nie kwestionuje koniecznoci dziaa profilak-
tycznych i interwencyjnych majcych zapobiec katastrofie ekologicznej
a zadaniem specjalistw z rnych dziedzin nauki jest opracowanie pro-
gramw oraz wskazanie najbardziej pilnych i trafnych przedsiwzi ma-
jcych na celu przeciwdziaanie dalszej degradacji rodowiska naturalne-
go, bowiem to wanie nauka i technologia, bdce podstaw i motorem
wszelkiego postpu, s te, w opinii ekologw i etykw, w duym stopniu
odpowiedzialne za zachwianie rwnowagi ekologicznej. Najbardziej
spektakularne oznaki zachwiania tej rwnowagi s zwizane z zanie-
czyszczeniem powietrza atmosferycznego.
Jako powietrza jest jednym z tematw szczeglnej troski dla spoe-
czestw z krajw czonkowskich Unii Europejskiej, ktre s aktywne
w kreowaniu odpowiedniej strategii i zobowizane do przyjmowania
i implementacji nowych dyrektyw Komisji Europejskiej w zakresie
ochrony powietrza, jako celw dugoterminowych. Wydaje si prawdo-
podobne, e podobnie jak dostpno kapitau, zasoby ludzkie i infra-
struktura techniczna, tak i jako powietrza stan si czynnikiem determi-
nujcym wzrost ekonomiczny w danym regionie. Gwne problemy glo-
balne zwizane z jakoci powietrza to: zmiany klimatu, kwane deszcze
i ubytki warstwy ozonowej w atmosferze.

11
Zmiany klimatu ziemskiego byy przez stulecia czym naturalnym,
jednak ludzka aktywno w ostatnich dwu stuleciach jest powodem glo-
balnego ocieplenia. W wyniku uwalniania si znacznych iloci tzw. ga-
zw cieplarnianych nastpuj istotne zmiany absorpcji i emisji promie-
niowania sonecznego w atmosferze ziemskiej. Ubytki w warstwie ozo-
nowej, ktra chroni Ziemi przed niebezpiecznym promieniowaniem ul-
trafioletowym, obserwuje si od ponad 25 lat [1]. S one wynikiem dzia-
alnoci przemysowej (chodnictwo, produkcja aerozoli i rozpuszczalni-
kw), chemizacji rolnictwa i spalania biomasy.
Kwane substancje przenikajce do gleby i wd gruntowych oddzia-
ywaj na flor i faun. Wiele z tych substancji, powstajcych na skutek
przemysowej aktywnoci czowieka, moe by przenoszonych przez
wiatr tysice kilometrw od miejsc, w ktrych zostay wytworzone.
W wielu ekosystemach poziom kwanych substancji znacznie przewysza
normy. Szacuje si, e w krajach skandynawskich [1] ok. 20% lasw
i jezior jest martwych a kolejne 30% zagroonych, gwnie wskutek za-
nieczyszcze pochodzcych z innych pastw.
Wykorzystujc waciwie zjawiska elektromagnetyczne mona roz-
wiza wiele problemw zwizanych z zanieczyszczeniem rodowiska
naturalnego. Technologie bazujce na energii elektrycznej s ekologicznie
czyste a zatem bezodpadowe, w przeciwiestwie do wikszoci techno-
logii chemicznych. Dziki ju stosowanym, na skal przemysow, tech-
nologiom elektromagnetycznym, takim jak: ozonowanie wody, elektrofil-
tracja pyw zawartych w spalinach, separacja magnetyczna, udao si
czciowo zahamowa postpujc degradacj rodowiska. Wiele nowo-
powstaych technologii elektromagnetycznych oczyszczania powietrza
z zanieczyszcze gazowych, wrd ktrych wymienimy: procesy zacho-
dzce w nietermicznej plazmie, technologie laserowe, technologie wyko-
rzystujce wizk elektronow (electron-beam) znalazy ju zastosowa-
nie na skal przemysow [2]. Polityka krajw Unii Europejskiej poczw-
szy od lat 80-tych wiele miejsca powica rodowisku naturalnemu i jego
12
zasobom oraz jest inicjatorem akcji w krajach czonkowskich i stowarzy-
szonych na rzecz jego ochrony. Dziaania te dotycz bardzo szerokiego
zakresu inicjatyw i instrumentw, skierowanych do moliwie szerokich
grup spoecznych, i obejmuj uregulowania prawne oraz instrumenty fi-
nansowe, w postaci priorytetw dla interdyscyplinarnych programw ba-
dawczych. Jednym z takich instrumentw s programy ramowe. Kolejny
ju 7. Ramowy Program Unii Europejskiej, podobnie jak dwa poprzednie,
zawiera priorytety dla bada w zakresie zrwnowaonego rozwoju ener-
getyki oraz ochrony rodowiska naturalnego.
Badania dotyczce zaawansowanych technologii wykorzystujcych
procesy elektromagnetyczne, elektrotermiczne i plazmowe byy prowa-
dzone w Instytucie Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii od wielu
lat i zaowocoway w 2003 roku przyznaniem Instytutowi w konkursie
5 Ramowego Programu Unii Europejskiej, statusu Europejskiego Cen-
trum Doskonaoci Zastosowa Technologii Nadprzewodnikowych i Pla-
zmowych w Energetyce ASPPECT. wiadczy to o wanoci prowadzo-
nych bada w zakresie tych technologii dla rozwoju nie tylko naszego
regionu i kraju, ale take w wymiarze europejskim. Wiele tych bada
prowadzonych byo we wsppracy z orodkami naukowo-badawczymi
w kraju i za granic, wiele rozwiza zostao opatentowanych i znalazo
zastosowanie w praktyce przemysowej.
Problematyka badawcza prowadzona w Instytucie Podstaw Elektro-
techniki i Elektrotechnologii, w ramach zaawansowanych technologii
plazmowych w ochronie rodowiska, zostaa zapocztkowana we wcze-
snych latach osiemdziesitych dwudziestego wieku badaniami nad uka-
dami zasilania ozonatorw. Ta bardzo dojrzaa technologia, wykorzystu-
jca do wytwarzania plazmy ciche wyadowania elektryczne w ukadach
elektrodowych z barier dielektryczn, stosowana jest rwnie do bielenia
tkanin i papieru i unieszkodliwiania ciekw. Prowadzi si take badania
nad jej wykorzystaniem do oczyszczania gazw zawierajcych zwizki
siarki, wgla, lotne substancje organiczne, wglowodory i inne. Reaktory
13
plazmowe z wyadowaniami niezupenymi (barierowymi) stosowane
w technologiach uzdatniania wody pitnej s duej mocy odbiornikami
energii elektrycznej, charakteru rezystancyjno-pojemnociowego, wyma-
gajcymi od elektrycznego ukadu zasilania energii o wysokim napiciu,
czsto o podwyszonej czstotliwoci oraz symetryzacji i kompensacji
niskiego wspczynnika mocy. Ukady zasilania tych specjalnych odbior-
nikw energii, oprcz spenienia powyszych wymaga, powinny zapew-
nia sprawn, bezawaryjn prac i dobr wspprac z sieci zasilajc.
Jednym z takich ukadw zosta zastosowany w praktyce, zastpujc sto-
sowany wwczas do zasilania generatora ozonu ukad z przetwornic
dwumaszynow [3].
Badania nad ukadami zasilania reaktorw plazmowych kontynu-
owano we wsppracy z Uniwersytetem w Orleanie, we Francji, w kt-
rym powstaa idea reaktora z wyadowaniami zwanymi w literaturze an-
glojzycznej gliding arc, a ktremu ich twrcy nadali technologiczn
nazw GlidArc [4, 5]. lizgajce si wyadowania ukowe jako techno-
logiczne rdo nietermicznej plazmy wykorzystywane s gwnie do
oczyszczania gazw wylotowych elektrowni z zawartych w nich zwiz-
kw siarki, azotu i wgla oraz do neutralizacji lotnych substancji orga-
nicznych (z ang. VOC volatile organic compounds). Gwn ich zalet
jest moliwo wytwarzania zimnej nierwnowagowej plazmy bezpo-
rednio w zanieczyszczonym gazie przy cinieniu atmosferycznym,
a zatem w takich warunkach, w jakich emitowane s do atmosfery gazy
wylotowe elektrowni opalanych wglem kamiennym i innymi paliwami
kopalnymi. Wsppraca z uniwersytetem w Orleanie, zaowocowaa opra-
cowaniem idei transformatorowych ukadw zasilania reaktorw ze li-
zgajcymi si wyadowaniami ukowymi, zwanych zintegrowanymi, kt-
re zostay opatentowane [6] i stay si podstaw do budowy kilkunastu
zasilaczy, pracujcych obecnie w laboratoriach w Polsce, m.in. w Instytu-
cie Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Lubelskiej,
14
w Instytucie Chemii Przemysowej w Warszawie, Przemysowym Insty-
tucie Elektroniki oraz we Francji.
Zanim omwione zostan problemy zwizane z ochron rodowiska
naturalnego, w rozwizywaniu ktrych technologie plazmowe mog ode-
gra, bd ju odgrywaj, istotn rol, przedstawione zostan w duym
skrcie gwne zaoenia idei zrwnowaonego rozwoju, zwaszcza
w odniesieniu do energetyki, ktrej systemy stanowi niezwykle wan
cze infrastruktury wszystkich pastw a energia jest niezbdn we
wszystkich procesach technologicznych.
Pierwsze sygnay o zagroeniu rodowiska naturalnego opublikowa-
no w raporcie Czowiek i jego rodowisko wygoszonym przez Sekreta-
rza Generalnego ONZ UThanta na posiedzeniu ONZ w 1967 r, a wic
ponad 40 lat temu [7]. Zdaniem wczesnych, kryzys w relacjach czo-
wiek-rodowisko osign wymiar globalny, obejmujc swym zasigiem
nie tylko kraje wysoko uprzemysowione ale i rozwijajce si. Wtedy te
zaczto formuowa zaoenia filozofii zrwnowaonego rozwoju, ktre
ukazay si w Deklaracji Sztokholmskiej z 1972 r. [8]. Mino kolejne 20
lat i na konferencji ONZ w Rio de Janeiro w 1992 r. (z ang. United Na-
tions Conference on Environment and Development UNCED) jedno-
znacznie potwierdzono i zwrcono uwag na gbokie i o globalnym za-
sigu zmiany rodowiska naturalnego czowieka. W dokumencie Agenda
21 Konferencji z Rio de Janeiro sformuowano program dziaa dla za-
pewnienia zrwnowaonego rozwoju i wikszo przedstawicieli rzdw
krajw uczestniczcych w konferencji popara t strategi. W czci doty-
czcej rozwoju systemw energetycznych czytamy [9]:
"The need to control atmospheric emissions of greenhouse and other
gases and substances will increasingly need to be based on efficiency in
energy production, transmission, distribution and consumption, and on
growing reliance on environmentally sound energy systems, particularly
new and renewable sources of energy." co w tumaczeniu znaczy:
Kontrola emisji do atmosfery gazw cieplarnianych oraz innych gazw
15
i substancji musi bazowa na usprawnianiu systemw wytwarzania, prze-
syania, dystrybucji i przetwarzania energii oraz na rosncym wykorzy-
staniu przyjaznych dla rodowiska systemw energetycznych, a w szcze-
glnoci nowych i odnawialnych rde energii.
1.1. Energetyka i zrwnowaony rozwj
Zrwnowaony rozwj to filozofia dziaania i proces podejmowania
decyzji, zgodnie z ktrymi zaspokojenie potrzeb obecnych pokole po-
winno nastpowa w sposb nie naruszajcy moliwoci zaspokojenia
tych potrzeb przyszym pokoleniom. A zatem, obecnie podejmowane de-
cyzje musz by oparte na takich istniejcych rozwizaniach lub ich po-
szukiwaniu, ktre bd uwzgldniay trzy najwaniejsze elementy okre-
lajce jako naszego ycia: zdrowie i dobrobyt, gospodarowanie zaso-
bami oraz rodowisko, w ktrym yjemy. Jeli te trzy elementy bd si
we wszelkich naszych dziaaniach wzajemnie "przenikay" i uzupeniay,
to idea zrwnowaonego rozwoju speni si i przysze pokolenia bd
mogy, w rwnym stopniu jak obecne, korzysta z ziemskich zasobw
i rodowiska naturalnego.

Rys. 1.1. Ilustracja idei zrwnowaonego rozwoju (sustainable development)
Idea zrwnowaonego rozwoju, ktr schematycznie przedstawia
rysunek 1.1, to zatem taki sposb gospodarowania ziemskimi zasobami,
16
aby zaspokoi obecne i przysze potrzeby pokole oraz zapewni harmo-
ni midzy rozwojem i potrzeb ochrony rodowiska naturalnego. Aby
zrealizowa w praktyce zasady zrwnowaonego rozwoju naley [10]:
efektywnie i wydajnie wykorzystywa zasoby energetyczne,
uczestniczy w podejmowaniu decyzji dotyczcych zrwnowaonego
rozwoju,
zapewni masowy i rwny dla wszystkich dostp do informacji,
zintegrowa procesy podejmowania decyzji i planowania,
dy do minimalizacja strat i odpadw,
rozwija badania i innowacje.
Powysze kierunki prowadzce do realizacji zasad zrwnowaonego
rozwoju odnosz si w rwnym stopniu do kadej aktywnoci czowieka,
niemniej jednak, w energetyce nabieraj one szczeglnego znaczenia.
W kadym systemie energetycznym jego kocowy produkt energia
jest wynikiem wielu nastpujcych po sobie przemian energetycznych,
wykorzystujcych rnorodne jej noniki, takie jak ciepo, elektryczno,
paliwa czy energi mechaniczn. Zwykle, jako rda energii rozumiemy
pierwotne, wystpujce w naturze noniki energii (paliwa stae, cieke
i gazowe, energi soca, wody, wiatru, pyww morskich).
Energia w systemie ulega zatem wielu przemianom, od wydobycia
nonika energetycznego, poprzez jego transport, dystrybucje i wielokrot-
ne konwersje a do uzyskania energii w postaci kocowej. Ten acuch
przemian rodzi wiele problemw zwizanych ze stratami energii, degra-
dacj jej jakoci oraz przyczynia si do zanieczyszczenia rodowiska.
Na rysunku 1.2, opracowanym na podstawie [11], przedstawiono
przykad takiego acucha przemian od wydobycia paliwa do uzyskania
energii w bardzo prostym jej odbiorniku, jakim jest arwka, ale po-
wszechnym i niezbdnym w naszym codziennym yciu. Wida z niego,
jak wielkie potencjalne moliwoci usprawnienia na kadym etapie pro-
cesu generacji energii elektrycznej wci istniej.
17

Rys. 1.2. Przykad procesu energetycznego
Z jednej kilowatogodziny paliwa kopalnego uzyskujemy w efekcie
jedynie kilkadziesit watogodzin energii wietlnej. Straty energii podczas
wydobycia, przemian i przesyu oraz w samym odbiorniku stanowi po-
nad 90% energii pierwotnej, za spalanie nieodnawialnych paliw kopal-
nych jest rdem zanieczyszczenia rodowiska naturalnego.
Reasumujc, naley stwierdzi, e wspczesne systemy energetycz-
ne nie s zrwnowaone. W wikszoci bazuj na wytwarzaniu energii ze
rde nieodnawialnych. Znaczna cze energii zawartej w paliwie jest
tracona bezpowrotnie (straty energii i niska jej jako), a emisja do at-
mosfery produktw spalania paliw kopalnych powoduje zanieczyszczanie
rodowiska naturalnego.
Technologie plazmowe mog przyczyni si do poprawy tej sytuacji
zwaszcza w zakresie ograniczania emisji zanieczyszcze gazowych ge-
nerowanych w procesach energetycznych.
W nastpnym rozdziale omwiono problemy zwizane z czystoci
powietrza atmosferycznego, wody i gleb, gwnych skadnikw rodowi-
ska naturalnego czowieka.
1.2. Problemy zanieczyszczenia rodowiska naturalnego
rodowisko naturalne czowieka jest we wspczesnym wiecie pod-
dawane cigej degradacji. Dotyczy to jego trzech gwnych skadnikw,
tj. powietrza, wody i gleb. Gwatowny rozwj technologiczny rozpoczty
18
u schyku XIX wieku spowodowa, e obecnie wiat boryka si z wielo-
ma problemami, do ktrych zaliczamy:
malejce zasoby naturalne,
zanieczyszczanie powietrza, wody i gleb,
niebezpieczne i radioaktywne odpady,
zmiany klimatyczne i globalne ocieplenie,
kwane deszcze,
okresowe braki ozonu w atmosferze,
smog elektromagnetyczny,
haas.
Tabela 1.1. Problemy rodowiska zjawiska, sprawcy i efekty [1]
Zjawisko Gwni sprawcy Efekty uboczne





Zmiany
klimatyczne
- dwutlenek wgla (CO
2
) pochodz-
cy z procesw energetycznych,
przemysowych i transportu
- metan (CH
4
), z wytwarzania
i uytkowania energii, rolnictwa,
nawozw sztucznych
- tlenek azotu (N
2
O) z uprawy gleb,
spalania biomasy oraz paliw
kopalnych
- chlorofluorokarbony (CFCs)
z dziaalnoci przemysowej,
chodnictwa, produkcji aerozoli
- podnoszenie si poziomu
mrz
- ekstremalne zjawiska kli-
matyczne takie jak: powo-
dzie, susze oraz niespoty-
kanej siy sztormy


Braki ozonu
w atmosferze
- chlorofluorokarbony
- hydrochlorofluorokarbony
(HCFCs)
- bromek metylu, z dziaalnoci
rolniczej i spalenia biomasy
- zwikszona zachorowal-
no na raka
- uszkodzenie ekosystemw
morskich



Kwane
deszcze
- dwutlenek siarki (SO
2
) oraz tlenki
azotu (NO
x
) pochodzce ze spala-
nia paliw kopalnych
- amoniak (NH
3
) z dziaalnoci rol-
niczej
- mier ryb i rolin na sku-
tek przebywania w kwa-
nym rodowisku
- uszkodzenie konstrukcji
i materiaw budowlanych
- atwiejsze przedostawanie
si metali cikich i zwiz-
kw azotu do wd grunto-
wych

19
W tabeli 1.1 przedstawiono efekty uboczne i sprawcw trzech naj-
bardziej spektakularnych patologii rodowiska naturalnego (zmian klima-
tycznych, okresowych brakw ozonu w grnych warstwach atmosfery
i kwanych deszczy) obserwowanych w ostatnich dziesicioleciach wsku-
tek intensywnego rozwoju technologicznego.
Wynikaj one w wikszoci z wytwarzania, dystrybucji oraz wielokrot-
nych konwersji energii. Ponad 2/3 wiatowej energii elektrycznej wytwa-
rza si poprzez spalanie, ktrego produkty i ich emisja do atmosfery s
przyczyn niekorzystnych dla rodowiska zjawisk o lokalnym i global-
nym zasigu.
1.3. Zanieczyszczenia powietrza
Zanieczyszczenie powietrza jest najwikszym problemem rodowi-
ska, bowiem produkty spalania w postaci lotnych zwizkw wgla, siarki,
azotu przenoszone s czsto wraz z wiatrem w odlege od miejsca wytwo-
rzenia regiony. Tam, reagujc z zawart w atmosferze wilgoci, tworz
kwasy i dostaj si wraz z opadami atmosferycznymi do wd powierzch-
niowych, powodujc zakwaszenie rodowiska, uszkadzajc rolinno
i oddziaujc niekorzystnie na zasoby wodne i gleby.
Najwikszy udzia w wytwarzaniu gazowych i staych zanieczysz-
cze powietrza atmosferycznego maj transport, generacja energii,
ogrzewanie i spalanie odpadw, co przedstawiono poniej (w nawiasach
podano procentowy udzia aktywnoci technologicznej w globalnym za-
nieczyszczeniu) [12, 13]:
transport (60%) tlenki azotu, wgla i zwizki siarki oraz zanieczysz-
czenia stae s prekursorami kwanych deszczy, a globalna emisja CO
2

wzrosa w cigu ostatnich 30 lat o ponad 20%,
przemys (16%) jest rdem zanieczyszcze o wielkiej rnorodno-
ci, najwiksze ich iloci generuje przemys metalurgiczny, cementowy
i chemiczny,
20
generacja energii (15%) w latach 90-tych ubiegego wieku procento-
we wykorzystanie rde naturalnych ksztatowao si nastpujco: ro-
pa naftowa 32%, wgiel 26%, gaz naturalny 17%, biomasa 14%,
energia wody 6%, energia jdrowa 5%,
ogrzewanie (6%),
spalanie odpadw (3%).
Ponad 90% wszystkich substancji uwalnianych do atmosfery podczas
wymienionych procesw ma posta gazow.
W Polsce energia pierwotna jest w 78% wytwarzana poprzez spalanie
wgla, w 4% pochodzi ze spalania ropy naftowej a tylko w 8% z innych
rde. Zanieczyszczenie rodowiska produktami spalania paliw konwen-
cjonalnych jest jednym z wikszych w Europie, a wrd krajw regionu
batyckiego zajmujemy niechlubne drugie miejsce po Niemczech.
Substancje zanieczyszczajce powietrze dzielimy na lotne i stae,
oraz organiczne i nieorganiczne. Wyrniamy nastpujce grupy tych
zwizkw:
Zwizki wgla tlenek i dwutlenek wgla (CO, CO
2
), organiczne
zwizki wgla wglowodory. Zwizki wgla odpowiedzialne s za,
wymieniony na wstpie tego rozdziau, efekt cieplarniany. Wytwarza-
nie dwutlenku wgla oraz lotnych substancji organicznych VOC ronie
w szybkim tempie i powoduje dostawanie si do rodowiska olbrzy-
mich iloci wgla, gwnie na skutek spalania paliw staych a w mniej-
szym stopniu w wyniku zuycia ldw i zmniejszenia si powierzchni
lasw (z ang. deforestation). W poowie lat 90 [13] wyemitowano do
rodowiska 9,3 Gt wgla, z czego 5,5 Gt w wyniku procesw spalania
paliw kopalnych oraz 1,6 Gt na skutek kurczenia si powierzchni la-
sw. Organiczne zwizki wgla, zawierajce chlor, jod, brom oraz flu-
or, nie wystpoway w atmosferze w czasach przed-industrialnych i s
gwnym powodem okresowych brakw ozonu w grnych warstwach
atmosfery (ozonosferze), a take globalnego ocieplenia.
21
Zwizki siarki tlenki siarki (SO
x
), siarkowodr (H
2
S), kwasy siarka-
wy i siarkowy (H
2
SO
3
, H
2
SO
4
) nale do gwnych substancji zanie-
czyszczajcych rodowisko. Wytwarzane w procesach spalania paliw
kopalnych i innych zwizkw zawierajcych siark w obecnoci pary
wodnej tworz kwasy, ktre s przyczyn kwanych deszczy. 60% emi-
towanych tlenkw siarki SO
x
jest wynikiem spalania wgla, 14% po-
chodzi ze spalania olejw kopalnianych za 22% wytwarzaj przemys
metalurgiczny i chemiczny [13].
Zwizki azotu tlenki azotu (NO
x
, NO
2
, N
2
O), amoniak (NH
3
). Po-
wstaj zazwyczaj w procesach spalania w wysokiej temperaturze.
Znaczna ich cz (60%) jest wynikiem naturalnego uwalniania si
azotu z mrz i ldw, 15% jest wynikiem spalania paliw kopalnych,
10% spalania biomasy a pozostae 15% pochodzi z uywania nawozw
azotowych.
Zanieczyszczenia stae (tzw. nierozpuszczalne) pyy, sadze, popi
wglowy, smary, wapno, tlenki metali, azbest, zwizki krzemu (SiO
2
),
antymon, cynk, izotopy radioaktywne. Zanieczyszczenia stae mog
mie rne wymiary, od 30 m do 0,01 m i mniejsze. Wiksze cz-
steczki osiadaj szybko na powierzchni ziemi, ale mniejsze dugo za-
trzymuj si w atmosferze, tworzc aerozole [12]. Klasyfikacj zanie-
czyszcze powietrza oraz ich skad chemiczny przedstawiono w tabeli
1.2.
Tabela 1.2. Klasyfikacja zanieczyszcze powietrza
Rodzaj zanieczyszczenia Skad chemiczny
Substancje gazowe organiczne
Hydrokarbony, terpeny, merkaptany,
formaldehydy, dioxyny, fluorokarbony
Substancje gazowe nieorganiczne
Dwutlenek siarki, siarkowodr, tlenki
azotu, kwas solny, trjfluorek krzemu,
tlenek i dwutlenek wgla, amoniak, ozon
Substancje stae organiczne Pyy, sadze, popioy lotne
Substancje stae nieorganiczne
Wapno, tlenki metali, krzem , antymon,
cynk, izotopy radioaktywne i inne

22
Szeroko stosowan technologi usuwania staych zanieczyszcze
powietrza jest elektrofiltracja, wykorzystujca waciwoci elektrosta-
tyczne mikroczstek pyw oraz mechanizmy oddziaywania na nie polem
elektrostatycznym.
1.4. Problemy zanieczyszczenia wody i gleb
Zasoby wody i jej jako maj fundamentalne znaczenie dla ycia na
ziemi oraz wszelkiej aktywnoci. Gwne problemy z jakoci wody
zwizane s z zanieczyszczeniami biologicznymi i chemicznymi. Zanie-
czyszczenia biologiczne to bakterie, wirusy i niektre organizmy wysze-
go rzdu wystpujce w wodzie naturalnie bd bdce efektem dziaal-
noci czowieka. Mog by one rdem chorb i epidemii o znacznym
zasigu.
Zanieczyszczenia chemiczne generowane podczas procesw przemy-
sowych, dziaalnoci rolniczej czy gospodarki gruntami i odpadami maj
posta osadw z substancji toksycznych, nawozw i ciekw i s przy-
czyn zanieczyszczenia gleb.
Obserwujemy wiele przykadw niekorzystnego wpywu technologii
i aktywnoci ludzkiej na jako wody, ktry obejmuje wielkie obszary
i ogromne iloci zbiornikw wodnych. Jednym z takich zjawisk s odpa-
dy przemysowe i komunalne, w tym rwnie toksyczne, ktrych skado-
wanie, unieszkodliwianie i utylizacja powoduj zanieczyszczanie powie-
trza, wd powierzchniowych i podziemnych oraz gruntw.
Gleba i grunty poddawane s take niekorzystnym oddziaywaniom
zwizanym z aktywnoci rolnicz i stosowaniem nawozw sztucznych,
co istotnie przyczynia si do pogorszenia ich biologicznej i chemicznej
jakoci.
Obrbka gleby, w celu usunicia szkodliwych bakterii, grzybw,
pleni oraz zanieczyszcze organicznych i nieorganicznych jest prowa-
dzona metodami fizycznymi (wysoka temperatura, promieniowanie UV,
23
mikrofale, ultradwiki), chemicznymi (chlor, bromek metylu, nadtlenek
wodoru, podchloryn sodu, ozon, brom, jod) oraz biologicznymi (mikroor-
ganizmy i szczepy bakteryjne wytwarzajce enzymy i rodki powierzch-
niowo czynne). Wszystkie metody s w wikszym bd mniejszym stop-
niu stosowane w laboratoriach badawczych i w praktyce. Metody che-
miczne s szkodliwe dla rodowiska i dy si do graniczenia ich stoso-
wania, zwaszcza w krajach wysoko uprzemysowionych, ktre zobowi-
zay si (deklaracja w Montrealu) do zakoczania stosowania bromku
metylu (CH
3
Br), jako substancji do sterylizacji gleby, do 2005 r. Bromek
metylu jest uwaany za substancje odpowiedzialn za dugofalowe efekty
zanieczyszczania rodowiska, w tym za uszkadzanie warstwy ozonowej.
Std potrzeba poszukiwania alternatywnych metod sterylizacji gleby
i zainteresowanie metodami plazmowymi, zwaszcza wytwarzanym pod-
czas wyadowa elektrycznych w powietrzu lub tlenie, ozonem, ktrego
silne waciwoci sterylizacyjne i bakteriobjcze s znane i wykorzysty-
wane od dawna w procesach obrbki wody i ciekw.
Powanym problemem ostatnich stuleci s odpady toksyczne, w tym
poszpitalne. Wiele z tych odpadw jest skadowanych pod ziemi bd
zatapianych. Budowanie nowych wysypisk mieci nie rozwizuje pro-
blemu. Jednym z wielu rozwiza moe by wykorzystanie reaktorw
plazmowych do utylizacji toksycznych odpadw staych. Za pomoc tej
technologii mona take unieszkodliwia zanieczyszczenia gazowe gene-
rowane w procesach spalania odpadw. Badania w tym zakresie prowa-
dzone s na du skal w m. in. w Politechnice dzkiej [1518]. Doty-
cz one utylizacji odpadw staych za pomoc wyadowa ukowych,
ktra prowadzi do termicznego rozkadu frakcji organicznej i stopienia
frakcji nieorganicznej materiau odpadowego, co w procesie chodzenia
powoduje jego witryfikacj (zeszkliwienie). Przykadem takiego procesu
jest utylizacja popiow i odpadw sedymentacyjnych. W temperaturze
plazmy ukowej (okoo 2300 K [18]) nastpuje stopienie popiou, ktry
po schodzeniu uzyskuje struktur szka. Wiele materiaw odpadowych
24
mona podda witryfikacji plazmowej. Nale do nich pozostaoci pro-
cesw spalania (popioy, ule, osady sedymentacyjne), nieorganiczne
odpady niebezpieczne (azbest), przemysowe odpady ciekowe (pozosta-
oci galwaniczne). Do najwaniejszych zalet procesu witryfikacji zalicza
si [1518]:
uwolnienie produktu ze zwizkw organicznych i ich destrukcja,
rozpuszczenie lub zamroenie elementw i zwizkw toksycznych
(metali cikich) w zeszklonym produkcie,
redukcj masy i objtoci w procesie odgazowania i rozpadu tlenkw,
odporno uzyskanego produktu na dziaanie zwizkw organicznych
oraz jego dobre waciwoci fizyczne (twardo, odporno na ciera-
nie i wysokie temperatury).
1.5. Podsumowanie
Postpujcy wzrost zapotrzebowania na energi elektryczn niesie ze
sob rwnie wyzwania dla przemysu elektroenergetycznego, aby rozwi-
ja technologie pozwalajce na sprawn i zgodn z wymogami rodowi-
ska naturalnego generacj energii elektrycznej.
Wspczenie, najwiksze potencjalne moliwoci tkwi w wykorzy-
staniu odnawialnych rde energii, w tym w szczeglnoci energii so-
necznej. Kolejne, to poprawa sprawnoci konwencjonalnych systemw
generacji elektrycznoci, poprzez zastosowanie kogeneracji ciepa
i energii elektrycznej. Wielkie nadzieje pokada si w zastosowaniu
ogniw paliwowych oraz nadprzewodnikowych systemw gromadzenia
energii elektrycznej [19, 20]. Dziki waciwemu wykorzystaniu rno-
rodnych technologii, w szczeglnoci chemicznych i elektromagnetycz-
nych, emisja szkodliwych zwizkw zostaa czciowo zahamowana, ale
wci wiele problemw czeka na rozwizanie a technologie plazmowe
mog przyczyni si do poprawy tej sytuacji.

25
2. TECHNOLOGIE PLAZMOWE
Wykorzystanie technologiczne plazmy zostao zapocztkowane jesz-
cze w dziewitnastym wieku przez braci Simens Wernera i Williama,
ktrzy zbudowali odpowiednio w 1857 r. pierwszy ozonator a w 1878 r.
elektryczny piec ukowy. Niedugo potem, (Nicea 1907 r., San Petersburg
1908 r.), wprowadzono do technologii oczyszczania wody reaktory pla-
zmowe z wyadowaniami barierowymi. W wikszoci krajw wiata ta
technologia wykorzystywana jest do dzisiaj. Zalety ozonu w stosunku do
innych znanych i wykorzystywanych utleniaczy chemicznych, takich jak
chlor czy fluor, sprawiaj, e technologia ozonowania nie ma na razie
alternatywy.
Wspczesne zastosowania plazmy i reaktorw plazmowych dzieli
si na dwie zasadnicze grupy: zastosowania analityczne (spektrometria
analityczna, chemiczna i optyczna) oraz zastosowania technologiczne
(technologie materiaowe, chemiczne, ochrony rodowiska, biotechnolo-
gie). Podstaw podziau zastosowa plazmy dla celw technologicznych
jest jej oddziaywanie na czsteczki gazu, ktrego skutkiem jest zmiana
waciwoci chemicznych, pdu i energii czstek plazmy. Transformacja
waciwoci fizycznych i chemicznych czstek plazmy jest podstaw
technologii chemicznych, takich jak: modyfikacja powierzchni, wytra-
wianie, osadzanie cienkich warstw, wytwarzanie proszkw, generacja
ozonu, plazmowe oczyszczanie gazw i ciekw, termiczna utylizacja
odpadw
i inne. Transformacje pdu i energii czstek plazmy wykorzystuje si
praktycznie do uzyskiwania wizek plazmy dla celw technologii lasero-
wych, napdw rakietowych, do generacji promieniowania oraz w pla-
zmowych rdach wiata.
W praktyce przemysowej metalurgia oraz plazmowe rda wiata
nale do najstarszych, ale wci z powodzeniem stosowanych technolo-
gii plazmowych.
26
Ostatnie dekady dwudziestego wieku to kolejny renesans metod pla-
zmowych i nowe zastosowania dla wykorzystywanych ju wyadowa
elektrycznych, ktre zawsze byy gwnym rdem plazmy dla celw
technologicznych. Nale tu tak wielkie obszary zastosowa, jak: mikro-
elektronika, technologie wytwarzania materiaw pprzewodnikowych,
nadprzewodnikowych, organicznych, bio- i nanomateriaw. Dwudziesty
pierwszy wiek to, zdaniem wielu uczonych, era nowych materiaw
i technologii ich wytwarzania, ktre bazuj obecnie w wikszoci na tech-
nologiach plazmowych i laserowych. Te ostatnie s cile zwizane
z plazm, stanowic czsto medium wzmacniajce wizk laserow
(pompowanie laserw) i s zaliczane wprost do technologii plazmowych.
Plazma nietermiczna, generowana za pomoc wyadowa elektrycz-
nych, jest coraz czciej stosowana w biotechnologiach jako medium
umoliwiajce prowadzenie procesw biochemicznych przy cinieniu
atmosferycznym, w temperaturach otoczenia i bez szkodliwych dla ro-
dowiska odpadw.
2.1. Waciwoci i podzia plazmy
Plazma jest podstawowym stanem skupienia materii wszechwiata.
Gwiazdy, mgawice i materia midzygwiezdna znajduj si w stanie pla-
zmowym i szacuje si, e 99,9% jego masy znajduje si w tym stanie
[20, 21, 22]. W warunkach ziemskich naturalne wystpowanie plazmy
jest stosunkowo rzadkie. Gruba powoka gazowa atmosfery ziemi pocha-
nia znaczn cze promieniowania jonizujcego, natomiast, podobnie jak
inne ciaa niebieskie z atmosfer gazow, nasza planeta posiada ze-
wntrzn zjonizowan (plazmow) powok zwan jonosfer. Innym na-
turalnym rdem powstawania plazmy w warunkach ziemskich s wya-
dowania atmosferyczne.
Zasadnicze znaczenie dla wystpowania plazmy w warunkach ziem-
skich maj wspczenie technologiczne rda plazmy oraz procesy ge-
27
nerujce plazm jako efekt uboczny (badania nuklearne, silniki odrzutowe
i rakietowe, materiay wybuchowe).
Historia bada plazmy siga poowy wieku osiemnastego, jednak po-
jcie plazmy zostao wprowadzone po raz pierwszy przez amerykaskie-
go naukowca lrvinga Langmuira w 1923 roku.
Plazma, zwana czwartym stanem skupienia materii, ze wzgldu na
odmienne od fazy staej, ciekej i gazowej waciwoci, powstaje w tem-
peraturach, w ktrych rednia energia kinetyczna czstek przekracza war-
to potencjau jonizacyjnego. Za granic oddzielajc stan gazowy i pla-
zm uznaje si moment zmiany waciwoci fizycznych gazu, wrd kt-
rych pojawienie si przewodnictwa elektrycznego i towarzyszca temu
utrata zdolnoci izolacyjnych s jednymi z najistotniejszych. Jest to stan
skupienia o najszerszym pamie energii czstek. Elektrony czciowo lub
cakowicie odrywaj si od atomw i poruszaj si niezalenie od po-
wstaych w ten sposb jonw dodatnich. Prby zdefiniowania pojcia
plazmy podejmowane byy przez wielu badaczy. Plazma to przewodzcy
gaz na tyle zjonizowany, e decyduje to o jego waciwociach makro-
skopowych, przy czym jony dodatnie i elektrony wystpuj w takich pro-
porcjach, e wypadkowy adunek jest rwny zeru. Plazma zatem to zjoni-
zowany gaz bdcy kwasi-neutraln mieszanin swobodnych jonw do-
datnich i elektronw, a zakcenia neutralnoci pojawiaj si jedynie
w bardzo maej objtoci plazmy i w krtkich czasach [23, 24].
Stopie jonizacji i skad plazmy s bardzo zrnicowane. W niskich
temperaturach zachodzi proces odrywania pojedynczych elektronw, tzw.
jonizacja jednokrotna. Mwimy wwczas o plazmie czciowo zjonizo-
wanej, w ktrej wystpuje pewna liczba jonw dodatnich, elektronw
i dua liczba niezjonizowanych czsteczek gazu. Wzrost temperatury po-
woduje silniejsz jonizacj gazu, tzw. wzmoon jonizacj jednokrotn
oraz jonizacj wielokrotn polegajc na oddzieleniu wielu elektronw od
atomu. W bardzo wysokich temperaturach zachodzi jonizacja zupena
a plazma staje si mieszanin jonw dodatnich i elektronw bez udziau
28
czstek neutralnych. W gazach wieloczsteczkowych, do prostych proce-
sw jonizacji, dochodzi zjawisko dysocjacji, tj. rozbijania struktur wielo-
czsteczkowych na pojedyncze atomy. Jonizacja pewnych zwizkw
chemicznych w zakresie niskich temperatur w plazmie moe prowadzi
do pojawienia si take jonw o adunku ujemnym.
Plazma wystpuje w bardzo szerokim zakresie energii czstek wyno-
szcym od 0,2 eV do 2 MeV. Stany o jeszcze wyszych energiach s teo-
retycznie przewidywalne i podejmowane s prby ich badania [25]. Pod-
stawow klasyfikacj plazmy w zastosowaniach technologicznych jest
podzia na:
plazm niskotemperaturow, nietermiczn, zwan potocznie zimn
lub plazm wyadowa elektrycznych,
wysokotemperaturow, gorc, wytwarzan podczas syntezy termo-
jdrowej (tzw. fuzji plazmowej).
Plazma gorca wystpuje w zakresie energii powyej kilkunastu eV,
jest zwykle prawie cakowicie zjonizowana, a jej rdem w warunkach
ziemskich s reakcje termojdrowe.
W technice wykorzystuje si przede wszystkim plazm niskotempe-
raturow, ale opanowanie reakcji fuzji termojdrowej i zastosowanie go-
rcej plazmy do wytwarzania energii jest przedmiotem zaawansowanych
bada w laboratoriach europejskich, amerykaskich i japoskich i daje
nadziej na rozwizanie problemw energetycznych wiata.
Przyjmuje si, e plazma zimna wystpuje w zakresie energii od
0,2 eV do 3 eV, co odpowiada w przyblieniu zakresowi temperatur od
2000 K do 30 000 K (l eV = 11600 K). Plazma niskotemperaturowa jest
najczciej gazem zjonizowanym w niewielkim stopniu, o duej lub bar-
dzo duej zawartoci czstek neutralnych. Znaczenie tych czstek, np:
w procesie zderze, jest decydujce dla zachowania si plazmy tego ro-
dzaju.


29
Inna klasyfikacja dzieli plazm na:
niskocinieniow,
wysokocinieniow (termiczn).
Plazma niskocinieniowa wystpujca najczciej przy cinieniu at-
mosferycznym lub niszym (jej przykadami przy cinieniu poniej
100 Pa s: materia midzygwiezdna, jonosfera, rury jarzeniowe; a przy
cinieniu atmosferycznym plazmotrony ukowe specjalnej konstrukcji),
znajduje si w stanie braku rwnowagi termodynamicznej a temperatury
poszczeglnych czstek s rne.
Plazma wysokocinieniowa wystpuje przy cinieniach powyej
100 kPa (wntrze kolumny ukowej, palniki wysokotemperaturowe, mate-
ria soneczna). Jest ona, w wikszoci wymienionych zjawisk i reaktorw,
plazm termiczn, lub w warunkach ziemskich zblion do plazmy ter-
micznej. Wystpuje w niej cakowita rwnowaga termodynamiczna
wszystkich jej skadnikw oraz rwnomierna koncentracja rnych rodza-
jw czstek. Kolejnym wanym kryterium klasyfikacji plazmy jest rw-
nowaga termodynamiczna czstek, ktra oznacza rwn w przyblieniu
energi elektronw, jonw i czstek neutralnych. Mwic o rwnowadze
termodynamicznej plazmy mamy zwykle na myli tzw. rwnowag lo-
kaln. Wyadowania, bdce rdem plazmy w lokalnej rwnowadze
termodynamicznej, charakteryzuj si stosunkowo wysokimi temperatu-
rami i wykorzystywane s tam, gdzie wymagane jest ciepo, a wic przy
ciciu, napylaniu czy topieniu, a w zastosowaniach analitycznych do od-
parowania materiau poddawanego analizie chemicznej. Plazm nierw-
nowagow, natomiast wykorzystujemy tam, gdzie ciepo moe nieko-
rzystnie wpywa na proces technologiczny, a zatem w procesach wytra-
wiania, nanoszenia (depozycji) cienkich warstw materiaw, procesach
plazmo-chemicznych, biotechnologiach, itp. Naley podkreli, e jak-
kolwiek wysokie cinienie oznacza na og plazm termiczn i rwnowa-
gow a niskie nietermiczn i nierwnowagow, to ostatecznym kryterium
przesdzajcym o klasyfikacji plazmy na termiczn i nietermiczn jest
30
iloczyn cinienia, p, i odstpu midzy elektrodami, d. Do takich nieter-
micznych i nierwnowagowych wyadowa nale, zachodzce przy ci-
nieniu atmosferycznym, wyadowania katodowe w mikro-otworach (mi-
kro-geometriach z ang. microhollow cathode discharges) oraz w kapila-
rach, ktre obecnie s przedmiotem zaawansowanych bada w wielu
orodkach naukowych na wiecie [26]. Ide tych wyadowa omwiono
w rozdziale 2.10.
2.2. Plazma nietermiczna warunki generacji i zastosowania
Plazma niskotemperaturowa, zwana rwnie nietermiczn lub "zim-
n", jest stosowana w technologiach ochrony rodowiska i biotechnolo-
giach. Plazma taka jest rwnie nierwnowagowa co oznacza, e energie
elektronw s znacznie wiksze od energii pozostaych jej czstek. Zain-
teresowanie wytwarzaniem i zastosowaniami nietermicznej i nierwno-
wagowej plazmy wci ronie, a gwn tego przyczyn jest moliwo
swobodnego kontrolowania jej parametrw w szerokich granicach,
w zalenoci od zastosowa, poprzez:
skad chemiczny gazu roboczego, ktry decyduje o rodzaju i energiach
aktywnych czstek plazmy (elektronw, atomw, moleku, jonw, rod-
nikw),
cinienie w zakresie od niemal prni do cinienia atmosferycznego;
wysze prowadzi do zmniejszenia drogi swobodnej czstek plazmy
i rwnowagi termodynamicznej,
struktur pola elektromagnetycznego; zewntrznie wzbudzone pole
elektryczne i/lub magnetyczne wykorzystuje si do przyspieszania,
grzania, kompresji i kierowania czstek plazmy,
geometri wyadowania brak lub obecno elektrod, obecno dielek-
tryka, objto przestrzeni wyadowczej wyadowania w maej obj-
toci oznaczaj odejcie od rwnowagi termodynamicznej,
31
parametry ukadu zasilajcego (moc, napicie, czstotliwo, liczba faz,
ksztat napicia zasilajcego, impedancja wewntrzna ukadu zasila-
nia).
W plazmie nietermicznej wikszo energii elektrycznej wykorzy-
stywana jest na wytwarzanie wysokoenergetycznych elektronw, nie za
na podgrzewanie gazu. A zatem, energia plazmy jest kierowana na dyso-
cjacje wywoan zderzeniami z elektronami i jonizacj gazu w celu wy-
produkowania rodnikw, ktre rozkadaj toksyczne czsteczki gazu.
W jzyku potocznym mwimy, e w plazmie nietermicznej elektrony s
gorce, za pozostae czstki plazmy s zimne mog mie tempera-
tur otoczenia i nisz. W wielu zastosowaniach, zwaszcza przy usuwa-
niu bardzo rozcieczonych substancji zanieczyszczajcych powietrze,
technika zastosowania plazmy niskotemperaturowej jest najbardziej od-
powiednia i niezastpiona, ze wzgldu na selektywno energii i moli-
wo usuwania kilku zanieczyszcze powietrza jednoczenie. W innych
zastosowaniach, gdy wystpuj mieszane rodzaje odpadw, wykorzystuje
si plazm termiczn do spalenia cakowitego odpadw, cznie z pojem-
nikiem, a nastpnie plazm niskotemperaturow do oczyszczenia gazw
powstaych w procesie spalania. Dotychczas przebadano wiele typw
reaktorw plazmy niskotemperaturowej wykorzystywanych w procesach
zwizanych z ochron rodowiska. Potencjalne moliwoci tych urzdze
potwierdzono niejednokrotnie przy usuwaniu tlenkw azotu NO
x
, dwu-
tlenku siarki SO
2
z gazw spalinowych, metali cikich i lotnych substan-
cji organicznych powstajcych w procesach malowania, lakierowania
i procesach chemicznych [27].
Jako zjonizowany gaz, czsteczki plazmy atwo wchodz w reakcje
z rnymi substancjami chemicznymi, co pozwala na rozkad zwizkw
toksycznych, modyfikacje struktur polimerowych, niszczenie bakterii
i grzybw oraz wpywanie na ich struktury biologiczne i DNA.
Wrd zastosowa rodowiskowych, najbardziej technologicznie za-
awansowan i stosowan w praktyce jest technologia obrbki wody pit-
32
nej. Niemal od pocztku XX wieku powstaway w Europie (Nicea 1907)
i na wiecie (Los Angeles 1987) stacje obrbki wody, w ktrych szko-
dliwy dla rodowiska chlor by zastpowany ozonem wytwarzanym
w wyadowaniach barierowych. Obecnie na wiecie pracuje ponad 3000
instalacji ozonowania wody pitnej, w ktrych ozonatory wytwarzaj po-
nad 100 kg O
3
/h a moce jednostkowe stacji ozonowania sigaj setek me-
gawatw [28, 29]. W poowie dwudziestego wieku zaczto powszechnie
stosowa ozonowanie wody basenowej.
Inne rodowiskowe zastosowania ozonu generowanego w wyado-
waniach barierowych w powietrzu bd tlenie obejmuj:
sterylizacj powietrza, wody, gleby, powierzchni i opakowa badane
s rne typy wyadowa w powietrzu, nad powierzchni wody i bez-
porednio w wodzie, szczeglnie przy zasilaniu impulsowym; prowa-
dzone s prby usuwania mikrobiologicznych zanieczyszcze papieru,
opakowa z tworzyw sztucznych, redukcji tlenkw azotu z gazw spa-
linowych pochodzcych ze spalania gazu naturalnego, usuwania tlen-
kw azotu (NO
x
), dwutlenku siarki (SO
2
), metali cikich i lotnych
substancji organicznych (VOC) powstajcych w procesach malowania,
lakierowania, spalania odpadw poszpitalnych i w innych procesach
chemicznych [3044],
recykling i usuwanie zanieczyszcze rozkad i spalanie odpadw or-
ganicznych, lotnych i staych, gazw spalinowych z silnikw wysoko-
prnych, zuytych baterii, pytek obwodw drukowanych, za pomoc
plazmy ukowej i kwasi-ukowej [32, 38, 44, 45],
wspomaganie reakcji chemicznych selektywne usuwanie acetylenu
z etylenu, rozkad etylenu, trichloroetylenu, octanu etylu i toluenu, wy-
twarzanie wodoru gazowego i sadzy poprzez rozpad wglowodorw
[46, 47, 48].
Wikszo wymienionych bada jest znacznie zaawansowana, a niektre
z nich zostay ju zastosowane w praktyce.
33
Biologiczne i medyczne zastosowania plazmy niskotemperaturowej
wykorzystuj bakteriobjcze waciwoci wyadowa elektrycznych,
a zwaszcza wytwarzanych podczas tych wyadowa takich zwizkw,
jak ozon (O
3
), tlenek azotu (NO) i nadtlenek wodoru (H
2
O
2
).
Podan cech plazmy w tych zastosowaniach jest brak rwnowagi
termodynamicznej niska temperatura gazu i wysokie energie elektronw
inicjuj reakcje chemiczne, wpywajce na struktury biologiczne i DNA
bakterii, wirusw i grzybw, ale nie niszcz innych (zdrowych i korzyst-
nych dla funkcjonowania) skadnikw czy komrek rodowiska biolo-
gicznego poddawanego obrbce plazmowej.
Badane s rne rodzaje wyadowa elektrycznych przy cinieniu
atmosferycznym, ale szczeglna uwaga powicona jest wyadowaniom
impulsowym energia dostarczana elektronom w bardzo krtkim czasie
(rzdu nanosekund) trwania impulsu, nie podgrzewa otaczajcego me-
dium (gazu, cieczy, komrek) [47, 48, 49].
Aktualnie, zastosowania biologiczne i medyczne obejmuj:
sterylizacj ywych tkanek ludzkich i zwierzcych i wspomaganie le-
czenia zabijanie mikroorganizmw, zwaszcza trudno usuwalnych
przetrwalnikw bakteryjnych, bioodkaanie za pomoc wyadowa
w postaci lizgajcego uku, wyadowa staoprdowych w powietrzu,
mechanizmy oddziaywania plazmy nietermicznej na bakterie, steryli-
zacj niskotemperaturow w plazmie impulsowej; koagulacj i steryli-
zacj ran powierzchniowych, krwi, zastosowania w stomatologii,
wspomaganie leczenia nowotworw skry [42, 4955];
sterylizacj narzdzi medycznych zwaszcza elementw wykonanych
z tworzyw sztucznych nieodpornych na wysok temperatur; wykorzy-
stywana jest plazma impulsowa, mikrofalowa, w rodowisku suchym
i wilgotnym [3740, 56];
pokrywanie implantw i soczewek warstwami biokompatybilnymi
wytwarzanie i biologiczne zastosowania polimerw plazmowych w le-
czeniu i diagnostyce, poprawa waciwoci i biokompatybilnoci cien-
34
kich warstw amorficznych na protezach dentystycznych, powierzchni
tytanu, nanowarstw na soczewkach kontaktowych, osadzanie plazmo-
we kompozytowych, bioaktywnych powok implantw wewntrzkost-
nych [57, 58];
inynieri tkankow plazma wspomaga wytwarzanie czynnikw bio-
aktywnych i lekw, immobilizuje molekuy biologiczne, modyfikuje
powierzchnie w celu regulowania zachowa komrki, poprawia adhe-
zj krwi [57, 5961];
diagnostyk medyczn wytwarzanie biosensorw na bazie polimerw
i cienkich warstw amorficznych do analiz medycznych [62].
Metody plazmowe w biomedycynie, a zwaszcza szeroko ju stoso-
wana w praktyce medycznej ozonoterapia, wykazuj wysok skuteczno,
eliminuj wikszo bakterii, wirusw, grzybw i pleni, aktywizuj dzia-
anie enzymw antyutleniajcych, pobudzaj wytwarzanie biaych krwi-
nek. W oddziaywaniu z ywymi organizmami i tkankami, w bezpiecz-
nych dawkach, nie daj skutkw ubocznych, s bezbolesne, nie wywouj
reakcji alergicznych, a czsto eliminuj konieczno kuracji farmakolo-
gicznej [53, 54, 63].
Prace badawcze dotyczce zastosowa nietermicznej plazmy w tech-
nologiach zwizanych z ochron rodowiska oraz w biotechnologiach
maj na celu, m.in.:
ocen przydatnoci i skutecznoci rnych rodzajw wyadowa elek-
trycznych do wytwarzania plazmy nietermicznej, zwaszcza przy ci-
nieniu atmosferycznym,
usprawnienie procesu generacji elektronw inicjujcych proces usuwa-
nia zanieczyszcze,
osignicie podanego skadu kocowego mieszaniny gazowej i wy-
sokiego stopnia konwersji szkodliwych zwizkw poprzez dodawanie
domieszek i katalizatorw (para wodna, amoniak),
minimalizacj zuycia energii,
dopasowanie rda zasilania elektrycznego do reaktora plazmowego.
35
Ukad zasilania, niezalenie od rodzaju wyadowa elektrycznych
wykorzystywanych do generacji plazmy, przesdza o sprawnoci caego
procesu plazmowego i, w konsekwencji, o moliwoci jego przemyso-
wego zastosowania. Dlatego, w pracy, po przegldzie wyadowa elek-
trycznych sucych do generacji nietermicznej plazmy opisano podsta-
wowe systemy zasilania reaktorw plazmowych w energi elektryczn
(rozdzia 4).
2.3. Wyadowania elektryczne jako rdo plazmy
Plazm dla celw technologicznych wytwarza si za pomoc wya-
dowa elektrycznych, ktre mog wystpowa w rnych formach,
w zalenoci od geometrii elektrod i elektrycznego ukadu zasilania.
W technologiach plazmowych wykorzystuje si zarwno wyadowa-
nia niezupene, nie zwierajce elektrod reaktora plazmowego jak i wya-
dowania zupene, do ktrych zaliczamy wyadowanie ukowe.
Dotychczas przebadano niemal wszystkie rodzaje wyadowa elek-
trycznych jako potencjalne rdo plazmy, poczwszy od wyadowa
w uwarstwionych ukadach dielektrycznych, poprzez wyadowania koro-
nowe w silnie niejednorodnych polach elektrycznych, wyadowania ja-
rzeniowe przy cinieniu atmosferycznym, wyadowania mikrofalowe a na
wyadowaniach kwasi-ukowych i ukowych skoczywszy.
Mechanizmy wyadowania w gazach mona przeledzi na podstawie
charakterystyki prdowo-napiciowej przestrzeni gazowej zawartej mi-
dzy paskimi elektrodami umieszczonymi w odlegoci d, do ktrych
przyoono stae napicie U, wytwarzajc w szczelinie jednorodne pole
elektryczne E (rys. 2.1). Wzrost wartoci przyoonego napicia powodu-
je zmiany redniej wartoci gstoci prdu w ukadzie, wedug krzywej
przedstawionej na rysunku 2.1, w ktrej wyrniamy 3 zakresy: I omo-
wy, gdy prd wzrasta proporcjonalnie do wartoci napicia, II nasycenia
oraz III skokowego wzrostu gstoci prdu, spowodowanego procesami
36
jonizacji zderzeniowej i formowaniem lawin elektronowych. Dla powie-
trza, przy cinieniu 1 bara, wymagana warto pola elektrycznego E
o
,
powodujca nagy wzrost gstoci prdu w III zakresie, wynosi
25 kV/cm.

Rys. 2.1. Gsto prdu wyadowania J w funkcji natenia pola elektrycznego
E w paskim ukadzie elektrod metalowych oddalonych od siebie o d; I zakres
omowy, II zakres nasycenia, III zakres skokowego wzrostu prdu
Analizujc mechanizmy rozwoju wyadowania elektrycznego w gazie
musimy pamita, e pole elektryczne w przestrzeni gazowej oddziauje
tylko na czsteczki uprzednio naadowane jony. Zatem naadowane cz-
steczki gazu musz znajdowa si w przestrzeni wyadowczej zanim do-
czymy do elektrod napicie. W przestrzeni gazowej zawsze wystpuje
pewna liczba swobodnych elektronw emitowanych przez elektrody na
skutek wszechobecnego promieniowania kosmicznego, za maa jednak,
aby przy braku zewntrznego potencjau, podtrzyma wyadowanie elek-
tryczne. Przyoenie zewntrznego potencjau sprawia, e elektrony
w pobliu katody przypieszane s polem elektrycznym i w wyniku zde-
rze z atomami gazu powoduj jego wzbudzanie i jonizacj. Wytworzone
jony uderzajc w katod wyzwalaj z niej elektrony wtrne, ktre daj
pocztek nowym procesom jonizacji i tworzeniu si lawin elektronowych.
Procesy wzbudzania i jonizacji w gazach mog odbywa si w obj-
toci gazu oraz na powierzchniach elektrod jonizacja objtociowa
37
i powierzchniowa. Do procesw jonizacji objtociowej zaliczamy: ter-
mojonizacj, fotojonizacj i jonizacj zderzeniow, za procesy, ktre
zachodz na powierzchni elektrod to termoemisja, fotoemisja, emisja po-
lowa i wtrna emisja elektronowa. Procesy jonizacji zderzeniowej w ob-
jtoci gazu, zwane procesami , i wtrnej emisji elektronowej z po-
wierzchni elektrod, procesy , maj najwikszy udzia w generacji naa-
dowanych czstek (elektronw i jonw), ktre uczestnicz w wyadowa-
niu elektrycznym. Ponadto, na liczb zjonizowanych czstek gazu
w przestrzeni wyadowczej maj wpyw procesy rekombinacji oraz do-
czania i odczania elektronw. Gwatowny wzrost gstoci prdu w III
zakresie charakterystyki przedstawionej na rysunku 2.1 spowodowany
jest procesami jonizacji zderzeniowej i formowaniem lawin elektrono-
wych.
Rozrnia si dwa podstawowe mechanizmy formowania si lawin
elektronowych: strimerowy i Townsenda. Badania wskazuj, e mecha-
nizm strimerowy objania dobrze rozwj wyadowa w gazach przy jed-
norodnym, lub prawie jednorodnym rozkadzie natenia pola elektrycz-
nego. Strimery (cylindryczne strugi prdowe) powstaj, gdy elektrony
pocztkowe wzbudzane polem elektrycznym osigaj krytyczn lokaln
gsto, przy ktrej warto natenia pola elektrycznego, od adunku
przestrzennego E
p
w pobliu czoa pojedynczej lawiny elektronowej,
osiga warto zewntrznego pola elektrycznego E
z
(E
p
= E
z
) Tak znaczne
wartoci pola elektrycznego od adunku przestrzennego mog powstawa
dziki znacznie wikszej ruchliwoci elektronw ni jonw dodatnich.
Rozprzestrzenianie si strimerw jest podtrzymywane lawinami wtrny-
mi, zoonymi z elektronw powstaych w procesie fotojonizacji gazu
midzyelektrodowego. Wzrost strimerw powoduje w efekcie wypenie-
nie przestrzeni midzyelektrodowej plazm nietermiczn. Klasyczne wy-
adowanie Townsenda lub Paschena, jest take form lawiny elektrono-
wej, ale w przeciwiestwie do wyadowania strimerowego, jest podtrzy-
mywane emisj wtrn elektronw z katody. Zatem, wedug mechanizmu
38
strimerowego, wyadowanie elektryczne w gazie skada si z pojedyn-
czych szybkich mikrowyadowa, podczas gdy zgodnie z mechanizmem
Townsenda, wyadowanie skada si z wielkiej liczby nastpujcych po
sobie lawin elektronowych [26, 6567]. Mechanizm Townsenda ma za-
stosowanie wwczas, gdy mamy do czynienia z niszymi wartociami
iloczynu cinienia gazu p i szerokoci szczeliny d, wolniejszymi zmiana-
mi napicia zasilajcego i stosunkowo duymi wspczynnikami emisji
wtrnej . Wyadowanie odbywa si wedug mechanizmu strimerowego
dla wikszych wartoci iloczynu pd, niskich wspczynnikw emisji
wtrnej, , i wyszych napi [67].
Oba mechanizmy powstawania mikrowyadowa obserwowane s
w reaktorach z barier dielektryczn (ozonatorach). Dla niszych napi,
gdy uredniony prd wyadowania jest duo mniejszy od prdu przesu-
nicia, wyadowania mona opisa podobnie jak w ukadzie midzy elek-
trodami metalowymi bez bariery dielektrycznej za pomoc mechanizmu
Townsenda. Intensywne wyadowania, ktrych uredniony prd jest po-
rwnywalny z prdem przesunicia, opisuje si mechanizmem strimero-
wym. Plazma, wytwarzana podczas elektrycznych wyadowa bariero-
wych (zwanych take wyadowaniami cichymi lub niezupenymi), jest
nietermiczna i nierwnowagowa. Elektrony, jony i obojtne czstki gazu
nie s w rwnowadze termodynamicznej a energia elektryczna, ze wzgl-
du na krtki czas trwania mikrowyadowa i ma ruchliwo jonw, do-
starczana jest elektronom. Zatem elektrony s gorce, podczas gdy po-
zostae czstki gazu s zimne. Decyduje to o wysokiej sprawnoci pro-
cesu przekazywania energii na przemiany chemiczne w plazmie nieter-
micznej [27].
W nastpnych rozdziaach omwione zostan rodzaje wyadowa
elektrycznych wykorzystywanych do generacji nietermicznej i nierwno-
wagowej plazmy przy cinieniu atmosferycznym oraz ich mechanizmy
i parametry.
39
2.4. Wyadowania przy napiciu staym DC
Mechanizmy przebicia przestrzeni gazowej przy staym napiciu za-
silajcym s dobrze znane i opisane w bogatej literaturze dotyczcej wy-
adowa elektrycznych [25, 26, 64, 65, 68], dlatego ograniczono si do
przypomnienia podstawowych zjawisk towarzyszcych jonizacji gazu,
zachodzcych w jego objtoci i na powierzchni elektrod, ktre wykorzy-
stywane s w procesach plazmowych. Zderzeniom jonw i elektronw
w przestrzeni midzyelektrodowej i na elektrodach towarzysz procesy
wybijania materiau katody (rozpylania, z ang. sputtering), jego dyfuzji
i osadzania (depozycji) na anodzie (Rys. 2.2).

Rys. 2.2. Zjawiska towarzyszce procesom jonizacji w przestrzeni gazowej mi-
dzy elektrodami metalowymi z argonem jako gazem plazmotwrczym, opraco-
wano na podstawie [68]
Zjawisko rozpylania katodowego wykorzystywane jest w spektro-
chemii analitycznej (spektrometry masowe) oraz w technologiach mate-
riaowych do osadzania cienkich warstw z materiau katody na anodzie
penicej rol podoa (substratu). Podstawowe zjawiska obserwowane
w wyadowaniu jarzeniowym (wietlcym) przy napiciu staym to: zde-
rzenia spryste i niespryste midzy czsteczkami gazu prowadzce do
40
ich wzbudzenia i jonizacji, formowanie lawin elektronowych, przyspie-
szanie jonw polem elektrycznym w kierunku katody, powodujce wybi-
janie z katody elektronw wtrnych oraz materiau katody, dyfuzja mate-
riau katodowego w stron anody i jego osadzanie.

Rys. 2.3. Przestrzenny rozkad potencjau w wyadowaniu jarzeniowym przy
napiciu staym, a) dla maego odstpu katoda-anoda i/lub przy niskim cinieniu;
b) dla wikszych odstpw midzyelektrodowych i/lub wikszych cinie; opra-
cowano na podstawie [68]
Potencja midzy elektrodami wyadowania typu DC jest nierwno-
miernie rozoony a jego prawie cakowity spadek obserwowany jest
w bliskim ssiedztwie katody (rys. 2.3 a). Region w pobliu katody
41
(CDS), charakteryzujcy si silnym polem elektrycznym, zwany jest
ciemni lub powok katodow (z ang. sheath). Najwiksz cz prze-
strzeni wyadowania jarzeniowego typu DC zajmuje tzw. jarzenie ujemne
(NG), napicie ktrego, zwane potencjaem plazmy, jest stae i nieznacz-
nie dodatnie. Po nim nastpuje krtki obszar anodowy (AZ), w ktrym
dodatnie napicie plazmy osiga na anodzie warto rwn zeru. Przy
wikszych odlegociach midzyelektrodowych obserwowane s dwa
dodatkowe regiony w przestrzeni midzyelektrodowej (rys. 2.3 b): ciem-
nia Faradaya (FDS) oraz kolumna dodatnia (PC).
Charakteryzuj si one nieznacznie ujemnym polem elektrycznym
przycigajcym elektrony w kierunku anody. Oba te regiony wystpuj
w wyadowaniu jarzeniowym wykorzystywanym w laserach oraz lam-
pach fluorescencyjnych. Jednake w wikszoci zastosowa plazmy wy-
adowania jarzeniowego, odlego midzyelektrodowa jest niewielka
a rozkad potencjau jest taki, jak to przedstawiono na rysunku 2.3 a. Wy-
adowanie jarzeniowe przy staym wymuszeniu DC moe zachodzi
w szerokim zakresie cinie gazu, od 1 Pa do cinienia atmosferycznego
lub wyszego; napicie pracy wynosi zwykle kilkaset woltw, ale w nie-
ktrych zastosowaniach moe siga kilku kilowoltw, a prd wyadowa-
nia jest rzdu miliamperw. Wyadowania typu DC mog zachodzi
w gazach rzadkich (argon, hel) oraz w gazach reaktywnych (N
2
, O
2
, H
2
,
CH
4
, SiH
4
, SiF
4
) i ich mieszaninach. Szczeglnym rodzajem wyadowa
midzy elektrodami metalowymi s wyadowania koronowe, ktre za-
chodz w ukadach o znacznej niejednorodnoci pola elektrycznego, wy-
nikajcej z geometrii elektrod reaktora.
2.5. Wyadowania koronowe
Wyadowania elektryczne wytwarzane w ukadach o znacznej asyme-
trii pola elektrycznego maj due znaczenie aplikacyjne. Nale do nich
wyadowania koronowe w ukadach ostrze pyta, przewd pyta, zarw-
42
no w symetrii paskiej jak i cylindrycznej. Zalicza si tu take wyadowa-
nia w obecnoci dielektrykw o wysokiej staej dielektrycznej (ferro-
elektrykw) oraz wyadowania zachodzce po powierzchni dielektrykw
staych, zwane wyadowaniami powierzchniowymi. W zalenoci od po-
laryzacji elektrod rozrnia si wyadowania koronowe dodatnie i ujem-
ne. W konfiguracji ostrze - pyta i dodatniej polaryzacji ostrza, wyado-
wanie rozpoczyna si pojedynczym impulsem, ktry w miar wzrostu
napicia przeksztaca si w wyadowanie wstgowe, jarzeniowe i w kocu
iskrowe. Przy przeciwnej polaryzacji ostrza obserwuje si koron ujemn
w postaci impulsw Trichela [26, 27], ktre nastpnie, wraz ze wzrostem
wartoci doprowadzanego napicia, przeksztacaj si w drgania korony
i wyadowanie iskrowe.
Prd wyadowania koronowego jest ograniczony emitowanym przez
plazm adunkiem o jednej polaryzacji gromadzcym si w przestrzeni
midzyelektrodowej. Powoduje to, e wyadowanie koronowe ma dodat-
ni charakterystyk prdowo-napiciow (rezystancyjn) wzrost, nat-
enia prdu wymaga zwikszenia napicia. Jeli prd wyadowania jest
wystarczajco duy, to powstaj dodatkowe noniki prdu, czego wyni-
kiem jest wyadowanie iskrowe. Jest ono zazwyczaj opisywane ujemn
charakterystyk rezystancyjn, ale przejcie od wyadowania koronowego
do wyadowania iskrowego nie jest jednoznacznie okrelone. Najczciej
spotykane geometrie komr wyadowczych reaktorw plazmowych
z wyadowaniami koronowymi (zwanych take koronatorami) przedsta-
wia rysunek 2.4 [69,70].
Aby podtrzyma wyadowanie jarzeniowe przy staym napiciu, obie
elektrody musz by przewodzce. Jeli jedna lub obie elektrody s po-
kryte materiaem nieprzewodzcym (o duej rezystywnoci), lub staj si
nieprzewodzce podczas wyadowania wwczas, na skutek akumulacji
adunkw na elektrodach, nastpuje zgaszenie wyadowania przy staym
napiciu zasilajcym. Dzieje si tak, gdy wyadowanie jarzeniowe wyko-
rzystywane jest w spektrochemii analitycznej materiaw nieprzewodz-
43
cych, a take przy nakadaniu warstw dielektrycznych, bd w elektrofil-
trach, podczas osadzania na elektrodzie zbiorczej drobnych czstek wy-
sokorezystywnego pyu.


Rys. 2.4. Konfiguracje elektrod do generacji wyadowania koronowego, kolejno
od gry drut-cylinder, drut-pyta, iga-iga, iga-pyta, ostrze-ostrze, wnka-
wnka, WN rdo wysokiego napicia; opracowano na podstawie [70]
44
Mona temu zapobiec stosujc impulsowe napicie zasilajce reaktor
plazmowy. Ten typ wyadowa zostanie omwiony w rozdziale 2.7.
Wyadowanie koronowe prdu staego, gdy elektroda niskonapicio-
wa pokryta jest warstw dielektryka o duej rezystywnoci nosi nazw
wyadowania wstecznego (z ang. back corona discharge). Taki typ wya-
dowania jest obserwowany w elektrofiltrach, gdy wysokorezystywny py
osiada na elektrodzie zbiorczej [69, 70]. Prd jonowy nie moe wwczas
przepywa swobodnie w obszarze midzyelektrodowym, poniewa na
powierzchni warstwy dielektrycznej gromadzi si adunek elektryczny.
Powoduje on wzrost natenia pola elektrycznego w obszarze dielektryka
i zmniejszenie pola elektrycznego w przestrzeni midzyelektrodowej.
W skrajnym warunkach moe nastpi przebicie warstwy dielektryka
i powstanie w niej kraterw, z ktrych nastpuje emisja jonw o znaku
przeciwnym do polaryzacji elektrody wysokonapiciowej.
W elektrofiltrach zjawisko wyadowania wstecznego powoduje
zmniejszenie ich skutecznoci, natomiast reaktory z barier dielektryczn
z mikrootworami, w ktrych, w pewnych warunkach, zaczynaj zacho-
dzi wyadowania typu microhollow cathode, bdce w istocie form
wyadowa wstecznych, wydaj si by obiecujcym rdem plazmy
nietermicznej przy cinieniu atmosferycznym (rozdzia 2.10).
Gwne zastosowania plazmy wyadowa koronowych (CDs, z ang.
corona discharges) obejmuj:
oczyszczanie gazw wylotowych;
usuwanie lotnych substancji organicznych emitowanych w procesach
malowania i lakierowania oraz przez przemys chemiczny i petroche-
miczny;
obrbk wody pitnej.
Wyadowanie jarzeniowe, przy napiciu przemiennym AC, mona
uzyska, umieszczajc w przestrzeni midzyelektrodowej dielektryk.
Warstwa dielektryka na jednej lub obu elektrodach pozwala uzyska sta-
bilne wyadowania elektryczne. Do takich wyadowa nale, omwione
45
w dalszej czci pracy, wyadowania czstotliwoci radiowej, przy wy-
muszeniu impulsowym, wyadowania barierowe DBDs, (z ang. dielectric
barrier discharges) i wyadowania jarzeniowe przy cinieniu atmosferycz-
nym APGD (z ang. atmospheric pressure glow discharges).
2.6. Wyadowania czstotliwoci radiowej
Zasilajc ukad paskich elektrod napiciem przemiennym (AC) po-
wodujemy, e kada z nich, w kolejnych pokresach napicia zasilajce-
go, jest na przemian katod i anod, a adunek zgromadzony podczas jed-
nego pokresu napicia jest czciowo neutralizowany adunkiem prze-
ciwnego znaku, gromadzcym si w nastpnym pokresie przy napiciu
o przeciwnej polaryzacji. Reaktory z wyadowaniami RF (z ang. radio
frequency) pracuj przy czstotliwociach napicia sinusoidalnego z za-
kresu od 1 kHz do 1 GHz, a najczciej stosowan czstotliwoci pracy
takich reaktorw jest 13,56 MHz [68]. Ze wzgldu na rne masy jonw
i elektronw ich zachowanie w polu wyadowa czstotliwoci radiowej
jest odmienne. Lekkie elektrony podaj za szybkimi zmianami pola,
poniewa ich czstotliwo charakterystyczna, zwana czstotliwoci
elektronow plazmy f
p
, jest funkcj gstoci elektronw w plazmie i wy-
raa si zalenoci:
e pe
e
e
pe
n f
m
e n
9000 ,
0
2
= =

, (2.1)
w ktrej: n
e
i m
e
odpowiednio, gsto i masa elektronw, e adunek
elektronu,
0
staa dielektryczna prni.
Dla typowych wartoci gstoci elektronw n
e
=10
10
10
13
m
-3
, czsto-
tliwo elektronowa plazmy wynosi od 910
8
do 310
10
Hz i jest znacznie
wiksza od czstotliwoci zmian pola. Cikie jony mog nada jedy-
nie za urednionymi w czasie zmianami pola. Ta dysproporcja mas elek-
46
tronw i jonw jest powodem powstawania w takich wyadowaniach wa-
snego staego napicia polaryzacji (z ang. self-bias lub DC-bias).

Rys. 2.5. Ilustracja powstawania zjawiska polaryzacji (b), na skutek dysproporcji
mas elektronw i jonw w plazmie czstotliwoci radiowej, przy napiciu zasila-
jcym w postaci fali prostoktnej (a), opracowano na podstawie [68]
Na rysunku 2.5 objaniono mechanizm powstawania ujemnego na-
picia polaryzacji w wyadowaniu RF zasilanym napiciem w postaci fali
prostoktnej. Pocztkowo dodatnie napicie przyspiesza lekkie elektrony
i przestrze midzyelektrodowa (kondensator) adowana jest prdem
elektronowym, a napicie plazmy maleje. Po zmianie polaryzacji napicia
zasilajcego adowanie kondensatora odbywa si prdem jonowym,
a powodowany tym procesem spadek napicia plazmy jest znacznie
mniejszy, z uwagi na znacznie wiksz mas jonw ni elektronw.
W kolejnych pokresach napicia przemiennego nastpuje doadowywa-
nie przestrzeni midzyelektrodowej, a do chwili gdy przestrze jest na-
adowana ujemnym adunkiem a, urednione za okres napicia zasilajce-
47
go, strumienie elektronw i jonw w plazmie zrwnowa si. W efekcie
pojawia si midzy elektrodami ujemne napicie polaryzacji o wartoci
kilkuset woltw, w zalenoci od napicia zasilajcego i odstpu elektrod,
ktre przyspiesza jony dodatnie w kierunku katody i moe powodowa
wybijanie z niej materiau (z ang. sputtering). Zjawisko pojawienia si
ujemnego napicia polaryzacji wystpuje take, gdy: elektrody, midzy
ktrymi zachodzi wyadowanie, rni si wymiarami, jeli midzy uka-
dem zasilania czstotliwoci radiowej a elektrodami wczony jest kon-
densator, bd jeli elektrody s nieprzewodzce i ukad dziaa jak kon-
densator.
Wyadowania w ukadach dielektrycznych przy napiciu zasilajcym
o czstotliwoci radiowej nazywa si czsto wyadowaniami pojemno-
ciowo-sprzonymi (z ang. capacitively coupled cc) bd, z powodu
ujemnego napicia polaryzacji, diodami czstotliwoci radiowej (z ang.
RF diodes). Naley zwrci uwag, e czstotliwo napicia zasilajcego
powinna by odpowiednio wysoka, aby w czasie pokresu napicia zasi-
lajcego kondensator nie zdy si w peni naadowa, bowiem tylko
w ten sposb mona uzyska kwasi-ustalone wyadowanie, zamiast serii
krtkich impulsw wyadowczych [68].
Reaktory z wyadowaniami RF, wykorzystywane w procesach ob-
rbki plazmowej do nakadania cienkich warstw, skadaj si zwykle
z elektrod paskich oddalonych od siebie o kilka centymetrw i umiesz-
czonych w prni. Na jednej z elektrod umieszcza si podoe (substrat).
Typowe wartoci napi zasilajcych wynosz od 100 V do 1000 V,
gstoci elektronw s rzdu (10
9
10
11
) cm
-3
za cinienie pracy od 1 Pa
do 100 Pa. W zastosowaniach analitycznych zarwno cinienie jak i g-
stoci elektronw s nieco wysze i wynosz odpowiednio; kilkaset pa-
skali oraz (10
12
10
13
) cm
-3
.
48
2.7. Wyadowania impulsowe
Jeli napicie do przestrzeni wyadowa bdzie dostarczane w postaci
krtkotrwaych impulsw o czasie trwania rzdu kilku mikro- do milise-
kund, wyadowanie midzy elektrodami bdzie nietermiczne, ale moe
zachodzi przy znacznie wyszych impulsach napicia i prdu ni wya-
dowanie jarzeniowe przy wymuszeniu staym DC. Dziki temu zjawiska
wzbudzania i jonizacji, ktre nieliniowo zale od natenia pola elek-
trycznego, s, przy wymuszeniu impulsowym, znacznie bardziej inten-
sywne. Zjawiska w wyadowaniu impulsowym s podobne do tych, jakie
wystpuj w wyadowaniu przy wymuszeniu staym (rozdzia 2.4). Nale-
y je zatem traktowa jako krtkotrwae wyadowanie DC, po ktrym
nastpuje duszy czas bez wyadowania (zwany z ang. afterglow po-
wiat), a do pojawienia si nastpnego impulsu napicia. W krtkim
czasie trwania impulsu napicia, energie elektronw osigaj znacznie
wiksze wartoci (rzdu kilku eV) ni energie pozostaych czstek pla-
zmy (poniej 0,1 eV). Dziki temu, generowana plazma jest chemicznie
aktywna przy niszych mocach dostarczanych ze rda zasilania, ni ma
to miejsce przy zasilaniu napiciem staym.
W zastosowaniach analitycznych wykorzystywane s wyadowania
impulsowe zasilane napiciem o wartoci 2 kV, szerokoci impulsu okoo
10 s i czstotliwoci powtarzania rwnej 200 Hz [68], dajc w wyniku
impulsy prdu o wartoci do 1 A i mocy do 2 kW. Dziki niskiej redniej
mocy wyadowania impulsowego, poddawane analizie prbki gazu nie s
nadmiernie nagrzewane.
W przemyle pprzewodnikowym, wykorzystanie plazmy impulso-
wej w procesach wytrawiania pytek obwodw drukowanych pozwala
zmniejszy niekorzystne oddziaywanie adunku elektrycznego na wytra-
wiane ksztaty.
Zastosowanie impulsowego zasilania pozwala atwiej uzyska wya-
dowanie nietermiczne, ukad zasilania nie wymaga systemu dopasowania
49
falowego, zakcenia elektromagnetyczne s znacznie mniejsze i koszty
instalacji nisze ni reaktorw z wyadowaniami RF. W zastosowaniach
technologicznych reaktory z wyadowaniami impulsowymi pracuj przy
cinieniach rzdu 100 Pa, impulsach napicia o wartoci szczytowej rw-
nej 500 V i czasie trwania do 100 s, a ich wymiary geometryczne mog
by znacznie wiksze ni reaktorw z wyadowaniami typu RF i sigaj
nawet kilka metrw szeciennych [68]. Zapewnia to znacznie wiksz
wydajno czasowo-przestrzenn plazmy ni ta, ktr uzyskuje si w re-
aktorach z wyadowaniami barierowymi i tym samym pozwala poddawa
obrbce plazmochemicznej gazy wylotowe w duej objtoci.
2.8. Wyadowania dielektryczne barierowe DBDs
Wyadowania przy zmiennym wymuszeniu AC i w obecnoci bariery
dielektrycznej s najczciej wykorzystywane w technologiach nieter-
micznej plazmy. Typowe konfiguracje elektrod to ukad paski i cylin-
dryczny (rys. 2.6), w ktrych dielektryk (szko, ceramika, polimer, sub-
stancja porowata), jest umieszczony na elektrodzie wysokonapiciowej,
rzadziej na obu elektrodach, bd midzy nimi, tworzc jedn lub wicej
szczelin (przerw) wyadowczych. Powszechnie wykorzystywanym
w praktyce reaktorem plazmowym z wyadowaniami barierowymi jest
ozonator. Wytwarzany w nim, wskutek wyadowa w powietrzu lub
w tlenie, ozon (O
3
, trjczsteczkowy tlen) znalaz zastosowanie, niemal
od pocztku XX wieku, w procesach obrbki wody pitnej. Reaktory z
wyadowaniami barierowymi dla celw obrbki wody zostan omwione
szerzej w rozdziale 3.

Rys. 2.6. Typowe konfiguracje elektrod reaktora z wyadowaniami barierowymi
50
Dielektryczne wyadowania barierowe wytwarzane s przy stosun-
kowo szerokim zakresie cinie, zwykle w od 0,1 do 1. atmosfery, przy
napiciu przemiennym sigajcym w niektrych zastosowaniach nawet
100 kV i czstotliwoci od kilku hercw do setek kilohercw. Dugo
szczeliny wyadowczej, w zalenoci od zastosowa, moe wynosi od
0,1 mm dla wywietlaczy plazmowych, kilka milimetrw w ozonatorach
i do kilku centymetrw w laserach CO
2
[68]. Bariera dielektryczna jest
w wikszoci reaktorw DBD wykonana ze szka, kwarcu, materiaw
ceramicznych bd polimerw.
Rozrnia si trzy podstawowe konfiguracje elektrod w wyadowa-
niach barierowych, ktre prowadz do: 1) wyadowa objtociowych
(z ang. volume discharges, VD), 2) powierzchniowych (surface dischar-
ges, SD) oraz 3) ko-planarnych (z ang. co-planar discharges). Budowane
s te reaktory, w ktrych wystpuj wszystkie z wymienionych wyej
wyadowa [71, 72].
Na rysunku 2.7, opracowanym na podstawie [73], przedstawiono
warto gstoci objtociowej mocy w kW/m
3
dla wybranych wyado-
wa zachodzcych w obecnoci bariery dielektrycznej. Jak z niego wyni-
ka, najwiksz gsto mocy rzdu 10
4
kW/m
3
mona osign w poje-
dynczym mikrowyadowaniu, natomiast w klasycznym wyadowaniu ba-
rierowym uzyskiwane gstoci mocy s rzdu 10
-3
kW/m
3
, a wic kilka
rzdw mniejsze.

Rys. 2.7. Gsto mocy wybranych wyadowa w obecnoci bariery dielek-
trycznej [73]
51
Zwikszenie gstoci mocy wyadowa jest teoretycznie moliwe
w dwojaki sposb:
przez zastosowanie specjalnych konstrukcji elektrod i dielektrykw,
tak, aby wyadowania zachodziy w bardzo wskich szczelinach wya-
dowczych (10
-1
kW/m
3
), bd w mikro-otworach (10
2
10
3
kW/m
3
),
poprzez zastosowanie impulsowych rde zasilania (10
2
10
3
kW/m
3
).
Odpowiednia geometria elektrod reaktora, rodzaj dielektryka oraz spo-
sb zasilania w energi elektryczn decyduj o parametrach wytwarzanej
plazmy oraz moliwociach i charakterze pracy reaktora.
2.9. Wyadowania jarzeniowe przy cinieniu atmosferycznym
Wikszo procesw plazmowych wykorzystujcych wyadowanie
jarzeniowe pracuje przy cinieniu niskim bd bardzo niskim, co stanowi
istotne ograniczenie w ich przemysowych zastosowaniach. I tak, na
przykad, obrbka plazmowa dugich materiaw (tkanin) byaby niemo-
liwa w wyadowaniu jarzeniowym generowanym przy cinieniu bliskim
prni z powodu nieakceptowalnie wysokich kosztw aparatury, a w nie-
ktrych procesach rwnie z powodu niemoliwoci osignicia w komo-
rze prniowej wymaganego wysokiego cinienia par zwizkw che-
micznych nakadanych na podoe [68]. Ponadto, obrbka powierzchnio-
wa materiaw w przemyle pprzewodnikowym wymaga, aby wyado-
wanie byo jednorodne, bez obecnoci iskier czy uku, czego nie zapew-
niaj klasyczne wyadowania barierowe przy cinieniu atmosferycznym.
Badacze wyadowa jarzeniowych przy cinieniu atmosferycznym,
a wrd nich Prof. Satiko Okazaki z Uniwersytetu Sophia w Tokio
[7479], podali trzy niezbdne warunki, aby w szczelinie wyadowczej
reaktora plazmowego, przy cinieniu atmosferycznym, zachodzio jedno-
rodne wyadowanie jarzeniowe APG (z ang. Atmospheric Pressure
Glow): Nale do nich:
obecno dielektryka pomidzy elektrodami reaktora plazmowego,
52
odpowiedni rodzaj gazu plazmotwrczego hel, argon, neon,
czstotliwo napicia zasilajcego powyej 1000 Hz.
a) b)




Rys. 2.8. Przebieg prdu wyadowania i jego wygld w przestrzeni wyadow-
czej: a) wyadowanie barierowe, b) wyadowanie jarzeniowe [67]
W pracy [67] podano rnic w przebiegu prdu wyadowania dla
wyadowa barierowych i wyadowa jarzeniowych przy cinieniu atmos-
ferycznym. W obrazie wyadowania barierowego (rys. 2.8a) obserwuje
si wyrane wkna (filamenty), a w przebiegu prdu liczne mikro-
impulsy. Natomiast wyadowanie jarzeniowe APG charakteryzuje jedno-
rodna powiata a prd, w kadym pokresie sinusoidalnego napicia za-
silajcego, ma ksztat pojedynczego impulsu (Rys. 2.8b).
Prof. Okazaki, wraz ze swoim zespoem, wykazaa ponadto, e mo-
na uzyska stabilne wyadowanie jarzeniowe przy cinieniu atmosferycz-
nym, w dowolnym gazie (powietrze, tlen, azot, wodr) i przy czstotliwo-
ci technicznej 50 Hz, ale w obecnoci elektrod siatkowych (z ang. mesh
electrode) [78, 79].
Korzyci ze stosowania wyadowa jarzeniowych w procesach plaz-
mo-chemicznych wynikaj z braku koniecznoci zapewnienia prni
w komorze wyadowczej, co pozwala znacznie obniy koszty i zoo-
53
no instalacji. Generowana wyadowaniami jarzeniowymi zimna pla-
zma pozwala poddawa obrbce plazmowej takie, nieodporne na wysokie
temperatury, materiay, jak: guma, tekstylia i biomateriay. Gwne zasto-
sowania wyadowa jarzeniowych to modyfikacja powierzchni materia-
w, sterylizacja, polimeryzacja a take, w mniejszym zakresie, wytwa-
rzanie ozonu. Typow konfiguracj elektrod reaktora, z wyadowaniami
jarzeniowymi generowanymi przy cinieniu atmosferycznym, do zasto-
sowa w procesie polimeryzacji, przedstawia rysunek 2.9 [68]. Obie elek-
trody, odlege od siebie o kilka mm, pokryte s warstw dielektryka i za-
silane wysokim napiciem o wartoci ok. 20 kV i czstotliwoci od 1 do
30 kHz [67, 8084].

Rys. 2.9. Konfiguracja elektrod reaktora z wyadowaniami jarzeniowymi [68]
Odmian wyadowa jarzeniowych s wystpujce w obecnoci ba-
riery dielektrycznej o wysokiej rezystywnoci tzw. wyadowania rezy-
stywne (Rys. 2.10a) [80, 81]. Zamiast materiau dielektrycznego, na jed-
nej z elektrod umieszczona jest pyta o wysokiej, rzdu megaomw, rezy-
stywnoci, ktra zapobiega wyadowaniom iskrowym i ogranicza warto
prdu wyadowania dziki rozproszonemu obcieniu rezystancyjnemu.
Wyadowania rezystywne mog by wytwarzane zarwno przy
wymuszeniu staym, jak i przemiennym o czstotliwoci technicznej.
W atmosferze helu wyadowania rezystywne s jednorodne, wytwarzana
plazma jest przestrzennie homogeniczna, bez obecnoci filamentw, ty-
54
powych dla plazmy wyadowa barierowych, i moe by podtrzymywana
nawet do kilku minut przy dugoci szczeliny wyadowczej do kilku cen-
tymetrw (Rys. 2.10b) [80, 81, 84].

a) b)

Rys. 2.10. Schemat reaktora z wyadowaniem barierowym rezystywnym (a)
i zdjcie wyadowania (b) [80]
2.10. Wyadowania w mikro otworach i kapilarach
Jak wykaza Friedrich Paschen [64, 65, 85], napicie zaponu wya-
dowania samoistnego w gazie U
z
jest funkcj jego cinienia p i odlegoci
midzy elektrodami d, wedug zalenoci: U
z
= f(pd). Na rysunku 2.11
pokazano przebieg krzywej Paschena dla wybranych gazw. Krzywa
Paschena czy punkty, w ktrych jeden elektron pierwotny, wytworzyw-
szy lawin, reprodukuje si sam, czyli stanowi granic obszaru, powyej
ktrego jeden elektron pierwotny wytwarza wicej ni jeden elektron
wtrny, za poniej ktrego rozciga si obszar niewystarczajcej repro-
dukcji.
Wytrzymao dielektryczna gazu na przebicie, zaley od rodzaju
i skadu gazu, materiau elektrod, ale przede wszystkim od iloczynu ci-
nienia gazu i odlegoci midzyelektrodowej. Jak wynika z krzywych
Paschena, generacja wyadowa barierowych w gazach przy cinieniu
atmosferycznym jest moliwa nawet przy niskich napiciach rzdu kilku-
set woltw, w bardzo ograniczonych przestrzeniach (szczelinach), o wy-
miarach od 10 m do 500 m. Wyadowania wystpujce w tak ograni-
czonych przestrzeniach przy cinieniu atmosferycznym dzieli si na: ka-
todowe wnkowe (z ang. hollow cathode, HC), mikro-katodowe wnko-
55
we (z ang. microhollow cathode, MHC) i kapilarne (z ang. capilary pla-
sma electrode, CPE).
Idea budowy elektrod rektora z wyadowaniami mikro-katodowymi
wnkowymi MHC jest przedstawiona na rysunku 2. 12. Przebieg wya-
dowania w takiej konfiguracji elektrod jest nastpujcy:
w pocztkowej fazie, dla niewielkich prdw, powstaje wstpne wyado-
wanie jarzeniowe, w ktrym region katodowego spadku napicia znajduje
si w znacznym oddaleniu od katody.

Rys. 2.11. Przebieg krzywych Paschena dla powietrza, argonu i neonu
Wraz ze wzrostem wartoci prdu wyadowania, region dodatniego
adunku przestrzennego przesuwa si w stron katody i wchodzi do wn-
trza otworu. W ten sposb w otworze katody powstaje dodatnia kolumna
adunku przestrzennego, oddzielonego dwiema warstwami przy-
katodowymi, ktry staje si tzw. wirtualn anod. Rozkad pola elek-
trycznego we wntrzu otworu katody ulega zmianie, z pocztkowo osio-
wego (wzdu dugoci otworu), do promieniowego (wzdu rednicy D
otworu) i tworzy studni potencjau, ktra generuje si przyspieszajc
elektrony wzdu promienia i moe prowadzi, przy pewnej wartoci pr-
du wyadowania, do ruchu oscylacyjnego elektronw wewntrz otworu,
tworzc tzw. wahado elektronowe [87].
56
Na rysunku 2.13 przedstawiono charakterystyk prdowo-napiciow
wyadowania typu MHC w neonie przy cinieniu 380 mmHg [87]. Jak
wida, w podanych warunkach, wyadowanie mikrokatodowe jest obser-
wowane dla prdu wyadowania powyej 1 mA i charakteryzuje si
ujemn charakterystyk prdowo-napiciow przyrost wartoci prdu
powoduje spadek wartoci napicia niezbdnego do podtrzymania wya-
dowania.

Rys. 2.12. Szkic elektrod reaktora z wyadowaniami w mikro-otworach w kato-
dzie, typu MHC

Rys. 2.13. Zaleno prdu od napicia wyadowania typu MHC [87]
Typowe warunki w jakich mog wystpi wyadowania MHC
i parametry reaktora to:
rednica otworu w katodzie, D = 100 m
odstp midzy elektrodami d = 200 m
57
odstp midzy katod a wirtualn anod 10 m
energia elektronw >10 eV
gsto elektronw 510
12
cm
-3

temperatura gazu 2000 K.
Na rysunku 2.14 przedstawiono konfiguracje elektrod, przy ktrych mo-
liwe jest uzyskanie kapilarnych wyadowa elektrycznych.


Rys. 2.14. Elektrody reaktorw z dielektrykiem z kapilarami [81]
Podczas wyadowa kapilarnych, podobnie do wyadowa katodowych,
obserwowane s dwa podstawowe rodzaje generowanej plazmy, w zale-
noci od rodzaju dielektryka, geometrii elektrod, natenia pola elek-
trycznego, a przede wszystkim od czstotliwoci rda zasilajcego. Na-
picie zaponu wyadowa kapilarnych zawiera si w granicach od 140 V
do 300 V, w zalenoci od rodzaju gazu. Wyadowania w mikro-otworach
s dobrym rdem promieniowania ultrafioletowego UV.
W wyadowaniach barierowych, obecno dielektryka z cylindrycz-
nymi otworami, zwanymi kapilarami, moe znacznie zwikszy efektyw-
no generacji plazmy i wzrost gstoci elektronw. Jak podano w pracy
[81], stosunek dugoci kapilary do jej rednicy powinien wynosi co
najmniej 10/1. Po przekroczeniu przez moc wejciow pewnej krytycznej
wartoci (rysunek 2.15), nastpuje w takim reaktorze przeczenie
z trybu pracy, w ktrym wytwarzana jest typowa plazma jarzeniowa przy
cinieniu atmosferycznym, opisana w rozdziale 2.9, na tryb pracy zwany
plasma-jet. Wok otworw kapilar pojawiaj si nagle intensywnie
wiecce obszary, bdce rdem strumienia elektronw o wysokiej g-
58
stoci, ktre w miar wzrostu mocy ze rda zasilajcego zlewaj si
ze sob, tworzc jednorodne wyadowanie jarzeniowe. Parametry wya-
dowa kapilarnych zale od stosunku rednicy kapilary do jej dugoci
oraz od czstotliwoci rda zasilajcego, i wynosz [81]:
maksymalny prd wyadowania do 2 A, przy gstoci prdu 80 mA/cm
2

gsto elektronw w trybie plasma-jet 10
12
cm
-3

rednia energia elektronw 56 eV
gsto mocy od 1.5 W/cm
3
w helu do nawet 20 W/cm
3
w powietrzu.



Rys. 2.15. Gsto elektronw w funkcji mocy wejciowej w wyadowaniu kapi-
larnym; opracowano na podstawie [81]
Wyadowania kapilarne mog by wytwarzane przy cinieniu atmosfe-
rycznym w niemal wszystkich rodzajach i mieszaninach gazw, takich
jak: Ne, Ar, He-N
2
, He-powietrze, He-H
2
O, N
2
-H
2
O, powietrze-H
2
O.
2.11. Wyadowania mikrofalowe
Wyadowania mikrofalowe (zwane indukcyjnymi) powstaj na sku-
tek wprowadzenia do gazu energii elektrycznej za pomoc pola elektro-
magnetycznego o wysokiej czstotliwoci w zakresie od 300 MHz do
10 GHz. Plazma wyadowa mikrofalowych, moe by indukowana
59
w reaktorach plazmowych o rnych konstrukcjach. Zwykle s to urz-
dzenia bezelektrodowe, pracujce przy cinieniach od 0,1 Pa do kilku
atmosfer, w gazach szlachetnych i molekularnych. Najbardziej rozpo-
wszechnione s plazmotrony indukcyjne, w ktrych jonizacja strumienia
gazu nastpuje na skutek jego przepywu wewntrz cewki wzbudzajcej
o wysokiej czstotliwoci. Konstruowane s take plazmotrony pojemno-
ciowe, mikrofalowe palniki plazmowe (z ang. plasma torch), oraz gene-
ratory wnkowe. Moce budowanych reaktorw mikrofalowych zawieraj
si w zakresie od kilku watw do setek kilowatw. Ich gwne zastoso-
wania zwizane s z obrbk ciepln we wspczesnej elektrometalurgii,
bowiem plazma mikrofalowa ma takie zalety jak: bardzo wysoka tempe-
ratura, duy stopie czystoci orodka grzejnego i swoboda w doborze
atmosfery gazowej [88, 108].
2.12. Wyadowania ukowe
Wyadowanie ukowe zachodzi w szerokim zakresie cinie, od
0,1 Pa do 10 MPa. Jego cech charakterystyczn jest relatywnie niski
spadek potencjau na elektrodach zwykle poniej 100 V, wysoka g-
sto natenia prdu (110
4
) A/cm
2
i znaczna intensywno wiecenia
kolumny ukowej. Charakterystyka prdowo-napiciowa wyadowania
ukowego, przy cinieniu atmosferycznym ma 3 podstawowe zakresy
(rys. 2.16):
zakres I, w ktrym niestabilne wyadowanie iskrowe przechodzi w nie-
stabilne wyadowanie ukowe
zakres II, w ktrym wyadowanie ukowe jest w stanie nierwnowagi
termodynamicznej. Gsto elektronw w tym zakresie wynosi
(10
19
10
21
) m
-3
, energia elektronw (0,22) eV, rednia energia gazu
(0,0250,5) eV oraz natenie prdu (150) A,
zakres III wyadowanie ukowe jest w stanie rwnowagi termodyna-
micznej. Wg Rotha [2] gsto elektronw w tym stanie wynosi
60
(10
22
10
25
) cm
-3
, energia elektronw i czsteczek gazu (110) eV, za
natenie prdu (501000) A.
Na rys. 2.16 pokazano rwnie zakresy prdw i napi dla innych
ni ukowe wyadowa elektrycznych, ktre wykorzystuje si do wytwa-
rzania plazmy nietermicznej.
uk elektryczny poncy stabilnie midzy elektrodami reaktora pla-
zmowego jest rdem plazmy nietermicznej bdcej w stanie rwnowagi
termodynamicznej i w tej postaci jego zastosowanie w technologiach
zwizanych z oczyszczaniem gazw jest ograniczone do spalania ter-
micznego.

Rys. 2.16. Charakterystyka prdowo napiciowa wyadowania elektrycznego
w powietrzu, ze szczeglnym uwzgldnieniem wyadowania ukowego [2, 26]
Prby zastosowania uku elektrycznego w technologiach zwizanych
z ochron rodowiska ograniczaj si do spalania odpadw staych. Przy
unieszkodliwianiu gazw przemysowych (np. gazy wylotowe elektrowni
61
lub elektrociepowni), uk elektryczny jest mao przydatny, bowiem wy-
twarzana nim plazma nie jest w stanie skutecznie spenetrowa przestrzeni
wypenionej zanieczyszczonym powietrzem, w sposb umoliwiajcy
usunicie zawartych w nim zanieczyszcze.
Z punktu widzenia zastosowa uku w ochronie rodowiska interesu-
jcym jest wyadowanie ukowe w fazie nierwnowagowej (zakres II na
rysunku 2.16). Przykadem takiego wyadowania moe by lizgajce si
wyadowanie ukowe, znane w literaturze wiatowej pod nazw lizgajcy
si uk (gliding arc), w ktrym wyadowanie przemieszcza si wzdu
elektrod wyadowczych ruchem lizgowym, zmieniajc istotnie swoje
waciwoci fizyczne a mianowicie: od charakterystycznych dla plazmy
znajdujcej si w stanie rwnowagi termodynamicznej do typowych dla
plazmy nierwnowagowej [4, 5, 123127]. Reaktory plazmy nietermicz-
nej ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym, mog by budowane
jako dwu-, trzy- i wieloelektrodowe. Charakteryzuj si prost budow,
niewielkimi wymaganiami w stosunku do ukadu zasilania, mog praco-
wa z praktycznie wszystkimi rodzajami gazw i ich mieszanin, reaktyw-
nych i niereaktywnych, suchych i zawierajcych pary cieczy. Reaktory
plazmy lizgajcego si wyadowania ukowego przedstawiono w roz-
dziale 3.3.
2.13. Podsumowanie
Plazm nietermiczn i nierwnowagow generuje si za pomoc wy-
adowa elektrycznych, przy czym niemal kady rodzaj wyadowania
moe by wykorzystywany do wytwarzania plazmy o wymaganych przez
proces plazmowy parametrach. Generacja zimnej plazmy w warunkach
prni bd wysokiego podcinienia nie nastrcza istotnych trudnoci,
nawet w komorach wyadowczych o duej objtoci, ale wytworzenie
takiej prni jest drogie i wymaga specjalnych konstrukcji reaktorw pla-
zmowych. Std potrzeba poszukiwania reaktorw, w ktrych zimn nie-
62
rwnowagow plazm mona generowa w warunkach cinienia atmosfe-
rycznego.
Z przedstawionego w rozdziale 2 przegldu wynika, e obiecujcym
rdem plazmy, dla zastosowa na skal przemysow, s wyadowania
w obecnoci bariery dielektrycznej zasilane energi impulsow, matryce
reaktorw z wyadowaniami typu MHC oraz lizgajce si wyadowanie
ukowe w ukadach wieloelektrodowych. Tym reaktorom i ich ukadom
zasilania powiecone s nastpne rozdziay.
63
3. REAKTORY PLAZMY NIETERMICZNEJ
Gwne cechy technologii plazmowych w zastosowaniach zwiza-
nych z oczyszczaniem gazw wylotowych to: bezodpadowo, moli-
wo prowadzenia procesw oczyszczania gazw w duej objtoci przy
cinieniu atmosferycznym, selektywno energii, potencjalnie duy ob-
szar zastosowa. W tablicy 3.1 przedstawiono wybrane typy reaktorw
plazmowych, ich gwne zastosowania oraz sposoby ich zasilania
w energi elektryczn.
Tablica 3.1. Reaktory plazmowe i ich zastosowania
Rodzaj reaktor plazmowego Zastosowania Sposb zasilania
Reaktory z wyadowaniami
barierowymi DBDs.
Synteza ozonu, konwer-
sja metanu.
Napicie przemienne cz-
stotliwoci sieciowej
i podwyszonej.
Reaktory z upakowaniem
dielektrycznym bad packed.
Rozkad SO
x
i NO
x
,
konwersja hydrokarbo-
nw.
Napicie stae, impulsowe
oraz przemienne.
Reaktory koronowe. Filtracja pyw, wytwa-
rzanie ozonu.
Napicie impulsowe, stae.
Reaktory z mikrowyadowa-
niami hollow cathode
discharges.
Sterylizacja, obrbka
materiaw organicz-
nych.
Napicie impulsowe, wy-
soka czstotliwo.
Reaktory z wyadowaniami
powierzchniowymi
co-planar.
Unieszkodliwianie tlen-
kw azotu, lotnych sub-
stancji organicznych.
Napicie sinusoidalne
podwyszonej i wysokiej
czstotliwoci.
Reaktory ukowe
(plazmotrony).
Syntezy chemiczne,
topienie, spawanie, ob-
rbka powierzchniowa.
Napicie stae, jednokie-
runkowe, napicie sinuso-
idalne czstotliwoci sie-
ciowej.
Reaktory quasi-ukowe (ze
lizgajcym si ukiem).
Neutralizacja toksycz-
nych gazw, unieszko-
dliwianie SO
x
i NO
x
.
Napicie stae, impulsowe
oraz przemienne.
Reaktory mikrofalowe. Usuwanie lotnych sub-
stancji organicznych
VOC.
Napicie o czstotliwoci
rzdu mega i giga hercw.

Niezalenie od rodzaju wyadowa wykorzystywanych do generacji
plazmy, reaktory plazmy nietermicznej dla zastosowa przemysowych,
czy wiele cech wsplnych. S to na og urzdzenia o duej mocy, wy-
64
magajce zasilania energi elektryczn o wysokim napiciu od kilku do
kilkunastu kilowoltw i czstotliwoci sieciowej lub podwyszonej.
Ukady zasilania reaktorw plazmowych, stanowice zawsze nieodczn
cz systemu generacji plazmy, aby speni wymagania tych bardzo nie-
typowych odbiornikw energii elektrycznej, wymagaj specjalnych me-
tod projektowania i konstrukcji.
Reaktory plazmowe, w ktrych plazma wytwarzana jest za pomoc
wyadowa elektrycznych w gazie s urzdzeniami technologicznymi,
bowiem plazmy nie mona przechowywa ani transportowa i musimy j
wytwarza w miejscu, gdzie jest wykorzystywana w procesie technolo-
gicznym. W dalszej czci omwiono dwa rodzaje reaktorw nietermicz-
nej plazmy:
z wyadowaniami barierowymi (ozonatory),
ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym (reaktory typu gliding
arc).
Taki wybr wynika z kilku powodw: oba rodzaje wyadowa elektrycz-
nych wytwarzaj nietermiczn plazm przy cinieniu atmosferycznym,
konstrukcja reaktorw jest dobrze opracowana i stosunkowo prosta, po-
tencjalny obszar zastosowa duy, zwaszcza w procesach ochrony ro-
dowiska i w rozwijanych obecnie biotechnologiach, oba reaktory mog
by zasilane z podobnych rde wykorzystujcych waciwoci nielinio-
wych obwodw magnetycznych transformatorw i w kocu, oba rodzaje
reaktorw plazmowych i ich ukady zasilania s przedmiotem bada pro-
wadzonych przez autork monografii i kierowany przez ni zesp
[3, 6, 8890, 94105]
3.1. Reaktory z wyadowaniami barierowymi ozonatory
Terminu ozonator uywa si zarwno do okrelenia urzdzenia do
wytwarzania ozonu, jak rwnie do elementu wyadowczego, w ktrym
w wyadowaniach dielektrycznych barierowych odbywa si waciwy
65
proces syntezy ozonu. Ozonator jako urzdzenie do produkcji ozonu, to
zesp kilku elementw, takich jak: zasilacz, elementy wyadowcze, uka-
dy przygotowania i dostarczania powietrza bd tlenu, ukady zabezpie-
cze [82, 91, 93].
Zastosowanie ozonu, wytwarzanego podczas wyadowa bariero-
wych w powietrzu i tlenie do obrbki wody pitnej, jest najbardziej tech-
nologicznie zaawansowanym i stosowanym powszechnie w praktyce pro-
cesem plazmowym. W wikszoci wysoko uprzemysowionych krajw na
wiecie cakowicie zaniechano lub istotnie ograniczono stosowanie chlo-
ru, fluoru, etylenu, bromku metylu i innych zwizkw chemicznych
o waciwociach utleniajcych i bakteriobjczych.
Aktualnie, obok procesw obrbki wody i ciekw, rozwijane s tak-
e inne zastosowania plazmy wyadowa barierowych, ktre obejmuj
zagadnienia zwizane z ochron rodowiska oraz zastosowania biologicz-
ne i medyczne. W wikszoci omawianych zastosowa wykorzystuje si
szczeglne waciwoci wytwarzanego podczas wyadowa ozonu, do
ktrych nale:
kilka tysicy razy wiksza zdolno do usuwania bakterii, grzybw,
pleni i przetrwalnikw drody od konwencjonalnych zwizkw che-
micznych typu chlor, fluor czy brom, w znacznie krtszym czasie
i mniejszych dawkach;
neutralizacja pH oraz poprawa koloru i smaku wody;
biologiczny rozkad substancji organicznych;
strcanie metali cikich oraz usuwanie nadmiaru elaza, manganu
i siarki, dziki, inicjowanemu przez ozon, procesowi mikroflokulacji;
brak ubocznych produktw rozpadu ozonu i krtki czas jego poowicz-
nego rozpadu na tlen czsteczkowy;
wytwarzanie ozonu w miejscu, w ktrym jest stosowany, co wyklucza
konieczno transportu.
Wymienione waciwoci ozonu sprawiaj, ze jego zakres zastoso-
wa wci si rozszerza. Obecnie, obok obrbki wody pitnej, wykorzy-
66
stuje si ozon i plazm wyadowa elektrycznych w procesach sterylizacji
powietrza, wody, gleby, powierzchni i opakowa, redukcji tlenkw azotu
z gazw spalinowych pochodzcych ze spalania gazu naturalnego, usu-
wania tlenkw azotu (NO
x
) dwutlenku siarki (SO
2
), metali cikich i lot-
nych substancji organicznych (VOC), powstajcych w procesach malo-
wania, lakierowania, spalania odpadw poszpitalnych i w innych proce-
sach chemicznych.
3.1.1. Proces syntezy ozonu w wyadowaniach barierowych
Proces formowania ozonu w reaktorze z wyadowaniami barierowymi
mona podzieli na 3 zasadnicze etapy (Tablica 3.2):
Tablica 3.2 Etapy procesu syntezy ozonu w wyadowaniach barierowych
Zjawisko Rozbijanie Rekombinacja Dyfuzja

Reakcja chemicz-
na
e + O
2
= 2 O
e + N
2
= 2 N
O + O
2
= O
3

N + O
x
= NO
x


O
3

czas trwania 10
-9
s 10
-6
s 10
-3
s
Rozbijanie (jonizacja i dysocjacja), w ktrym po przekroczeniu przez
napicie zasilajce wartoci zaponu wyadowania, nastpuj bardzo
szybkie procesy jonizacji, generujce noniki adunkw, niezbdne do
przepywu prdu, ktrymi w czystym tlenu s elektrony oraz dodatnie
i ujemne jony tlenu, natomiast w powietrzu, take jony azotu. Jedno-
czenie, elektrony odpowiedzialne za przepyw prdu w mikrowyado-
waniu powoduj dysocjacj czstek tlenu i azotu, zgodnie z reakcjami
podanymi w tablicy 3.2. Procesy jonizacji i dysocjacji, nalece do
pierwszego etapu cyklu syntezy ozonu, s bardzo szybkie
i nie trwaj duej ni czas pojedynczego impulsu prdu, tj. kilka nano-
sekund.
Rekombinacja, znacznie wolniejszy etap (rzdu kilku mikrosekund),
w ktrym nastpuje formowanie czstek ozonu. Gdyby wszystkie ato-
67
my tlenu, wytworzone w pierwszym etapie procesu, wziy udzia
w formowaniu ozonu, to sprawno jego generacji byaby najwiksza.
Badania wykazuj, e jest to moliwe tylko dla bardzo sabych mikro-
wyadowa [83, 86, 93, 106]. Podczas silniejszych wyadowa i wik-
szych energii dostarczanych do przestrzeni wyadowa, zaczynaj za-
chodzi dodatkowe reakcje, w wyniku ktrych atomy tlenu mog -
czy si w tlen dwuczsteczkowy, oraz czstki ozonu reaguj
z atomami tlenu. Istnieje zatem pewna optymalna warto intensywno-
ci wyadowa, zapewniajca maksymaln sprawno procesu syntezy
ozonu.
Dyfuzja, ostatni etap cyklu, w ktrym czstki ozonu opuszczaj szcze-
lin wyadowcz. Ten etap trwa milisekundy i przesdza o czasie trwa-
nia caego cyklu. Nastpny impuls energii powinien pojawi si dopie-
ro po zakoczeniu tego etapu, w przeciwnym razie, cz uformowa-
nych w poprzednim etapie czstek ozonu ulegnie destrukcji i spraw-
no procesu syntezy ozonu w wyadowaniach barierowych zmaleje.

Rys. 3.1. Teoretyczny przebieg napicia zasilajcego zapewniajcy realizacj
cyklu procesu syntezy ozonu, T
i
czas trwania pojedynczego impulsu, T
c
czas
trwania cyklu, f wymagana czstotliwo impulsw
Dla tak scharakteryzowanego cyklu procesu syntezy ozonu w wya-
dowaniu barierowym, teoretyczny przebieg impulsu napicia zapewniaj-
cy jego realizacj przy maksymalnej sprawnoci, przedstawiono na ry-
sunku 3.1. Czas etapu dyfuzji, rzdu milisekund, przesdza o czasie trwa-
68
nia pojedynczego cyklu syntezy ozonu i pozwala oszacowa czstotli-
wo napicia zasilajcego w granicach (501000) Hz.
3.1.2. Reaktor z wyadowaniami barierowymi jako odbiornik
energii elektrycznej
Reaktor z wyadowaniami barierowymi, jako odbiornik energii elek-
trycznej, stanowi obcienie pojemnociowo-rezystancyjne ze zmienn
pojemnoci. Zmiana pojemnoci wynika std, e podczas fazy wyado-
wa, gdy szczelina gazowa przewodzi, o pojemnoci ukadu decyduje
warto pojemnoci C
d
dielektryka staego. Podczas przerw w wyadowa-
niach, pojemno elementu wyadowczego okrelona jest zastpcz po-
jemnoci szeregowo poczonych: warstwy dielektryka C
d
i nieprzewo-
dzcej gazowej przestrzeni wyadowczej C
sz
. Zatem, jeeli w reaktorze
nie zachodz wyadowania, to odwzorowujemy go za pomoc uwarstwio-
nego kondensatora rzeczywistego (Rys. 3.2).

Rys. 3.2. Schemat zastpczy elementu wyadowczego bez wyadowa w szcze-
linie gazowej
Przy zasilaniu napiciem przemiennym, rozkad napi w ukadzie
z rysunku 3.2 podyktowany jest pojemnociowym prdem przesunicia.
Wwczas mona pomin w schemacie rezystancj modelujc prd
upywu dielektryka. Gdy napicie na szczelinie wyadowczej przekroczy
warto niezbdn do zaponu wyadowa, gaz zostaje zjonizowany
i szczelina powietrzna traci swe waciwoci izolacyjne. Na prd przesu-
nicia nakada si prd przewodzenia i schemat zastpczy reaktora z wy-
adowaniami barierowymi wymaga uzupenie. W wielu rozwaaniach
69
przyjmuje si, e szczelina powietrzna podczas wyadowa jest zwierana,
co odpowiada zaoeniu, e napicie zaponu wyadowa U
z
i napicie
ganicia U
g
s sobie rwne. Nie jest to zgodne z wynikami dowiadcze.
W rzeczywistoci, napicie ganicia stanowi od (0,60,9) U
z
i zaley od
skadu chemicznego gazu zawartego w szczelinie, jego cinienia, rezy-
stywnoci powierzchni elektrod i ich wymiarw [89, 107, 108]. Blisze
wynikom dowiadczenia jest zaoenie, e napicie na szczelinie jest stae
i rwne napiciu zaponu U
z
, co potwierdzaj liczne badania [93, 107].
Mimo e proces zaponu i ganicia wyadowa jest nieustannie powta-
rzany w rnych miejscach szczeliny i w rnym czasie, to nawet podczas
intensywnych wyadowa uredniona warto napicia na szczelinie wy-
adowczej jest staa [86, 93]. Takie zaoenie stao si podstaw jednego
z najczciej stosowanych w praktyce schematw zastpczych reaktora
z wyadowaniami barierowymi w ktrym, rwnolegle do pojemnoci mo-
delujcej szczelin wyadowcz, wcza si idealne rda napicia
o zmiennej biegunowoci i sile elektromotorycznej rwnej napiciu za-
ponu wyadowa [107].



Rys. 3.3. Schemat zastpczy reaktora z wyadowaniami barierowymi (a), oraz
charakterystyka prdowo napiciowa nieliniowej konduktancji G
n
(b)
W pracy [101] zaproponowano schemat zastpczy reaktora z wya-
dowaniami barierowymi, przedstawiony na rysunku 3.3 w ktrym, rw-
a) b)
70
nolegle do kondensatora modelujcego pojemno przestrzeni wyadow-
czej, wczono nieliniow konduktancj o charakterystyce prdowo-
napiciowej i
n
= f(u
sz
), odwzorowujcej zmiany przewodnoci szczeliny
wyadowczej przed i podczas wyadowa. Mona take przyj, e zale-
no prdu od napicia ma ksztat charakterystyki przekanikowej (linia
przerywana na rys. 3.3), co odpowiada zaoeniu staego, rwnego U
z
,
napicia na szczelinie podczas wyadowa. Korzystajc z zaproponowa-
nego schematu zastpczego, przeprowadzono symulacj pracy elementu
wyadowczego, zasilanego ze rda napicia sinusoidalnego, w progra-
mie analizy obwodw elektrycznych MicroCap3, ktrej wyniki przedsta-
wiono na rysunku 3. 4.

Rys. 3.4. Przebiegi chwilowych wartoci napicia rda u, napicia na szczeli-
nie wyadowczej u
sz
i prdu reaktora i
oz
, uzyskane na drodze symulacji nume-
rycznej, z wykorzystaniem schematu zastpczego z rysunku 3.3 [101]
Wyniki symulacji i ich porwnanie z wynikami pomiarw wskazuj,
e zaproponowany schemat zastpczy reaktora plazmowego z wyadowa-
71
niami barierowymi, przedstawiony na rysunku 3.3, poprawnie pod wzgl-
dem jakociowym, odwzorowuje przebiegi w ukadzie rzeczywistym
[101].
3.1.3. Elektryczne i energetyczne parametry reaktorw
z wyadowaniami barierowymi
Wyadowania barierowe powstaj w uwarstwionym ukadzie dielek-
trycznym pod wpywem przyoonego napicia zmiennego AC, najcz-
ciej sinusoidalnego lub kwasi-sinusoidalnego, ktrego podstawowe kon-
strukcje przedstawiono na rysunku 3.5. Mechanizmy i podstawowe para-
metry wyadowa elektrycznych w obecnoci bariery dielektrycznej
(DBD) zostay omwione w rozdziale 2 (podrozdziay 2.82.10). Poniej
omwione zostan elektryczne waciwoci wyadowa w ozonatorze,
jako odbiorniku energii elektrycznej, oraz jego parametry energetyczne.
a) b)

Rys. 3. 5. Schematy reaktorw z wyadowaniami barierowymi: a) ozonator,
b) reaktor z dielektrykiem o strukturze porowatej, zwanym upakowaniem dielek-
trycznym
Przeledmy przebieg napicia i prdu ozonatora podczas pierwszego
okresu przyoenia napicia do jego elektrod (Rys. 3.6). Gdy warto
chwilowa napicia zasilajcego wzrasta, ronie take napicie na szczeli-
nie wyadowczej, i z chwil, gdy osignie ono warto napicia zaponu
wyadowa U
z
, powstaje pewna liczba mikrowyadowa w przestrzeni
72
gazowej. Napicie zaponu wyadowa, mimo obecnoci dielektryka sta-
ego, moe by wyznaczone z krzywych Paschena, w zalenoci od ilo-
czynu cinienia gazu p i odlegoci midzyelektrodowej d (Rys. 2.11, str.
58).
Ozonatory pracuj zazwyczaj przy cinieniu atmosferycznym lub
podwyszonym i maj wskie szczeliny wyadowcze (od 0,5 do 5 mm)
a gazem wejciowym jest powietrze, czasami wzbogacane tlenem, lub
ostatnio, coraz czciej, czysty tlen. Dla takich warunkw napicie zapo-
nu wyadowa zawiera si w granicach od 3 do 15 kV.

Rys. 3. 6. Przebieg napicia u
sz
na szczelinie wyadowczej i prdu i
oz
ozonatora
podczas pierwszego okresu przyoenia do elektrod napicia sinusoidalnego:
U
m
amplituda napicia zasilajcego, U
g
napicie ganicia wyadowa,
U
z
napicie zaponu wyadowa
Z chwil, gdy adunek na powierzchni dielektryka stanie si wystar-
czajco duy, aby unieruchomi wyadowanie, napicie chwilowe na
szczelinie wyadowczej u
sz
(t) maleje do wartoci napicia ganicia U
g
.
73
Na krzywej prdu i(t) pojawiaj si krtkie impulsy odpowiadajce po-
szczeglnym mikrowyadowaniom (Rys.3.6) i trwaj do chwili, gdy na-
picie zasilajce osiga swoje pierwsze maksimum U
m
. Wwczas, napi-
cie ze rda nie jest ju w stanie wyrwna spadku potencjau na szczeli-
nie podczas poprzedniego wyadowania i prd zanika. Dielektryk naa-
dowany jest w przyblieniu do maksymalnej wartoci napicia rda,
a na szczelinie panuje napicie ganicia U
g
. Prd wyprzedza napicie
praktycznie o /2, a zatem prd zmienia kierunek, gdy napicie osiga
warto maksymaln. Prd, po zmianie kierunku, neutralizuje adunek
zgromadzony na powierzchni dielektryka, podczas gdy napicie na szcze-
linie wyadowczej dy do osignicia ujemnej wartoci napicia zaponu
wyadowa u
sz
= U
z
. Nastpuje kolejna faza mikrowyadowa.
Zarwno napicie zaponu, jak i impulsy prdowe, nakadajce si na
prd przesunicia w dielektryku, wykazuj asymetri w zalenoci od
biegunowoci napicia zasilajcego i s liczniejsze oraz maj mniejsz
amplitud, gdy elektrony wdruj z dielektryka do elektrody metalowej.
Zjawisko to mona wyjani obnianiem si wartoci napicia zaponu
wyadowa, gdy elektrony przemieszczaj si w szczelinie w kierunku od
dielektryka do elektrody metalowej [65, 82, 101]. rednia liczba wyado-
wa N, przypadajca na jeden okres zmian napicia, zaley od wartoci
jego amplitudy U
m
i czstotliwoci f oraz napi zaponu U
z
, i ganicia
U
g
, wedug [101]:

+ =
g z
z m
U U
U U
f N 1 4 . (3.1)
Poniewa energia pojedynczego mikrowyadowania jest staa, dla danej
odlegoci midzyelektrodowej d i gstoci gazu , to moc czynna, do-
starczana do przestrzeni wyadowa, jest proporcjonalna do czstotliwo-
ci f zmian napicia zasilajcego u(t). Dla gazu przepywajcego przez
szczelin wyadowcz cakowita liczba wyadowa w danej objtoci jest
proporcjonalna do czstotliwoci f i czasu przebywania gazu w szczelinie
74
wyadowczej, oraz odwrotnie proporcjonalna do natenia przepywu
gazu. Okrelenie sprawnoci procesu syntezy ozonu w wyadowaniu ba-
rierowym, wymaga wyznaczenia wartoci energii elektrycznej dostarcza-
nej do przestrzeni wyadowa. Natura mikrowyadowa, objawiajca si
nanosekundowymi impulsami prdu przewodzenia nakadajcymi si na
znacznie wolniejszy prd przesunicia, utrudnia wyznaczenie energii me-
tod cakowania iloczynu chwilowych wartoci prdu i napicia. Wymaga
to bowiem, ju przy czstotliwoci sieciowej, prbkowania przebiegw
prdu i napicia w co najmniej 10
5
punktach na jeden okres napicia zasi-
lajcego.
a) b)

c)
( )
F
R R
R
Y X
fC
P
oz
2 1
2
2
1 1
+
=

Rys. 3.7. Figura Lissajous q = f(u) (a), b) ukad do jej wyznaczania, c) zaleno
na moc czynn wyadowa, w ktrej: F pole powierzchni ograniczone krzyw
w dziakach, X, Y nastawy na oscyloskopie w V/dz, f czstotliwo napicia
zasilajcego, Hz, C
2
pojemno kondensatora wczonego w szereg z ozonato-
rem, F, R
1
,R
2
rezystancje dzielnika napicia,
Najczciej stosowan metod wyznaczania mocy jest korzystanie
z figury Lissajous zalenoci adunku q(t) od napicia u(t) (Rys. 3.7).
Powierzchnia figury q = f(u) uzyskana oscylograficznie w ukadzie z ry-
75
sunku 3. 7, jest miar energii rozpraszanej w jednym cyklu zmian napi-
cia zasilajcego w przestrzeni gazowej reaktora z wyadowaniami barie-
rowymi.
Analitycznie moc czynn wyadowa barierowych mona wyznaczy
analizujc stany napiciowe dielektrycznego ukadu uwarstwionego przed
i po wyadowaniu w przestrzeni gazowej [108]. Energia E, ukadu dielek-
trycznego uwarstwionego przed wyadowaniem, jest rwna sumie energii
w szczelinie wyadowczej o pojemnoci C
sz
i w warstwie dielektryka C
d

i wynosi:
( ) [ ]
2 2
2
1
z m d z sz d sz
U U C U C E E E + = + = . (3.2)
Po wyadowaniu, w wyniku zmiany napicia na szczelinie powietrznej
o U = U
z
U
g
, energia ukadu maleje i wynosi:
( ) ( ) [ ]
2 2
2
1
U U U C U U C E
z m d z sz
+ + = . (3.3)
Ubytek energii podczas jednego mikrowyadowania jest zatem rwny:
( )( ) ( ) [ ]
g z m d g z d sz
U U U C U U C C E E E + = =
2 2
2
1
. (3.4)
Mnoc ubytek energii E, w ukadzie podczas pojedynczego wyadowa-
nia, przez rednia liczb wyadowa N przypadajc na okres zmian na-
picia zasilajcego, wyznaczon z zalenoci (3.1), po wykonaniu ele-
mentarnych dziaa otrzymujemy zaleno na moc czynn wyadowa
barierowych:
( )( )
g z d sz g
sz d
d
m
U U C C U
C C
C
U f E N P + +

+
= = 2 . (3.5)
Wprowadzajc oznaczenie stosunku napicia ganicia do napicia za-
ponu wyadowa przez k = U
g
/U
z
, zaleno (3.5) przyjmuje posta:

+
+ =
g
d
d sz
m z d
U
C
C C
U k U C f P ) 1 ( 2 ,
76
ktra, przy przyjmowanym czsto zaoeniu k = 1 (U
g
= U
z
), ostatecznie
wyraa si zalenoci, zwan formu Manleya [68]:
sz d
sz d
w z
w
sz
m z d
C C
C C
C U
C
C
U U C f P
+
=

= , 4 . (3.6)
Zaleno (3.6) pozwala wyznaczy wan przy projektowaniu ozonato-
rw gsto powierzchniow mocy czynnej p
el
(W/m
2
), jako stosunek
mocy czynnej P do aktywnej powierzchni wyadowczej elektrod S
el
:
p
el
= P/S
el
, od ktrej zaley wydajno ozonatora. Zaleno ta pokazuje,
jak wpywaj parametry ukadu zasilania w energi elektryczn na jej
warto. Wydajno syntezy ozonu, ktrej miar jest moc czynna elemen-
tu wyadowczego (3.6), zaley liniowo od napicia i czstotliwoci (Rys.
3.8). Zaleno wydajnoci od napicia wykorzystuje si w ozonatorach
do regulacji iloci wytwarzanego ozonu, jednak podwyszanie napicia
zasilajcego, w celu zwikszenia wydajnoci, jest ograniczone wytrzyma-
oci na przebicie dielektryka staego i zwykle nie przekracza 50 kV.
Skutecznym sposobem poprawy wydajnoci ozonatora jest zwikszenie
czstotliwoci napicia zasilajcego. Jednake, tu take wystpuj ograni-
czenia, wynikajce ze wzrostu temperatury gazu w przestrzeni wyadow-
czej, co pogarsza przebieg procesu syntezy i zmusza do stosowania spe-
cjalnych systemw chodzenia elektrod. W praktyce przemysowej sto-
sowane s czstotliwoci podwyszone (150, 600, 750 Hz), przy ktrych
chodzona wod jest elektroda uziemiona. Wysze czstotliwoci zasila-
nia wymagaj chodzenia obu elektrod oraz stosowania innych ni woda
mediw chodzcych [64, 82, 91].
Stosowanie podwyszonej czstotliwoci zasilania pozwala uzyski-
wa wymagan wydajno przy niszych wartociach napicia, co sprzyja
wikszej trwaoci elementw wyadowczych. Wpyw napicia i czsto-
tliwoci na moc, zuycie energii i wydajno ozonatora przedstawiono na
rysunku 3.8. Jak wynika z zalenoci (3.6) i z rysunku 3.8a, moc jest li-
niow funkcj czstotliwoci, natomiast wydajno (rys. 3.8 b i c) zmie-
77
nia si z czstotliwoci wolniej ni proporcjonalnie. W praktyce, podwo-
jenie wydajnoci reaktora ozonu wymaga kilkunastokrotnego wzrostu
czstotliwoci i wwczas naley si liczy z 1520 % wzrostem strat
w postaci ciepa w elemencie wyadowczym, ktre musi by odprowa-
dzone przez ukad chodzenia.

Rys. 3.8. Wpyw amplitudy i czstotliwoci napicia zasilajcego na moc czynn
(a), jednostkowe zuycie energii (b) i wydajno ozonatora (c)
W wytwarzaniu ozonu na skal przemysow, wanym parametrem
jest wydajno energetyczna procesu, mierzona iloci energii pobieranej
z sieci przez ukad zasilania dla wytworzenia 1kg ozonu (w kWh/kg),
bd iloci ozonu w uzyskan z 1 kWh dostarczonej energii (kg/kWh).
Z przeprowadzonej w rozdziale 4.5 (str. 143) analizy mocy i spraw-
noci wybranych ukadw zasilania ozonatorw wynika, e straty energii
w elementach ukadu zasilania (transformatorze, przetwornicy czstotli-
78
woci, dawikach, ukadach regulacji napicia) s porwnywalne z ener-
gi zuywan przez elementy wyadowcze na wytworzenie ozonu, std
tak wanym zagadnieniem jest dobr i optymalizacja elektrycznego uka-
du zasilania, zwaszcza w przemysowych reaktorach plazmy wyadowa
barierowych.
Przy analizowaniu parametrw energetycznych procesu syntezy ozo-
nu nie mona pomin wanego parametru syntezy, jakim jest koncentra-
cja ozonu w g/m
3
. Jest ona dla danego urzdzenia parametrem warunku-
jcym sprawno procesu syntezy. Maksymalna sprawno generacji
w g O
3
/kWh dla danego urzdzenia wystpuje przy niemal zerowej kon-
centracji i maleje w miar jej wzrostu, zatem przy projektowaniu ozonato-
ra naley liczy si z kompromisem pomidzy sprawnoci generacji
ozonu i jego koncentracj, wymagan przez dany proces plazmowy.
O sprawnoci reaktora plazmowego z wyadowaniami barierowymi decy-
duje nie tylko sprawno samych elementw wyadowczych i elementw
ukadu zasilania, ale take straty w innych elementach ukadu, do ktrych
zaliczamy systemy przygotowania i dostarczania gazu, chodzenia, regu-
lacji i zabezpiecze. Czynniki, od ktrych zaley sprawno energetyczna
procesu wytwarzania plazmy w wyadowaniach barierowych mona po-
dzieli na:
geometryczne parametry elementw wyadowczych ksztat, wymiary
i jako powierzchni elektrod, rodzaj i grubo dielektryka, szeroko
szczeliny wyadowczej;
fizyczne i chemiczne parametry gazu wejciowego rodzaj, skad,
obecno zanieczyszcze, temperatura, wilgotno, prdko;
elektryczne parametry ukadu zasilania warto, czstotliwo
i ksztat napicia zasilajcego, impedancja wewntrzn rda, wsp-
czynnik mocy.
W kadej z wymienionych grup czynnikw istniej potencjalne moliwo-
ci doskonalenia procesu generacji nietermicznej plazmy w wyadowa-
niach barierowych. Ostatecznie jednak to ukad zasilania w energi elek-
79
tryczn decyduje o cakowitej sprawnoci procesu generacji nietermicznej
plazmy za pomoc wyadowa barierowych. Transformatorowe ukady
zasilania reaktorw z wyadowaniami barierowymi, ktrych idea zostaa
opracowana przy wspudziale autorki omwiono w rozdziale 4.3 [3, 94,
154, 173], za w rozdziale 6.1 przedstawiono przykad zastosowania wy-
adowa barierowych w procesach sterylizacji i dezynfekcji. Podano tak-
e wyniki bada nad wykorzystaniem plazmy wyadowa barierowych do
obrbki gleby.
3.2. Reaktory z wyadowaniami ukowymi
Reaktory plazmowe z ukiem elektrycznym, wykorzystywane s
w technologiach przemysowych od wielu lat. Ich gwne zastosowania to
spawanie, topienie, napylanie, obrbka powierzchniowa materiaw,
zwaszcza trudnoobrabialnych, syntezy chemiczne. W ostatnim okresie
wyadowania ukowe wykorzystuje si take do syntezy nowych materia-
w, w tym nano- i bio- materiaw o specjalnych waciwociach wyko-
rzystywanych w mikroelektronice, biotechnologiach, medycynie i ochro-
nie rodowiska [109118].
Szybki rozwj technik generacji plazmy znacznie rozszerzy moli-
woci wykorzystania urzdze plazmowych z ukiem elektrycznym.
W wielu zastosowaniach rdem plazmy jest uk elektryczny stabilizo-
wany ciankami reaktora i przepywajcym gazem, wytwarzajcy stru-
mie plazmy wypywajcy z du prdkoci na zewntrz reaktora pla-
zmowego. Regulacja parametrw elektrycznych, cieplnych i gazodyna-
micznych strumienia plazmy, w takim reaktorze plazmowym, jest stosun-
kowo atwa i moe by prowadzona w szerokich granicach. Charaktery-
styczn cech strumienia plazmy uku stabilizowanego jest moliwo
osignicia bardzo duych koncentracji energii i mocy sigajcych
40 kW/cm
3
w stosunkowo niewielkiej przestrzeni, dlatego nagrzewanie
plazmowo-ukowe zaliczane jest do jednych z najbardziej obiecujcych
80
metod nagrzewania elektrycznego [116, 117]. Reaktory z ukiem elek-
trycznym wytwarzaj plazm termiczn, ktrej czstki znajduj si
w stanie rwnowagi termodynamicznej. Przy unieszkodliwianiu gazw
przemysowych (np. gazy wylotowe elektrowni lub elektrociepowni), uk
elektryczny, jako rdo plazmy jest mao przydatny, bowiem nie jest w
stanie skutecznie spenetrowa przestrzeni wypenionej zanieczyszczonym
powietrzem w sposb umoliwiajcy usunicie zawartych w nim zanie-
czyszcze. Dugo uku swobodnego, jego pooenie w przestrzeni, obj-
to oraz charakterystyki plazmy nim generowanej nieustannie zmieniaj
si w sposb losowy. Czyni to wyadowanie ukowe i plazm nim wytwo-
rzon medium sabo sterowalnym z punktu widzenia utrzymania wyma-
ganych charakterystyk dla procesw prowadzonych z udziaem nieter-
micznej plazmy.
Poniewa praca powicona jest waciwociom, sposobom generacji
i zastosowaniom plazmy nietermicznej, omwiono tylko reaktory plazmy
ukowej z ukiem ekspansyjnym, ktre, w pewnych warunkach, mog
generowa zimn i nierwnowagow plazm.
3.2.1. Reaktory plazmowe z ukiem ekspansyjnym
W procesach zwizanych z ochron rodowiska zastosowanie znajdu-
j reaktory quasi-ukowe, generujce plazm w fazie nierwnowagowej
i przy cinieniu atmosferycznym. Do takich nale reaktory plazmowe
prdu przemiennego z ukiem ekspansyjnym. Przedstawiony na rysunku
3.9 rektor plazmowy umoliwia prowadzenie bada nad przemysowym
wykorzystaniem plazmy, powstajcej w trjfazowym wyadowaniu uko-
wym, do rozbijania wglowodoru na sadz i wodr [118]. Rozkad tem-
peratury wewntrz komory wyadowczej jest nierwnomierny. W reakto-
rze o mocy 100 kW, w bezporednim ssiedztwie wyadowania, odnoto-
wuje si temperatury bliskie 7000 K, za na kocu komory wyadowczej
temperatura osiga okoo 1000 K [118]. Pionowe umieszczenie grafito-
81
wych elektrod oraz wymuszony nadmuch gazu plazmotwrczego, skie-
rowany na wyadowanie od gry, zapobiegaj osadzaniu si sadzy na
elementach konstrukcyjnych reaktora. Nadmierne jej nagromadzenie
w obszarze midzyelektrodowym mogoby doprowadzi do zwarcia elek-
trod i w konsekwencji do zgaszenia wyadowania.
Dwunastoelektrodowy reaktor plazmowy, przedstawiony na rysunku
3.10, przeznaczony jest do syntezy nanorurek wglowych [120]. Proces
technologiczny prowadzony jest w atmosferze helu o cinieniu
600 mmHg, a wyadowanie ukowe zachodzi przy napiciu (2045) V
i prdzie (70100) A. W takich warunkach na stalowej pytce, umiesz-
czonej we wntrzu komory wyadowczej, mona otrzyma warstwy nano-
rurek o rednicach (2040) nm. Zastosowanie dwunastu elektrod pozwala
na bardziej rwnomierne wypenienie komory wyadowczej plazm, ni
ma to miejsce w reaktorach o mniejszej liczbie.








Rys. 3.9. Reaktor trjelektrodowy
[118]: 1 dysza wlotowa gazu pla-
zmotwrczego, 2 elektroda grafi-
towa, 3 komora wyadowcza, 4
kana wlotowy czynnika poddawa-
nego obrbce plazmowej
Rys. 3.10. Schemat pogldowy kon-
strukcji dwunastoelektrodowego re-
aktora plazmowego [120]: 1 elek-
trody grafitowe, 2 komora wya-
dowcza, 3 ukad automatycznej re-
gulacji dugoci elektrod
Zdjcie wntrza komory wyadowczej podczas pracy reaktora dwu-
nastoelektrodowego przedstawia rysunek 3.11. Elektrody w reaktorze
wykonane s z materiau, ktrego 99,9% objtoci stanowi czysty grafit,
82
w postaci okrgych prtw. Ukady automatyki i ich rozmieszczenie wo-
k komory wyadowczej reaktora przedstawia zdjcie z rysunku 3.12.
Innym rodzajem wyadowania z ukiem ekspansyjnym jest lizgajcy
si uk elektryczny, znany w literaturze wiatowej pod nazw gliding
arc. Wyadowanie przemieszcza si wzdu elektrod wyadowczych ru-
chem lizgowym, zmieniajc istotnie swoje waciwoci fizyczne od
charakterystycznych dla plazmy znajdujcej si w stanie rwnowagi ter-
modynamicznej do typowych dla plazmy nierwnowagowej. Ostatnio,
w literaturze polskojzycznej spotyka si take okrelenie wyadowanie
polizgowe [121123]. Reaktorom plazmy z tym rodzajem wyadowa,
jako rdem nietermicznej plazmy przy cinieniu atmosferycznym, po-
wicono kolejne rozdziay.









Rys. 3.11. Wntrze komory wya-
dowczej dwunastoelektrodowego
reaktora plazmowego [120]
Rys. 3.12. Zdjcie ukadw automa-
tyki dwunastoelektrodowego reaktora
plazmowego [120]

3.3. Reaktory ze lizgajcym si ukiem elektrycznym
lizgajce si wyadowanie ukowe, jako rdo nietermicznej pla-
zmy generowanej przy cinieniu atmosferycznym, zostao zaproponowa-
ne przez Albina Czernichowskiego i zesp z Laboratorium Fizyki Pla-
zmy Uniwersytetu w Orleanie, we Francji w 1990 r. Jego gwn cech
jest moliwo generacji nietermicznej plazmy bezporednio w zanie-
czyszczonym gazie, przy cinieniu atmosferycznym i w warunkach,
83
w jakich gazy wylotowe s emitowane do atmosfery, bez koniecznoci
ich wstpnej obrbki [124129].
Plazm lizgajcego si wyadowania ukowego, podobnie jak innych
wyadowa ukowych, mona generowa przy napiciu staym, prze-
miennym i impulsowym. Stosowane w przemyle plazmotrony ze lizga-
jcym si wyadowaniem ukowym s budowane jako dwu-, trzy- i wielo-
elektrodowe i czsto posiadaj dodatkow elektrod zaponow. Przed-
stawiony na rysunku 3.13 reaktor plazmowy, wytwarza trjfazowe wya-
dowanie ukowe o mocy dochodzcej do 500 kW [129]. Zastosowane
chodzenie wodne elektrod i komory wyadowczej, umoliwia stosowanie
w konstrukcji reaktora materiaw mao odpornych na wysokie tempera-
tury.










Rys. 3.13. Trjelektrodowy reaktor
plazmowy [129]: 1 jednofazowy
reaktor plazmowy, 2 elektroda ro-
bocza, 3 materia izolujcy, 4
zacisk zasilania, 5 obieg wody
chodzcej, 6 kanay dostarczania
gazu
Rys. 3.14. Reaktor plazmowy z do-
datkow elektrod zaponow: 1
komora wyadowcza, 2 dysza wlo-
tu gazu, 3 ,4 elektroda zaponowa,
5, 6 elektroda robocza
Dodatkowo szybki ruch punktw przyczepienia ukw wzdu elek-
trod, gwnie pod wpywem si gazodynamicznych i w pewnym stopniu
take elektrodynamicznych, nie powoduje miejscowego nagrzewania
elektrod. Elementem inicjujcym wyadowanie, w reaktorze z rysunku
3.13, jest niewielkiej mocy reaktor plazmowy wytwarzajcy strumie
84
plazmy o koncentracji elektronw n
e
=(10
13
10
14
)cm
-3
skierowany do
obszaru, w ktrym odlego pomidzy elektrodami roboczymi jest naj-
mniejsza. Koncentracja elektronw w strefie zaponu wyadowania umo-
liwia pewny zapon uku elektrycznego na elektrodach roboczych. Tak
sam funkcje spenia elektroda zaponowa w reaktorze trjelektrodowym
przedstawionym na rysunku 3.14. Wytworzona ni niewielkiej mocy
iskra elektryczna, jest wystarczajca do zjonizowania przestrzeni midzy-
elektrodowej, co uatwia zapon waciwego wyadowania midzy elek-
trodami roboczymi w kadym cyklu pracy reaktora.
Aby zapewni nierwnowagowe i nietermiczne warunki generowanej
plazmy, napicie zasilajce zwykle zawiera si w granicach od 1 kV do
2 kV, a prd pary elektrod nie przekracza 10 A. Takie wartoci napicia
i prdu nie s typowe dla wyadowania ukowego. Ponadto wymagane dla
potrzymania wyadowania napicie, midzy elektrodami roboczymi, ma
niewystarczajc warto do zaponu wyadowa w kadym nastpnym
cyklu pracy reaktora i dlatego do przestrzeni midzyelektrodowej, w tak
zwanej strefie zaponu, wprowadza si dodatkow elektrod zaponow.
Najprostszy konstrukcyjnie jest dwuelektrodowy reaktor plazmowy ze
lizgajcym si ukiem, ktrego geometri przedstawiono na rysunku
3.15. Reaktor skada si z dwch elektrod roboczych umieszczonych
w komorze wyadowczej, przez ktr przepywa z odpowiedni prdko-
ci (>10 m/s) zanieczyszczony gaz, poddawany obrbce plazmowej.
Na rys. 3.16 przedstawiono widok poncego uku w reaktorze dwu-
elektrodowym. Ze wzgldu na ma odlego elektrod w strefie zaponu,
zwykle (14) mm, warstwy przyelektrodowe stykaj si ze sob powodu-
jc wystpienie uku krtkiego, w ktrym praktycznie nie obserwuje si
kolumny ukowej. Due obcienia cieplne w rejonie strefy zaponu moe
powodowa erozj elektrod. Mona zaoy, e w miejscu zaponu, wya-
dowanie znajduje si w stanie rwnowagi termodynamicznej. Pod wpy-
wem si gazodynamicznych wyadowanie przesuwa si wzdu elektrod
i jest podtrzymywane przy znacznie niszym napiciu ni wymagane do
85
zaponu. Towarzyszy temu kilkukrotny wzrost dugoci i objtoci wya-
dowania, ktre ma cechy uku dugiego. Rwnoczenie nastpuje obnie-
nie temperatury orodka gazowego wewntrz kolumny ukowej i przej-
cie do fazy nierwnowagowej.

Rys. 3.15. Schemat ideowy reaktora
dwuelektrodowego
Rys. 3.16. lizgajce si wyado-
wanie ukowe
Zganicie wyadowania nastpuje z chwil, gdy energia elektryczna
dostarczana ze rda zasilania nie jest w stanie zrwnoway strat ener-
getycznych wyduajcej si kolumny ukowej. Po zganiciu wyadowa-
nia, nastpuje niemal natychmiastowa jego odbudowa w strefie zaponu i
cykl pracy reaktora powtarza si. Na czas trwania jednego cyklu ma
wpyw wiele czynnikw, spord ktrych naley wymieni takie jak:
wymiary i ksztat elektrod, prdko przepywu orodka gazowego przez
komor wyadowcz, temperatura panujca wewntrz komory wyadow-
czej, skad chemiczny gazu, napicie i natenie prdu elektrod oraz cz-
stotliwo napicia zasilajcego.
86


Rys. 3 17. Typowa charakterystyka statyczna napiciowo-prdowa lizgajcego
si uku
Z przedstawionej na rysunku 3.17 statycznej charakterystyki napi-
ciowo-prdowej wynika, e napicie zaponu wyadowa (10,5 kV) ma
warto ponad szeciokrotnie wiksz od wymaganego do ich podtrzy-
mania (1,5 kV) przy znamionowym prdzie elektrod wynoszcym 1,5 A.
Zwikszenie liczby elektrod w reaktorze plazmowym pozwala na wytwo-
rzenie obszaru plazmy o wikszej objtoci. Stosuje si wic ukady wie-
loelektrodowe lub poczenia kilku reaktorw szeregowo dla przepywa-
jcego gazu.
Jak wynika z wczeniejszych bada [5, 39, 118, 122, 124], nawet do
80% energii wyadowania lizgajcego si uku jest wyzwalana w fazie
nierwnowagowej, co czyni je szczeglnie przydatnym w technologiach
oczyszczania gazw, emitowanych zwykle w duych ilociach i przy ci-
nieniu atmosferycznym.
W rozdziale 3.3.1 przedstawiono charakterystyki statyczne i dyna-
miczne trjfazowych reaktorw plazmowych, wyznaczone eksperymen-
talnie dla rnych gazw roboczych oraz rnych parametrw ukadu
87
zasilania, zwracajc szczegln uwag na zjawiska zwizane z paleniem
si uku w ukadzie trjfazowym [129].
3.3.1. Charakterystyki reaktorw ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym
Charakterystyki reaktora plazmowego ze lizgajcym si ukiem r-
ni si od tych, jakie prezentuj reaktory z innymi rodzajami wyadowa
elektrycznych. Rezystancja przestrzeni midzyelektrodowej, ktra zaley
od stopnia jonizacji gazu, zmienia si istotnie podczas kadego cyklu pra-
cy reaktora i jest najwiksza przed zaponem, gdy gaz nie jest zjonizowa-
ny. Po zaponie gwatownie maleje i nastpnie ponownie ronie, wraz
z rozwijajcym si ukiem, a do zganicia wyadowania w miejscu naj-
wikszego odstpu elektrod. Charakterystyki statyczne i dynamiczne re-
aktora plazmowego zale od wielu czynnikw, z ktrych najwaniejsze
to: geometria reaktora plazmowego, rodzaj gazu roboczego i parametry
ukadu zasilania. Poprzez zmian tych czynnikw mona wpywa na
parametry elektryczne i termiczne wyadowania w komorze wyadowczej
reaktora plazmowego. Sterujc moc wyadowania, temperatur genero-
wanej plazmy, stopniem jonizacji gazu roboczego oraz jego skadem
chemicznym mona ksztatowa parametry technologiczne prowadzonego
procesu plazmowego.
Charakterystyki wyznaczono dla trjfazowego reaktora plazmowego
z dodatkow elektrod zaponow, (Rys. 3.14), zasilanego z ukadu prze-
ksztatnikowego o regulowanej wartoci napicia i czstotliwoci wyj-
ciowej, poprzez transformatory podwyszajce napicie. Dane technicz-
ne badanego ukadu zestawiono w tablicy 3.3. Charakterystyki trjfazo-
wego reaktora plazmowego z elektrod zaponow przedstawiono na ry-
sunkach od 3.18 do 3.27. Pomiary wykonano dla trzech gazw robo-
czych: argonu, azotu i powietrza przy przepywie gazu przez dysz pla-
88
zmotronu wynoszcym 1 m
3
/h przy cinieniu normalnym. Elektroda za-
ponowa zasilana bya napiciem 15 kV o czstotliwoci 20 kHz.
Tablica 3.3. Dane techniczne ukadu zasilania
Transformatory
Napicie pierwotne 230 V
Prd pierwotny 18 A
Napicie wtrne 1,4 kV
Prd wtrny 3 A
Przeksztatnik tyrystorowy AC/DC/AC
Napicie pierwotne 230 V
Prd pierwotny 15 A
Napicie wyjciowe regulowane 0 200 V
Prd wyjciowy regulowany 0 25 A
Czstotliwo wyjciowa regulowana 10 200 Hz
Ukad zaponowy
Napicie zasilania 230 V
Prd zasilania 0,25 A
Napicie wyjciowe 15 kV
Prd wyjciowy 40 mA
Czstotliwo wyjciowa 20 kHz
Minimalna warto napicia, ktre podtrzyma wyadowanie ukowe
midzy elektrodami roboczymi reaktora plazmowego, jest rna dla r-
nych gazw roboczych. Dla argonu (Rys. 3.18) warto napicia pod-
trzymania wyadowania wynosi 250 V i jest prawie pi razy mniejsza ni
dla powietrza (1200 V) i azotu (1100 V) [129].
Jak wynika z charakterystyk statycznych, przedstawionych na rysun-
kach 3.19 do 3.22, moc lizgajcego si wyadowania ukowego i rezy-
stancja przestrzeni midzyelektrodowej zmieniaj si szerokich granicach
wraz ze zmianami wartoci prdu, napicia, czstotliwoci i rodzaju gazu
roboczego, w ktrym wystpuje wyadowanie.
89

Rys. 3.18. Napicie uku U

w funkcji
napicia zasilajcego U
p


Rys. 3.19. Charakterystyki zmian napi-
cia uku U

w funkcji prdu uku I

Rys. 3.20. Zmiana napicia uku U

w funkcji mocy uku P

Rys. 3.21. Zaleno mocy wyadowania
P

od wartoci prdu uku I

Rys. 3.22 Zmiany rezystancji prze-
strzeni midzyelektrodowych R

reak-
tora plazmowego w funkcji prdu
wyadowania I

Rys. 3.23. Wpyw czstotliwoci napi-
cia zasilajcego f elektrody robocze
reaktora plazmowego na moc wyado-
wania P

90
Duy wpyw na charakterystyki dynamiczne lizgajcego si wya-
dowania ukowego ma impedancja obwodu zasilajcego, a przy zasilaniu
reaktora poprzez transformatory podwyszajce napicie (na og nie-
zbdne w wikszoci zasilaczy reaktorw ukowych), take materia
rdzenia, ktry moe zasadniczo zmienia przebieg wyadowania.
Na rysunku 3.24 przedstawiono zdjcia lizgajcego si wyadowania
ukowego w ukadzie trjelektrodowym, dla tych samych parametrw
elektrycznych wyadowania (2,2 A i 250 V) oraz rodzaju gazu roboczego
(argon) i jego przepywu (1 m
3
/h). Charakter wyadowania ulega istotnym
zmianom dla rnych materiaw rdzenia (blacha transformatorowa, ta-
ma amorficzna).

a) b) c)
Rys. 3.24. lizgajce si wyadowanie ukowe w reaktorze trjelektrodowym
przy zasilaniu z: a) transformatorw o rdzeniach z blachy transformatorowej
ET3, b) transformatorw z rdzeniami amorficznymi (METGLAS), c) z ukadu
przeksztatnikowego (gaz roboczy: argon, napicie wyadowania U

= 250 V,
prd I

= 2,2 A, przepyw gazu 1 m

3
/h)

91
Powodem tego zjawiska jest nieliniowo rezystancji wyadowania
ukowego i charakterystyki magnesowania rdzenia oraz rne pasma
przenoszenia sygnaw napicia, odksztaconych wyszymi harmonicz-
nymi, przez tradycyjny rdze z blachy transformatorowej oraz rdze
amorficzny.
Przy zasilaniu reaktora plazmowego z ukadu przeksztatnikowego,
dodatkowo w przebiegach napi pojawiaj si wysze harmoniczne wy-
nikajce z czstotliwoci ich prbkowania, co, jak wida z rysunku 3.24c,
wyranie wpywa na przebieg wyadowania. Wpyw czstotliwoci prb-
kowania i ukadu zaponowego widoczny jest take na oscylogramach
prdw, napi i mocy przedstawionych na rysunku 3.25.
a) b)











Rys. 3.25. Oscylogramy prdu i napicia wyadowania w reaktorze plazmowym
1 napicie fazowe, 2 prd fazowy, 3 napicie przewodowe
Zastosowane w konstrukcji transformatorw zasilajcych rdzenie
amorficzne przenosiy czstotliwo 20 kHz, z jak pracowa elektronicz-
ny ukad zaponowy oraz inne wysze harmoniczne generowane przez uk
elektryczny. Harmoniczne te wystpoway w napiciach fazowych elek-
trod, natomiast prd elektrod mia ksztat sinusoidalny (Rys. 3.25a). Wy-
sze harmoniczne generowane przez ukad zaponowy nie wystpuj
w napiciach midzyelektrodowych (Rys. 3.25b). Stosujc transformatory
z rdzeniami z blachy elektrotechnicznej, w ukadzie zasilania reaktora
92
ukowego obserwuje si mniejszy udzia wyszych harmonicznych
w napiciach fazowych zasilajcych elektrody.
Dla porwnania, na rysunku 3.26, przedstawiono oscylogramy napi
fazowych, prdu oraz mocy wyadowania dla obu rodzajw materiau
rdzenia (amorficzny, blacha elektrotechniczna) transformatorw stosowa-
nych w ukadzie zasilania. Zmniejszenie zawartoci wyszych harmo-
nicznych w ukadzie z rdzeniami amorficznymi jest moliwe przez zasto-
sowanie ukadu zaponowego pracujcego przy czstotliwoci technicznej
50 Hz. Przebieg napicia fazowego w takim ukadzie oraz prdu i mocy
wyadowania przedstawia rysunek 3.27.
a) b)












Rys. 3.26. Oscylogramy 1 prdu fazowego, 2 napicia fazowego, M mocy
wyadowania przy zasilaniu reaktora plazmowego z transformatorw o rdze-
niach: a) amorficznych, b) z blachy transformatorowej
Mimo zaniku w napiciu czstotliwoci 20 kHz nadal obserwuje si
znaczy udzia wyszych harmonicznych innych rzdw. Harmoniczne te
generowane s przez wyadowanie elektryczne. W transformatorach o
rdzeniach z blachy transformatorowej wysze harmoniczne tumione s
przez obwd magnetyczny ukadu zasilania i nie wystpuj w napiciach
fazowych.
93

Rys. 3.27. Oscylogramy 1 prdu fazowego, 2 napicia fazowego, M mocy
wyadowania przy zasilaniu reaktora plazmowego poprzez transformatory
z rdzeniami amorficznymi i z ukadem zaponowym o czstotliwoci 50 Hz














Rys. 3.28. Wpyw czstotliwoci napicia zasilajcego elektrody robocze na
charakter wyadowania. (napicie wyadowania U

= 250 V, prd uku I

= 2,2 A,
przepyw gazu 1 m
3
/h, gaz roboczy argon)
Generalnie, czstotliwo napicia zasilajcego elektrody robocze ma
niewielki wpyw na warto mocy wyadowania, jednake najwikszy dla
wyadowania w azocie (Rys. 3.23). Zmiana czstotliwoci napicia zasila-
jcego elektrody robocze reaktora plazmowego ma natomiast wpyw na
50 Hz 100 Hz 200 Hz
94
sposb, w jaki rozwija si wyadowanie. Na rysunku 3.28 przedstawiono
wyadowanie zachodzce przy 50 Hz, 100 Hz i 200 Hz w azocie.
Przy czstotliwoci sieciowej wyadowanie rozwija si na caej du-
goci elektrod roboczych. Wraz ze wzrostem czstotliwoci zmniejsza si
przestrze, jak wypenia wyadowanie i przy 200 Hz ogranicza si ona
praktycznie do niewielkiego obszaru wok elektrody zaponowej.
W badanym reaktorze, zasilanym z ukadu przeksztatnikowego poprzez
transformatory podwyszajce napicie, ze wzrostem czstotliwoci na-
picia zasilajcego nastpuje zmniejszenie mocy wyadowania oraz ogra-
niczenie objtoci generowanej plazmy [129].
3.3.2. Cykl pracy reaktora ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym
Zapon wyadowania na elektrodach roboczych reaktora plazmowego
inicjowany jest przeskokiem iskry elektrycznej pomidzy elektrod za-
ponow a jedn z trzech elektrod roboczych. Pojedynczy kana iskry
elektrycznej jest rozdmuchiwany gazem napywajcym z dyszy do komo-
ry wyadowczej reaktora. W efekcie przebicie iskrowe skada si z drze-
wa rozgaziajcych si kanaw, co uatwia wstpn jonizacj obszaru
w miejscu zaponu gwnego wyadowania, midzy elektrodami robo-
czymi. Po przebiciu przerwy midzyelektrodowej jej rezystancja staje si
bardzo maa i napicie w obszarze wyadowania spada poniej wartoci
napicia ganicia, co pociga za sob przerwanie wyadowania iskrowe-
go. Nastpnie, napicie midzyelektrodowe ponownie wzrasta i cykl pra-
cy powtarza si. W trjfazowym reaktorze plazmowym, z dodatkow
elektrod zaponow, odlego przerw midzyelektrodowych w strefie
zaponu wyadowania jest mniejsza ni 1 cm, i rozwj wyadowania
iskrowego na elektrodzie zaponowej moe by opisany mechanizmem
opracowanym przez Townsenda [85]. Dla wikszych przerw midzyelek-
trodowych, wyadowanie iskrowe rozwija si w nierwnomiernym polu
95
elektrycznym i przy mniejszych nateniach tego pola, ni wynikoby to
z oblicze przeprowadzonych przez Townsenda.
Cykl pracy reaktora plazmowego ze lizgajcym si wyadowaniem
zostanie przeledzony na przykadzie reaktora dwuelektrodowego
(Rys. 3.29). Z chwil zamknicia si kanau iskry elektrycznej midzy
elektrodami roboczymi, wzrasta moc dostarczana do wyadowania. Przy
wzrocie mocy rda kanay iskrowe rozszerzaj si w szerokie pasma
i wyadowanie przechodzi w tzw. zagszczone wyadowanie iskrowe.
Przy dalszym wzrocie mocy rda wyadowanie przeksztaca si w uk
elektryczny. W uku elektrycznym emisja elektronw z elektrod ma cha-
rakter termiczny, dlatego charakterystyczne dla uku jest to, e im wik-
szy jest prd wyadowania, tym mniejsze napicie jest potrzebne do pod-
trzymania jego ponicia. Przy stosunkowo duym wzrocie prdu wyst-
puje niewielkie zmniejszenie napicia, i w efekcie wzrasta moc wydziela-
na w uku. Wzrost mocy uku pociga za sob wzrost temperatury katody
a wic i wzrost jej emisji.
Temperatura kolumny uku elektrycznego zawiera si w granicach
(4000 7000) K i ronie wraz z cinieniem gazu. W reaktorach plazmo-
wych, ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym, dy si do osigni-
cia uku dugiego o stosunkowo szerokiej kolumnie. uk ten musi by na
tyle zimny, by nie topi materiau elektrod i elementw konstrukcyjnych
reaktora. Rwnoczenie palcy si w reaktorach uk musi zapewnia od-
powiednie parametry generowanej nim plazmy, aby poprawnie prowadzi
reakcje plazmo-chemiczne. Takie wyadowanie ukowe mona otrzyma
przy stosunkowo wysokim napiciu i niewielkich wartociach prdu. Wy-
trzymao przerwy midzyelektrodowej zaley od parametrw termody-
namicznych gazu, w jakim zachodzi wyadowanie ukowe, a w szczegl-
noci od jego skadu chemicznego, cinienia, temperatury, a w mniejszym
stopniu, od jego prdkoci w komorze wyadowczej.
lizgajcy si uk elektryczny, jako odbiornik energii elektrycznej,
wraz z ukadem zasilania tworz obwd o parametrach nieliniowych
96
i niestacjonarnych. Na rysunku 3.29 przedstawiono teoretyczne przebiegi
napicia i prdu podczas cyklu pracy dwuelektrodowego reaktora pla-
zmowego.


Rys. 3.29. Chwilowe przebiegi napi i prdw dwuelektrodowego reaktora
plazmowego ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym; a) szkic elektrod,
b) przebiegi chwilowe: e(t) napicie rda zasilania, u

napicie uku, i

prd uku, u
z
napicie zaponu wyadowania, u
g
napicie ganicia wyado-
wania


Rys. 3.30. Rozwj wyadowania ukowego przy jego naturalnym unoszeniu si
w trakcie cyklu pracy dwuelektrodowego reaktora plazmowego [129]
Odpowiadajcy przedstawionym przebiegom chwilowym rozwj
lizgajcego si uku w powietrzu (bez nadmuchu gazu roboczego) pod-
a)
b)
97
czas cyklu pracy dwuelektrodowego reaktora plazmowego, od chwili za-
ponu wyadowania na elektrodach roboczych do chwili jego zgaszenia,
przedstawiono na rysunku 3.30.
Z charakterystyk uzyskanych w trjelektrodowym reaktorze plazmo-
wym, zasilanym z sinusoidalnego rda napicia, przedstawionych na
rysunku 3.31, wynika, e prd uku jest praktycznie sinusoidalny nato-
miast silnemu odksztaceniu ulega napicie.
a) b)








Rys. 3.31. Przebiegi prdu i napicia pracujcego reaktora plazmowego:
a) przebiegi prdu i napicia fazowego, b) napicie midzyfazowe
Czas trwania jednego cyklu pracy reaktora, od zaponu wyadowania
na elektrodach roboczych do jego zganicia na kracach elektrod, zaley
od ich wymiarw i ksztatu, prdkoci przepywu gazu, jego rodzaju oraz
temperatury i moe wynosi od kilku do kilkunastu okresw napicia
zasilajcego przy czstotliwoci sieciowej 50 Hz.
Przyjmujc jednofazowy schemat zastpczy ukadu para elektrod
reaktora ukowego nieidealne sinusoidalne rdo zasilania o indukcyj-
noci wewntrznej L
w
, mona przeprowadzi uproszczone rozwaania
energetyczne, niezbdne do projektowania i budowy ukadw zasilania
urzdze wyadowczych ze lizgajcym si ukiem elektrycznym. Przed
zaponem wyadowa prd nie pynie, napicie na elektrodach jest rwne
napiciu rda, a rezystancja przestrzeni midzyelektrodowej jest nie-
98
skoczenie dua. Dla analizy mocy istotny jest stan po zaponie, ktry
nastpi, gdy warto chwilowa napicia rda przekroczy napicie za-
ponu wyadowa. Indukcyjno wewntrzna rda L
w
jest staa, nato-
miast rezystancja uku r

(t) zmienia warto w czasie pokresu napicia

zasilajcego, a przebiegi prdu i napicia na wyadowaniu odbiegaj od
sinusoidy. Aby ograniczy prd zwarcia, reaktancja rda ma zwykle
w ukadach zasilania urzdze wyadowczych znaczn warto i prd
elektrod jest znacznie mniej odksztacony ni napicie (Rys. 3.31). Jeeli
przyjmiemy do rozwaa pierwsze harmoniczne prdu i napicia, to nie-
liniow rezystancj wyadowania ukowego moemy zastpi wartoci
sta R

, a schemat zastpczy ukadu moe by odwzorowany jak na ry-

sunku 3.32.

Rys. 3.32. Schemat zastpczy ukadu reaktor ukowy rdo do uproszczonych
rozwaa energetycznych: R

rezystancja uku, L
w
indukcyjno rda
Jeeli prd uku jest ograniczany dawikami, jak to czsto ma w prak-
tyce miejsce, to indukcyjno L
w
na schemacie zastpczym jest sum in-
dukcyjnoci wewntrznej ukadu zasilania i indukcyjnoci dawikw. Re-
zystancja wyadowania w przepywajcym gazie ma warto kilkuset
omw i jest miar mocy czynnej P. Przerwy bezprdowe, wystpujce
midzy kolejnymi cyklami, trwaj nie duej ni okresu napicia rda
i ich wpyw na moc reaktora moe by w rozwaaniach pominity. Przy
takich zaoeniach rezystancj statyczn lizgajcego si uku mona
okreli ze stosunku wartoci skutecznych pierwszych harmonicznych
napicia i prdu wyadowania, wedug zalenoci:

99
h
h

I
U
R
1
1
= . (3.7)
Poniewa prd reaktora jest praktycznie sinusoidalny, rezystancja sta-
tyczna wyadowania moe by te wyznaczona z mocy P

i skutecznej
wartoci prdu I

, wedug:
2

I
P
R = . (3.8)
Przy sinusoidalnym prdzie obie zalenoci daj jednakow warto rezy-
stancji statycznej uku. Przy niewielkiej reaktancji wewntrznej, gdy nie
mona pomin odksztacenia prdu, zastpcz rezystancj statyczn uku
do uproszczonych rozwaa, mona wyznacza z zalenoci (3.8). Z do-
tychczasowych dowiadcze wynika, e w ukadach zasilania reaktorw
plazmowych bez ukadu zaponowego, moc bierna przesunicia Q jest
okoo 10 razy wiksza od mocy czynnej uku P

, natomiast moc bierna

odksztacenia D

nie przekracza 30% mocy czynnej uku, a wic stanowi

tylko 3% mocy biernej przesunicia. Pomijajc zatem moc odksztacenia,
mona przeprowadzi przyblion analiz wpywu stosunku reaktancji
rda (transformatora) X
w
do rezystancji zastpczej lizgajcego si uku
R

, posugujc si w tym celu wykresem fazorowym dla pierwszych har-

monicznych napi i prdu, przedstawionym na rysunku 3.33.

Rys. 3.33. Wykres fazorowy napi i prdw reaktora ukowego dla trzech war-
toci reaktancji rda
100
Napicie na zaciskach reaktora w stanie jaowym U
o
, jest rwnowa-
one napiciem na reaktancji wewntrznej rda U
x
i napiciem midzy
elektrodami reaktora U
R
. Wykres wielkoci z indeksem 1 opisuje reaktor
bez elektrody zaponowej. Wwczas, napicie rda musi mie warto
wystarczajc do zaponu a jednoczenie rdo musi mie tak du reak-
tancj wewntrzn, aby napicie midzy elektrodami przy poncym uku
wynosio od (0,10,2) U
o
. Wykorzystanie mocy transformatora zasilaj-
cego reaktor wyniesie wwczas okoo 20%. Wspczynnik mocy , ktry
mona uzna za wspczynnik wykorzystania mocy rda, wyniesie oko-
o 0,15 a sprawno energetyczna ukadu bdzie bardzo niska. Wykres
wielkoci z indeksem 2 opisuje reaktor plazmowy, w ktrym rednia war-
to rezystancji statycznej uku jest rwna reaktancji rda zasilania
(R

= X
w
-przypadek dopasowania odbiornika do rda). Przy zaoeniu
staej reaktancji X
w
i regulowanej rezystancji wyadowania ukowego R

,
np. poprzez odstp elektrod, oraz przy zaponie z osobnego rda, dla
staego napicia U
o
, moc oddawana ze rda do uku byaby najwiksza.
W praktyce taki przypadek nie jest realizowany, bowiem dua strata na-
picia na reaktancji wewntrznej obnia wykorzystanie mocy rda
i jego sprawno. Podany punkt pracy reaktora plazmowego przedsta-
wia wykres wielkoci z indeksem 3 i obszar zakreskowany wok punktu
3 (Rys. 3.33).
Moc rda zasilania jest ograniczona napiciem w stanie jaowym
i dopuszczalnym prdem I
o
. Parametry reaktora plazmowego i ukadu
zasilania powinny by tak dobrane, aby ich wsppraca odbywaa si z
maksymaln moc i sprawnoci i aby bya stabilna. Moc wyadowania
ukowego nie moe by wiksza od mocy odniesienia wynikajcej z ilo-
czynu napicia i prdu, wedug:
S
o
= U
o
I
o
= S
max
, w ktrym:
2 2
w
o
o
X R
U
I
+
= . (3.9)
101
Dobierajc odpowiednio reaktancj rda zasilania mona dowolnie
przybliy moc czynn do mocy maksymalnej, jednak aby zapewni do-
br stabilno pracy i mae przerwy bezprdowe, reaktancja nie powinna
by mniejsza od 30% impedancji obwodu (rys. 3.34), co zapewnia wyso-
k sprawno i wykorzystanie mocy rda do 95%.
Moc bierna odksztacenia, w lizgajcym si wyadowaniu ukowym,
jest znacznie mniejsza od mocy biernej przesunicia wystpujcej w
ukadzie zasilania i jej wpyw na straty mocy, wymiary ukadu i moc po-
bieran z sieci jest pomijalny. W rozdziale 4.5 pracy przedstawiono po-
rwnanie mocy i sprawnoci wybranych stosowanych w praktyce, uka-
dw zasilania reaktorw plazmowych ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym.


Rys. 3.34. Wpyw reaktancji rda zasilania na wykorzystanie jego mocy,
gdzie: S = UI, Z
o
= U/I impedancja obcienia
Wynika z niego, e zaproponowany do zasilania takich reaktorw
ukad zintegrowany, dziki m. in. minimalizacji mocy biernej przesuni-
cia, ma najwysz sprawno, spord stosowanych w praktyce ukadw,
charakteryzujc si przy tym prost budow, du niezawodnoci i ni-
skimi kosztami eksploatacji [90, 95, 101, 103, 147, 148].
102
3.4. Podsumowanie
Reaktory z wyadowaniami barierowymi oraz ze lizgajcym si wy-
adowaniem ukowym s dobrym rdem nietermicznej i nierwnowa-
gowej plazmy dla celw technologicznych. Praca przy cinieniu atmosfe-
rycznym, niezbyt wysokie wymagania odnonie zasilania w energi elek-
tryczn, prosta budowa komr wyadowczych i moliwo pracy z niemal
wszystkimi gazami sprawiaj, e ich zastosowanie w technologiach pla-
zmowych jest ju dosy powszechne i bdzie si rozszerzao. O sprawno-
ci procesu generacji plazmy w reaktorze plazmowym przesdza jednak
ukad zasilania w energi elektryczn, za pomoc ktrego steruje si pa-
rametrami plazmy. W nastpnym rozdziale podano wymagania stawiane
ukadom zasilania reaktorw nietermicznej plazmy oraz omwiono wy-
brane ich rozwizania.


103
4. UKADY ZASILANIA REAKTORW PLAZMY NIETERMICZNEJ
Reaktory plazmowe s bardzo nietypowymi odbiornikami energii
elektrycznej. Ich charakterystyki makroskopowe maj charakter silnie
nieliniowy a praca odbywa si zwykle przy wysokim napiciu, czsto
o podwyszonej lub wysokiej czstotliwoci. Moc wyadowa, ktra jest
miar wydajnoci reaktora plazmowego, jest regulowana wartoci napi-
cia bd prdu, w zalenoci od rodzaju wyadowa a poprawna wsp-
praca reaktora plazmowego, ktry w zastosowaniach przemysowych jest
urzdzeniem duej mocy, z sieci zasilajc, wymaga dodatkowych urz-
dze takich jak: ukady kompensacji mocy biernej oraz filtry zmniejszaj-
ce odksztacenia prdu sieciowego.
Poprawna praca reaktora plazmowego zaley od charakterystyk uka-
du zasilania. Z drugiej strony ukad zasilania reaguje na tak nietypowy
odbiornik, jakim jest reaktor plazmowy. Dlatego ukad zasilania reaktora
plazmowego, musi by projektowany i konstruowany razem z reaktorem
plazmowym.
Do zasilania reaktorw plazmowych stosuje si w praktyce rne
rda zasilania, ktre mona podzieli dwie zasadnicze grupy:
ukady transformatorowe, wykorzystujce waciwoci obwodw ma-
gnetycznych,
ukady z elementami energoelektronicznymi.
Te ostatnie, z uwagi na olbrzymi postp w dziedzinie energoelektroniki,
s coraz czciej stosowane do zasilania reaktorw plazmowych. Zasto-
sowanie najnowszych, w peni sterowalnych elementw pprzewodni-
kowych takich jak: tranzystory GTO, MOSFET i IGBT, pozwala kon-
struowa ukady zasilania reaktorw plazmowych o duych mocach
i wysokich czstotliwoci przeczania. Zasilacze przeksztatnikowe mo-
g zapewni, wymagan przez reaktor plazmowy, charakterystyk pr-
dowo-napiciow i dobre waciwoci regulacji prdu, napicia, mocy
i czstotliwoci. Umoliwiaj ponadto automatyzacj pracy reaktora pla-
104
zmowego, poprzez sterowanie pooeniem elektrod, skadem i wielkoci
przepywu gazu poddawanego obrbce, temperatur plazmy.
Aby dokona wyboru i zaprojektowa ukad zasilania do danego pro-
cesu plazmowego, naley okreli wymagania i parametry odbiornika
plazmowego, z ktrych najwaniejsze to:
napicie zasilania,
rodzaj prdu zasilania,
sposb realizacji zaponu wyadowania,
moc odbiornika i moliwa do realizacji moc ukadu zasilania,
moliwo regulacji wartoci prdu i zachowania jego cigoci w ca-
ym obszarze pracy reaktora plazmowego,
zdolno rda zasilania do pracy w ukadach automatycznego stero-
wania i regulacji oraz dostosowania parametrw do rnych gazw
plazmotwrczych oraz ich mieszanin,
poprawna wsppraca z sieci zasilajc,
wysoka sprawno,
prostota i bezpieczestwo obsugi,
niskie koszty budowy i eksploatacji.
Aby speni wymienione wymagania reaktorw plazmowych ich
ukady zasilania s bardzo rozbudowane. Obok ukadu zasilania w energi
elektryczn, zawieraj ukady przygotowania gazu, regulacji jego prdko-
ci oraz ukady zabezpiecze. W dalszej czci ksizki przedstawiono
podstawowe typy ukadw stosowanych do zasilania urzdze plazmo-
wych. S to midzy innymi ukady wykorzystujce specjalnej konstrukcji
transformatory i nieliniowo charakterystyki magnesowania ich rdzeni,
oraz ukady bazujce na technice pprzewodnikowej. Podany podzia jest
umowny, bowiem wszystkie wymienione ukady mog zawiera elemen-
ty magnetyczne i energoelektroniczne.
W ostatnim czasie coraz wiksze zastosowania w procesach generacji
nietermicznej plazmy znajduj ukady z energi impulsow. Dziki do-
skonaleniu technologii obwodw pprzewodnikowych i scalonych,
105
a take waciwoci materiaw magnetycznych, wykorzystanie energii
impulsowej do zasilania reaktorw plazmowych wzrasta.
4.1. Ukady transformatorowe
Niezalenie od rodzaju wyadowa elektrycznych wykorzystywanych
do generacji plazmy, kady ukad zasilania reaktorw plazmowych jest
wyposaony w transformator, ktry w odpowiednim wykonaniu jest naj-
prostszym ukadem zasilania. Transformuje on napicie do wymaganego
poziomu umoliwiajcego zapon wyadowa, a dziki specjalnej kon-
strukcji moe ogranicza prd w obwodzie z wyadowaniem. Stosujc
rne poczenia transformatorw, mona zasila zarwno reaktory pla-
zmowe dwu-, trj-, jak i wieloelektrodowe.
Transformatorowe ukady zasilania reaktorw ukowych mona wy-
posaa w wydzielone, wysokiej czstotliwoci, ukady zaponowe, wy-
konane w postaci moduw elektronicznych dajcych napicie zaponu o
czstotliwoci (2040) kHz, co zwiksza prawdopodobiestwo wystpie-
nia zaponu wyadowania a jednoczenie wpywa na zmniejszenie gabary-
tw ukadu zaponowego.
Regulacj mocy dostarczanej do przestrzeni wyadowa, mona re-
alizowa w ukadach transformatorowych poprzez zmiany napicia zasi-
lajcego (autotransformator, odczepy po stronie pierwotnej) lub stosujc
energoelektroniczne regulatory mocy.
Wrd transformatorowych ukadw zasilania omwione zostan
ukady do zasilania reaktorw plazmy lizgajcego si uku (zintegrowa-
ny i z transformatorem piciokolumnowym) oraz wyadowa bariero-
wych (magnetyczny mnonik czstotliwoci).
Idea zintegrowanego ukadu zasilania powstaa przy wspudziale
autorki monografii [147]. Rozwizania takich ukadw zostay opatento-
wane [6, 90, 148], i stay si podstaw do budowy kilkunastu zasilaczy,
pracujcych obecnie w laboratoriach w Polsce, m.in. w Instytucie Chemii
106
Przemysowej w Warszawie, w Przemysowym Instytucie Elektroniki
i w Instytucie Podstaw Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki
Lubelskiej, oraz we Francji, w Uniwersytecie w Orleanie [5, 127].
Modyfikacj ukadu zintegrowanego, jest zastosowanie transformato-
ra piciokolumnowego w ukadzie zasilania reaktora plazmowego. Taki
zasilacz zosta zbudowany w ramach realizacji rozprawy doktorskiej
[129] i poddany badaniom, ktre potwierdziy jego dobre waciwoci do
zasilania ukowych reaktorw plazmowych.
4.2. Zintegrowany ukad zasilania
Reaktory plazmowe ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym,
ktrych rozwizania i charakterystyki przedstawiono w rozdziale 3.3,
maj wzgldem ukadu zasilania inne wymagania ni reaktory z innymi
rodzajami wyadowa elektrycznych. Zapon wyadowania jest realizo-
wany przy napiciu kilkunastu kilowoltw (w zalenoci od odstpu elek-
trod roboczych), natomiast napicie poncego wyadowania ma warto
kilka do kilkunastu razy mniejsz i wynosi kilkaset woltw. Ta dyspro-
porcja napi zaponu i stabilnej pracy oraz silna nieliniowo konduk-
tancji wyadowania stwarza trudne zadanie dla ukadu zasilajcego, ktry
musi posiada waciwoci zarwno wysokonapiciowego ukadu zapo-
nowego, jak i ukadu nadajcego za szybkimi zmianami czasowymi
nieliniowej charakterystyki prdowo-napiciowej lizgajcego si wya-
dowania ukowego [147].
W ukadach laboratoryjnych, instalacjach pilotujcych i ukadach
przemysowych stosowane s systemy zasilania, w ktrych gwnym
elementem jest transformator. W najprostszym rozwizaniu jest to kla-
syczny transformator energetyczny, a wwczas, wymuszony charaktery-
styk reaktora, spadek napicia po zaponie musi by kompensowany
dodatkowymi dawikami, ktre naley wczy w szereg z kad par
elektrod reaktora. Jednoczenie dawiki ograniczaj prd elektrod. Za-
107
miast dawikw mona take stosowa transformatory o powikszonej
reaktancji wewntrznej.
Zjawisko nieliniowoci charakterystyki magnesowania jest nieod-
czn cech obwodw z rdzeniem magnetycznym i w klasycznych trans-
formatorach energetycznych staramy si minimalizowa jego wpyw na
charakterystyki transformatora. W ukadzie zintegrowanym wykorzystano
wysze harmoniczne napi indukowanych w rdzeniach transformatorw
roboczych do zaponu wyadowania [5, 6, 89, 90, 102, 104, 183, 188].
Przykadowe rozwizanie ukadu zintegrowanego prezentuje rys. 4.4.
W podstawowym rozwizaniu ukadu zintegrowanego trzy jednofa-
zowe transformatory robocze, o obwodach magnetycznych zapewniaj-
cych swobodne drogi powrotne dla wyszych harmonicznych strumienia
magnetycznego, s zasilane z symetrycznej sieci trjfazowej.

Rys. 4.4. Zintegrowany ukad zasilania reaktora plazmowego ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym
Zarwno uzwojenia pierwotne jak i wtrne transformatorw s po-
czone w gwiazd, przy czym zaciski uzwoje wtrnych s doczone do
108
elektrod reaktora plazmowego. Czwarty transformator, zwany zapono-
wym, jest wczony na napicie U
NN1
, jakie indukuje si pomidzy punk-
tem neutralnym N trjfazowej sieci zasilajcej i punktem gwiazdowym N
1

uzwoje pierwotnych transformatorw roboczych (Rys. 4.4 i 4.6). Napi-
cie na wyjciu transformatora zaponowego ma warto wystarczajca do
zjonizowania przestrzeni midzyelektrodowej, umoliwiajc zapon wy-
adowania midzy elektrodami gwnymi reaktora. Po zaponie wyado-
wanie jest przejmowane i podtrzymywane przez transformatory robocze,
ktre s zaprojektowane i zbudowane na napicie kilkanacie razy nisze
od napicia zaponu. Trzy razy wiksza czstotliwo napicia zapono-
wego, w stosunku do napicia pracy, poprawia skuteczno zaponu
i skraca przerwy bezprdowe.
Rys. 4.5. Zdjcie wntrza zasilacza zintegrowanego o mocy 5kW
Istotn cech ukadu zintegrowanego jest moliwo ksztatowania
i dopasowania jego charakterystyki zewntrznej do potrzeb reaktora pla-
zmowego [148]. Podstawowe cechy zintegrowanego ukadu zasilania
zostan przeledzone na podstawie schematu zastpczego, przedstawio-
nego na rysunku 4.6.
109

Rys. 4.6 Schemat zastpczy ukadu zintegrowanego
Przy zasilaniu uzwoje pierwotnych transformatorw roboczych trj-
fazowym napiciem sinusoidalnym (u
A
, u
B
, u
C
) nieliniowe charakterysty-
ki magnesowania rdzeni powoduj, e prd magnesujcy jest odksztaco-
ny i dla fazy A moe by zapisany jako:
... 7 sin 5 sin sin ) (
7 5 1
+ + = t I t I t I t i
m m m A

. (4.1)
Tak odksztacony prd magnesujcy indukuje w rdzeniu jednofazowego
transformatora odksztacone strumienie magnetyczne:
... 9 sin 3 sin sin
9 3 1
+ + + = t t t
t
(4.2)
W transformatorach jednofazowych wysze harmoniczne strumienia ma-
gnetycznego maj swobodne drogi powrotne i dziki temu osigaj
znaczne wartoci. W indukowanym przez odksztacony strumie
t
na-
piciu fazowym u
a1
(rys. 4.6) moemy uwzgldni tylko pierwsz i trze-
ci harmoniczn, poniewa dziewita stanowi zaledwie 1% podstawowej
harmonicznej, i dla fazy A zapisa:
t U t U u u u
m m h a h a a
3 sin sin
3 1 3 1 1
= = .
Dla strony pierwotnej ukadu z rys. 4.6 zapiszemy:
h c h c C NN
h b h b B NN
h a h a A NN
u u u u
u u u u
u u u u
3 1 1
3 1 1
3 1 1
+ =
+ =
+ =
. (4.3)
110
Po dodaniu rwna (4.3) stronami oraz uwzgldniajc, e:
3 3 3 3
1 1 1
0
0
u u u u
u u u
u u u
h c h b h a
h c h b h a
C B A
= = =
= + +
= + +
,
otrzymamy:
3 1
u u
NN
=
(4.4)
t U u
m NN
3 sin
3 1
= . (4.5)
Warto skuteczna napicia, pomidzy punktami neutralnymi ukadu,
wynosi:
h Fe NN
B A N f U
3 1
2 3
1
=
, (4.6)
gdzie: f czstotliwo sieci zasilajcej,
N
1
liczba zwojw uzwojenia pierwotnego transformatora,
A
Fe
pole przekroju rdzenia,
B
3h
indukcja trzeciej harmonicznej.
Warto trzeciej harmonicznej indukcji magnetycznej okrelona jest
stanem nasycenia oraz ksztatem charakterystyki magnesowania B=f(H)
transformatora roboczego. Stopie nasycenia odnosi si do amplitudy
pierwszej harmonicznej indukcji B
1h
, okrelonej wartoci napicia zasila-
jcego. Warto indukcji trzeciej harmonicznej moemy wyznaczy anali-
tycznie odpowiednio aproksymujc krzyw magnesowania. W praktyce,
poniewa wysoka dokadno obliczenia wartoci napicia U
NN
nie jest
konieczna i mona dopuci dosy szeroki przedzia jego zmiennoci
(10%), warto trzeciej harmonicznej indukcji B
3h
mona okreli sza-
cunkowo. Dla indukcji B
1h
, stosowanych w transformatorach z przedziau
(1,52)T, warto trzeciej harmonicznej indukcji stanowi okoo 20%
pierwszej harmonicznej (B
3
0,2 B
1
). Napicie pomidzy punktami neu-
tralnymi wyniesie wic okoo 50% do 60% napicia fazowego strony
pierwotnej transformatorw:
111
f NN
U U
1 1
) 6 , 0 5 , 0 ( =
. (4.7)
Jeeli do zaciskw NN1 przyczymy jednofazowy transformator o od-
powiedniej przekadni, to na jego zaciskach wyjciowych otrzymamy
napicie potrojonej czstotliwoci o wymaganej dla zaponu wartoci.
Charakterystyka zewntrzna tak wczonego transformatora (U
2
= f(I
2
)
przy U
1
= const), bdzie tak samo podatna jak magnetycznego potrajacza
czstotliwoci i moe by on wykorzystany do zaponu reaktorw pla-
zmowych. Napicie zaponu jest 5 10 razy wysze od napicia pracy
reaktora plazmowego i dlatego stosuje si ukady z wydzielonym trans-
formatorem zaponowym, cho teoretycznie moliwa jest wsppraca
uzwoje roboczych i zaponowych umieszczonych na jednym rdzeniu,
pod warunkiem zastosowania odpowiedniej izolacji [6].
W stanie jaowym ukadu zasilania, tj. gdy midzy elektrodami reak-
tora plazmowego uk nie ponie, amplituda napicia transformatora za-
ponowego (150 Hz), w kolejnych pokresach napicia zasilajcego, su-
muje si z amplitud napicia kadej fazy trjfazowego transformatora
roboczego (50 Hz). Stan jaowy ukadu odwzorowuje schemat zastpczy
na rys. 4.7a. Prd transformatora zaponowego nie przekracza 1% prdu
roboczego elektrod i w analizie cyklu pracy reaktora, ga zaponowa
moe by pominita, a schemat zastpczy uproci si do postaci b)
z rys. 4.7, a nawet, z uwagi na symetri, do schematu jednofazowego
(Rys. 4.7c). Wartoci chwilowe napi fazowych strony wtrnej mona
zapisa nastpujco:
t U t U u
t U t U u
t U t U u
zm m C
zm m B
zm m A



3 sin )
3
2
sin(
3 sin )
3
2
sin(
3 sin sin
+ + =
+ =
+ =
, (4.8)
gdzie: U
m
amplituda napicia wtrnego fazowego transformatorw ro-
boczych, U
zm
amplituda napicia wtrnego transformatora zaponowe-
go.
112

a) b)

c)

Rys. 4.7. Schemat zastpczy ukadu
zintegrowanego: a) w stanie jaowym,
b) podczas wyadowa, c) schemat
jednofazowy, gdzie: L
w
indukcyjno
wewntrzna transformatorw robo-
czych, L
z
indukcyjno obwodu za-
ponowego, u
p
warto chwilowa
napicia przewodowego, R

rezystan-
cja zastpcza uku
Chwilowe przebiegi napi transformatorw roboczych i transforma-
tora zaponowego w stanie jaowym i podczas pierwszego cyklu pracy
reaktora przedstawiono na rysunku 4.8. Przed zaponem maksymalne na-
picie wystpuje midzy elektrod zaponow, umieszczon w rodku
trjkta wyznaczonego przez elektrody robocze, a poszczeglnymi elek-
trodami roboczymi z czstotliwoci 300 Hz. Z chwil wystpienia kolej-
nego zaponu (po czasie nie duszym ni 1,7 ms od zganicia wyado-
wania) napicie transformatora zaponowego maleje do wartoci napicia
fazowego transformatorw roboczych i rozpoczyna si kolejny cykl pracy
reaktora. Kiedy po czasie T
c
uk przeniesie si, pod wpywem przepywu
gazu, w stref ganicia, koczy si cykl pracy reaktora, wyadowanie
ganie, wzrasta natychmiast napicie zaponu, nastpuje zapon i kolejny
cykl pracy reaktora.
Czas potrzebny do odbudowy napicia zaponu jest nie duszy ni
1/12 okresu przy czstotliwoci 50 Hz, tj. okoo 1,7 ms. Czas cyklu pra-
113
cy zaley od wymiarw i ksztatu elektrod oraz prdkoci przepywu
gazu i trwa od kilku do kilkunastu okresw.
a)









b)







c)




przed zaponem
reaktora
T
c
I cykl pracy II cykl pracy
u
rA u
rB
u
rC
a)
przerwa bezprdowa
Uz
3
UA
UC
UB

t
o
u
zap
u
zap
u
r

Rys. 4.8. Przebiegi chwilowych wartoci napi w ukadzie zintegrowanym:
a) napicia na elektrodach roboczych (50 Hz), b) napicie transformatora zapo-
nowego 150 Hz, c) najwiksza warto napicia midzy elektrod robocz
i zaponow, (na rysunku, z uwagi na jego przejrzysto, nie dotrzymano pro-
porcji midzy napiciem zaponu a napiciem pracy)
114
Uzwojenia wtrne transformatora zaponowego mona tak poczy
wzgldem uzwoje wtrnych transformatorw roboczych, e amplitudy
ich napi bd si na elektrodach reaktora plazmowego dodawa lub
odejmowa. Odpowiadajce obu tym poczeniom wykresy fazorowe dla
pierwszej harmonicznej napicia roboczego (50 Hz) i pierwszej harmo-
nicznej napicia zaponu 150 Hz w stanie jaowym dla czasu t = t
0
(rys.
4.7c) i w czasie przerw bezprdowych przedstawia rysunek 4.9. Pocze-
nie uzwoje, ktremu odpowiada wykres z rysunku 4.9 a daje wysze
napicie zaponu i takie powinno by realizowane w praktyce.
U
A
U
z
U
z
U
z
U
B
U
C
U
A
U
B
U
C
a)
b)
U
z
U
z
U
C
+ U
z
U
B
+ U
z
U
A
+ U
z
U
z
U
A
+ U
z
U
C
+ U
z
U
B
+ U
z

Rys. 4.9. Wykres fazorowy napi na zaciskach elektrod reaktora zasilanego
ukadem zintegrowanym w stanie jaowym: a) przy poczeniu zgodnym uzwo-
je transformatora zaponowego wzgldem uzwoje transformatora roboczego,
b) przy poczeniu przeciwnym
Przykadow charakterystyk prdowo-napiciow reaktora pla-
zmowego, zasilanego z ukadu zintegrowanego (napicie pary elektrod,
w funkcji prdu elektrod U = f(I)), przedstawiono na rysunku 4.10 a. Dla
porwnania przedstawiono na tym samym rysunku charakterystyk ze-
115
wntrzn reaktora plazmowego, zasilanego z transformatora z dawikami
(rys.4.10b).
U
z
U
20
U

I
z
I

Charakterystyka
transformatora
zaponowego
Charakterystyka
transformatora
roboczego
a)
I
2
U
2

S
T
S
R

U

I

b)
U
z
=U
20
U
d
U
U
2
I
2

S
T
= (510)S
R

Rys. 4.10. Charakterystyka zewntrzna reaktora plazmowego: a) zasilanego z
ukadu zintegrowanego, b) zasilanego z transformatora z dawikami; U strata
napicia w transformatorze, U
d
spadek napicia na dawiku ograniczajcym
prd elektrod
Moc pozorna transformatora S
T
, w ukadzie z dawikami ogranicza-
jcymi prd (Rys. 4.10 b), jest okoo 510 razy wiksza od mocy reakto-
ra plazmowego, S
R
. Natomiast w ukadzie zintegrowanym moc transfor-
matora roboczego jest w przyblieniu rwna mocy reaktora ze lizgaj-
cym si wyadowaniem ukowym (Rys. 4.10 a). Tak due zmniejszenie
mocy i obnienie napicia transformatora roboczego w ukadzie zinte-
growanym przynosi mniejsze zuycie materiaw, obnia koszty budowy
oraz podwysza sprawno energetyczn transformatora.
Gwn cech ukadu zintegrowanego jest moliwo dopasowania
jego charakterystyki prdowo-napiciowej do wymaga reaktora pla-
zmowego. Ide metody ksztatowania charakterystyki zewntrznej uka-
du zasilania reaktora do plazmowej obrbki gazw, przedstawia
rys. 4.11. Dobierajc na etapie projektowania poziom indukcji w rdze-
niach transformatorw zasilacza oraz warto reaktancji rozproszenia
116
U
2

U
z

1
2
3
a b c
I
2n
Iza Izb Izc
U
21

U
22

U
23

U1=const
Ba<Bb<Bc
Xz1<Xz2<Xz3

uzwoje, mona wpywa zarwno na nachylenie charakterystyki ze-
wntrznej obwodu zasilajcego elektrody robocze, jak i transformatora
zaponowego.
Rys. 4.11. Idea metody wyznaczania charakterystyki prdowo-napiciowej
U
2
= f(I
2
) zintegrowanego ukadu zasilania: 1,2 i 3 charakterystyki transforma-
torw roboczych dla rnych wartoci reaktancji zwarcia; a, b i c charaktery-
styki transformatora zaponowego dla trzech wartoci indukcji w rdzeniach
transformatorw roboczych (na rysunku nie zachowano proporcji midzy pr-
dem elektrod roboczych a prdem transformatora zaponowego)
Przedstawiona idea ukadu zintegrowanego moe by wykorzystana
take w ukadach bez dostpnego punktu neutralnego sieci zasilajcej
(sie trjprzewodowa), wwczas rol punktu neutralnego odgrywa
sztuczny punkt gwiazdowy, ktry moe by zrealizowany z trzech po-
czonych w gwiazd kondensatorw (rys. 4. 12). W ukadzie z rysunku
4.12 kondensatory su do kompensacji mocy biernej ukadu a take
zwikszaj amplitud napicia zaponu.
117
Inne rozwizania ukadu zintegrowanego do zasilania reaktorw sze-
ciu i dziewicioelektrodowych przedstawiaj rysunki 4.13 i 4.14.

Rys. 4.12. Zintegrowany ukad zasilania ze sztucznym punktem neutralnym
utworzonym z kondensatorw
Transformatory robocze w ukadzie z rysunku 4.13 maj dzielone
uzwojenia wtrne. W ten sposb ukad moe suy do zasilania reaktora
6-elektrodowego lub dwch reaktorw 3-elektrodowych pracujcych sze-
regowo dla przepywu gazu roboczego.

Rys. 4.13. Ukad zintegrowany zasilajcy reaktor szecioelektrodowy
118
Ukad zasilania z rys. 4.14, dziki trjstopniowemu poczeniu elek-
trod roboczych (dwie z trzech elektrod roboczych i jedna elektroda zapo-
nowa w kadym stopniu), pozwala na zwikszenie przestrzeni objtej
wyadowaniem i moe mie zastosowanie do utylizacji gazw wyloto-
wych przy duych ich przepywach tak, aby przeduy czas przebywania
zanieczyszczonego gazu w przestrzeni objtej plazm.


Rys. 4.14. Ukad zintegrowany zasilajcy reaktor dziewicioelektrodowy
4.2.1. Transformator piciokolumnowy w ukadzie zasilania
reaktorw ukowych
Do zasilania ukowych reaktorw plazmowych rnych typw,
a w szczeglnoci wieloelektrodowych reaktorw plazmy lizgajcego si
uku elektrycznego z wydzielonymi ukadami zaponowymi, mog by
stosowane transformatory o rdzeniach piciokolumnowych [129, 156,
167]. Podobnie jak przedstawione w poprzednim rozdziale ukady zinte-
growane, transformator piciokolumnowy musi realizowa podstawowe
funkcje zasilacza, do ktrych nale:
119
wstpna jonizacja i zapon wyadowania midzy elektrodami roboczy-
mi reaktora plazmowego,
podtrzymanie wyadowania elektrycznego midzy elektrodami robo-
czymi,
zapewnienie cyklicznej pracy reaktora plazmowego,
ograniczenie wartoci prdu zwarcia.
Rnice, jakie wystpuj midzy ukadem zintegrowanym a ukadem
z transformatorem piciokolumnowym dotycz sposobu realizacji wy-
mienionych funkcji. W ukadach zintegrowanych funkcje zwizane z pod-
trzymaniem wyadowania oraz ograniczeniem prdu peni odpowiednio
zaprojektowane transformatory jednofazowe o swobodnych drogach po-
wrotnych dla strumienia magnetycznego. Natomiast wstpna jonizacja
i przebicie przestrzeni midzyelektrodowych realizowane s bd przez
dodatkowy, odpowiednio wczony, transformator zaponowy, bd przez
ukad elektroniczny. W transformatorze piciokolumnowym z uzwojo-
nymi jarzmami (kolumnami zewntrznymi) wszystkie wymienione zada-
nia s realizowane w jednym urzdzeniu.
Analizujc ukad zasilania z rdzeniem piciokolumnowym (rys.
4.15), mona w nim wyrni dwa obwody wtrne:
obwd zasilajcy elektrody robocze reaktora plazmowego,
obwd zaponu wyadowania,
ktre pracuj w zasadzie niezalenie.
Moc do reaktora plazmowego dostarczana jest przez obwd uzwoje
wtrnych, umieszczonych na wewntrznych kolumnach fazowych, ktry
zasila elektrody robocze reaktora plazmowego napiciem o wartoci wy-
maganej dla prowadzonego procesu plazmowego.
Aby ograniczy prd zwarcia, naley ksztatowa charakterystyk
zewntrzn transformatora, poprzez dobr reaktancji rozproszenia, ktra
zaley od budowy uzwoje pierwotnych i wtrnych oraz ich wzajemnego
rozmieszczenia na rdzeniu. Ukad zaponowy skada si z dwch uzwoje
wtrnych umieszczonych na kolumnach zewntrznych transformatora.
120

Rys. 4.15. Uzwojenia kolumn transformatora piciokolumnowego i jego sche-
mat elektryczny: 1 obwd pierwotny, 2 obwd wtrny 3 obwd zaponowy
Uzwojenia kolumn zewntrznych (zaponowe) mog pracowa jako
niezalene lub mog by czone szeregowo bd rwnolegle. czenie
szeregowe stosujemy w celu zwikszenia wartoci napicia zaponowego,
rwnolege, gdy zachodzi konieczno zwikszenia prdu iskry zapono-
wej, a praca niezalena moe mie miejsce przy zasilaniu dwch reakto-
rw z oddzielnymi elektrodami zaponowymi.
W celu zbadania waciwoci ukadw zasilania bazujcych na rdze-
niach piciokolumnowych zbudowano zasilacz (rys. 4.16) i zdjto jego
charakterystyki w rnych stanach pracy [129]. Transformator zosta
zbudowany z rdzeni zwijanych, wykonanych z blachy transformatorowej
ET-3. Zasadniczym zagadnieniem przy projektowaniu ukadw zasilania
z transformatorami 5-kolumnowymi, jest ksztatowanie charakterystyki
zewntrznej uzwoje kolumn zewntrznych, penicych funkcj obwodu
zaponowego. Napicie indukowane w tych uzwojeniach musi mie war-
to niezbdn do zaponu wyadowania, a jednoczenie ich charaktery-
styka prdowo-napiciowa musi by podatna (mikka) tak, aby prd
w uzwojeniu zaponowym by ograniczany do dowolnie niskiej wartoci
po przejciu wyadowania przez elektrody robocze tak, jak to dzieje si
w ukadzie zintegrowanym.
121

Rys. 4.16. Widok zasilacza reaktora plazmowego z rdzeniem 5-kolumnowym
Na rysunku 4.17 przedstawiono oscylogramy napi indukowanych
w zewntrznych kolumnach transformatora piciokolumnowego, a na
rysunku 4.18 charakterystyki prdowo- napiciowe uzwoje kolumn ze-
wntrznych, dla rnych pocze uzwoje obu kolumn i uzwojenia fa-
zowego. Niezalenie od sposobu poczenia uzwoje zaponowych uzy-
skane charakterystyki s bardzo mikkie. Napicie stanu jaowego wynosi
od 3,7 kV do 9,5 kV a prd zwarcia od 4 mA do 8 mA. Oznacza to, e
z chwil wystpienia wyadowania na elektrodzie zaponowej reaktora
plazmowego, napicie obniy si do napicia elektrod roboczych
(0,21,2 kV), by ponownie wzrosn do wartoci stanu jaowego w ko-
lejnym cyklu pracy reaktora.

Rys. 4.17. Przebiegi napi zmierzonych na uzwojeniach kolumn zewntrznych
transformatora 5-kolumnowego w stanie jaowym
122

Rys. 4.18. Charakterystyki zewntrzne obwodu zaponowego zasilacza dla r-
nych pocze uzwoje: a jednego uzwojenia kolumny zewntrznej, b
rwnolegego poczenia uzwoje kolumn zewntrznych, c szeregowego po-
czenia uzwoje kolumn zewntrznych, d szeregowego poczenia uzwoje
kolumn zewntrznych i uzwojenia fazowego
Mimo, e napicia zaponowe s znacznie odksztacone wyszymi
nieparzystymi harmonicznymi, a w szczeglnoci 3, 5, 7, 9 i 11 (rys.
4.19), to nie wpywa to negatywnie na zapon wyadowania w reaktorze
plazmowym ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym.

Rys. 4.19. Spektrum wyszych harmonicznych w napiciu uzwojenia kolumny
zewntrznej
123
Warto skuteczna odksztaconego napicia indukowanego w kolum-
nie zewntrznej wynosi 730 V, i jest poniej wymaganej do zjonizowania
przestrzeni midzyelektrodowej, ale chwilowe wartoci maksymalne tego
napicia osigaj nawet 2 kV, co wystarcza do zjonizowania niewielkich
przerw midzyelektrodowych wystpujcych w strefie zaponu reaktora
plazmowego. Na rysunku 4.20 przedstawiono przebiegi napi i prdw
zasilacza z rdzeniem 5-kolumnowym, obcionego reaktorem plazmo-
wym.
a) b)
Rys. 4.20. Przebiegi napi fazowych (a) i prdw fazowych (b) strony wtrnej
zasilacza przy obcieniu reaktorem plazmowym
Napicia fazowe strony wtrnej zasilacza, s odksztacone od sinuso-
idy (rys. 4.20 a), natomiast prd strony wtrnej wszystkich faz zasilacza
zachowuje przebieg sinusoidalny (rys. 4.20 b). W oscylogramach prdu
nie obserwuje si przerw bezprdowych w okolicach przejcia prdu
przez zero, charakterystycznych dla ukw intensywnie chodzonych, oraz
nie wystpuje przesunicie fazowe midzy prdem a napiciem. Wskazu-
je to na rezystancyjny charakter odbiornika, jakim jest trjfazowy reaktor
plazmowy ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym. Za korzystny
naley uzna fakt, e zwarcie uzwoje kolumn zewntrznych zasilacza
nie wpywa na wartoci napi zasilajcych elektrody robocze reaktora
plazmowego.
124
Zbudowany zasilacz i przeprowadzone badania pozwoliy stwierdzi,
e strumienie zamykajce si w kolumnach zewntrznych transformatora
piciokolumnowego mog by wykorzystane do zaponu wyadowania
w reaktorach plazmowych.
Charakterystyka prdowo-napiciowa uzwojonych kolumn zewntrz-
nych transformatora jest na tyle podatna, e uniemoliwia wystpienie
w ukadzie zaponowym wyadowa o duej mocy, co zapobiega przeci-
eniu prdowemu i termicznemu ukadu zaponowego oraz uzwoje ko-
lumn zewntrznych transformatora. Naturalna wsppraca ukadu zapo-
nowego z ukadem zasilania elektrod roboczych, zapewniajc cykliczny
zapon wyadowania i stabiln prac reaktora bez wystpowania przerw
bezprdowych, jest istotn cech zasilacza transformatorowego bazujce-
go na rdzeniu 5-kolumnowym.
Wyadowanie iskrowe w ukadzie zaponowym zachodzi wielokrot-
nie w czasie jednego cyklu pracy reaktora, co poprawia warunki koniecz-
ne do zaponu wyadowania na elektrodach roboczych. Mona zatem
stwierdzi, e ukady transformatorowe na rdzeniach piciokolumnowych
stanowi dobre rda zasilania dla reaktorw plazmy lizgajcego si
uku elektrycznego, a oprcz wyej wymienionych cech, charakteryzuj
si prost budow, pewnoci dziaania i niskimi kosztami eksploatacyj-
nymi, co predestynuje je szczeglnie do zastosowa przemysowych
[121, 129, 163, 175, 178].
4.3. Ukady zasilania reaktorw z wyadowaniami barierowymi
Wydajno generatora ozonu zaley od elektrycznych parametrw
ukadu zasilajcego takich jak: warto napicia, jego czstotliwo
i ksztat (rozdzia 3.1, str. 68). Podwyszenie czstotliwoci napicia zasi-
lajcego jest jednym ze sposobw zwikszenia wydajnoci reaktora
z wyadowaniami barierowymi, jednak konieczno wyposaenia ukadu
w dodatkowe ukady przeksztacania czstotliwoci, zwiksza sumarycz-
125
ne straty mocy w systemie i czyni proces generacji ozonu mniej spraw-
nym, ni przy czstotliwoci sieciowej (rozdzia 4.5) [2, 88, 98, 99, 101].
W ukadach zasilania reaktorw plazmowych z wyadowaniami ba-
rierowymi, wykorzystuje si transformatory pracujce w zakresie nieli-
niowoci ich charakterystyki magnesowania w konfiguracji mnonikowej,
w ktrej czstotliwo robocza jest krotnoci czstotliwoci podstawo-
wej. Podwyszenie czstotliwoci wynika z ukadu pocze transforma-
torw jednofazowych, o rdzeniach zapewniajcych swobodne drogi po-
wrotne dla wyszych harmonicznych strumienia magnetycznego. Podsta-
wowy schemat magnetycznego m-krotnika czstotliwoci przedstawiono
na rysunku 4.21. W praktyce przemysowej wykorzystywane s mnoniki
magnetyczne o krotnociach powielania czstotliwoci rwnych m = 3
(potrajacze), m = 5 (piciokrotniki) i m = 9 (dziwiciokrotniki) [212,
213]. Jak wynika z przedstawionej na rysunku 4.21 struktury, mnonik
magnetyczny prezentuje pen analogi z transformatorem.

Rys. 4.21. Schemat magnetycznego mnonika czstotliwoci o krotnoci powie-
lania rwnej, m liczba faz mnonika, z
1
i z
2
odpowiednio liczba zwojw
uzwojenia pierwotnego i wtrnego
Jednake zjawiska, bdce podstaw dziaania mnonika magnetycz-
nego s inne ni w transformatorze. Przy sinusoidalnym napiciu zasila-
jcym, z uwagi na nieliniowo charakterystyki magnesowania, koniecz-
no pracy w zakresie bliskim nasycenia (kolano charakterystyki magne-
sowania B = f(H)) oraz brak przewodu neutralnego, prd magnesujcy
126
jest odksztacony i nie zawiera harmonicznych o kolejnoci zerowej (dla
m = 3, s to harmoniczne rzdu km, gdzie k = 1, 3, 5, 7...). Natomiast
strumienie magnetyczne w rdzeniach faz mnonika, zawieraj harmo-
niczne kolejnoci zerowej. W jednofazowych rdzeniach mnonika, o za-
mknitych drogach dla strumienia, harmoniczne te mog osiga znaczne
wartoci.
Na rysunku 4.22 przedstawiono zasilacz ozonatora z magnetycznym
mnonikiem czstotliwoci, w ktrym regulacja napicia wyjciowego
odbywa si za pomoc zmiany impedancji Z
N
wczonej w przewd neu-
tralny mnonika.

Rys. 4.22. Mnonik magnetyczny jako zasilacz reaktora z wyadowaniami barie-
rowymi
Projektujc uzwojenia wtrne mnonika, na napicie pracy ozonato-
ra, uzyskuje si w jednym urzdzeniu podwyszenie czstotliwoci pracy
reaktora, regulacj napicia i jego podwyszenie. Ponadto, pojemnocio-
wy charakter ozonatora sprawia, e zbdne staj si, wymagane w innych
zastosowaniach mnonikw, kondensatory do kompensacji stosunkowo
duej skadowej biernej mocy na wejciu zasilacza. Jeli zasilacz z rysun-
ku 4.22 jest potrajaczem czstotliwoci (m = 3), to trzecia harmoniczna
strumienia
3h
przenosi moc z sieci do odbiornika, za pierwsza
1h

stwarza warunki do generacji trzeciej.
Napicie na zaciskach wtrnych uzwoje potrajacza, poczonych
w otwarty trjkt, zawiera tylko harmoniczne podzielne przez 3 i jest
praktycznie sinusoidalne, poniewa kolejna, 9-ta harmoniczna, stanowi
127
zaledwie 1% pierwszej i moe by pominita. Warto skuteczna napicia
wyjciowego w stanie jaowym potrajacza czstotliwoci wyraa si po-
przez:
30 2 3 30 20
2 3 3 B A z f U U
Fe h
= =
, (4.9)
gdzie: U
30h
warto skuteczna 3 harmonicznej napicia indukowanej
w fazie uzwojenia wtrnego mnonika, B
30
amplituda 3 harmonicznej
indukcji magnetycznej w stanie jaowym, A
Fe
przekrj rdzenia, f
3
cz-
stotliwo wyjciowa, z
2
liczba zwojw uzwojenia wtrnego.
Warto 3-ej harmonicznej indukcji magnetycznej B
3h
, zaley od
poziomu nasycenia rdzenia oraz od ksztatu charakterystyki magnesowa-
nia B = f(H). Dla rdzeni magnetycznych zbudowanych z blachy elektro-
technicznej, i dla pierwszej harmonicznej indukcji B
1
z zakresu od 1,8 do
2,3 T, trzecia harmoniczna indukcji w stanie jaowym moe by wyzna-
czona jako B
30
= 0,21 B
1
. W stanie obcienia, prd wtrny potrajacza
indukuje dodatkowy strumie o potrojonej czstotliwoci, ktry moe
osabia lub wzmacnia strumie indukowany przez prd pierwotny.
Wpyw pojemnociowego obcienia, jakie prezentuje sob reaktor z wy-
adowaniami barierowymi, na trzeci harmoniczn indukcji i przebieg
wypadkowej indukcji B(t) w rdzeniu, przedstawia rysunek 4.23. Obcie-
nie i jego charakter wpywaj zarwno na amplitud jak i na faz 3-ej
harmonicznej indukcji w rdzeniu potrajacza co powoduje, e napicie
wtrne mnonika magnetycznego zmienia si wraz charakterem obcie-
nia znacznie bardziej ni ma to miejsce w klasycznym transformatorze,
w ktrym punkt pracy zaley tylko od wartoci napicia zasilajcego
(Rys. 4.24b). Wpyw charakteru obcienia na charakterystyk ze-
wntrzn potrajacza mona przeledzi przyjmujc uproszczony schemat
zastpczy, przedstawiony na rysunku 4.24a, w ktrym mnonik zastpio-
no rzeczywistym rdem napicia o sile elektromotorycznej U
20
i reak-
tancji wewntrznej X
2i
. Zakadajc, e reaktancja wewntrzna mnonika
jest funkcja prdu obcienia X
2i
= f(I
2
) oraz, e impedancja obcienia
128
ma charakter rezystancyjno-pojemnociowy, wedug: Z = R
2
j X
2
, cha-
rakterystyka prdowo-napiciowa U
2
= f(I
2
) potrajacza w stanie obcie-
nia moe by wyraona nastpujco:

+
|
|

\
|
=
2
2
2 2
2
2
20 2
1 1
z z
I
I
I
I
U U
, (4.10)
gdzie: I
2
prd obcienia, I
2z
prd zwarcia, kt fazowy obcienia.

Rys. 4.23. Wpyw pojemnociowego obcienia ( = 0,5
poj
) na przebieg indukcji
magnetycznej w rdzeniu B(t): B
1
(t) pierwsza harmoniczna, B
30
(t) 3 harmo-
niczna w stanie jaowym, B
3
(t) 3 harmoniczna przy obcieniu
a) b)

Rys. 4.24. Schemat zastpczy zasilacza mnonikowego przy obcieniu (a),
b) charakterystyki prdowo-napiciowe dla: 1 obcienie indukcyjne,
2 rezystancyjne, 3 pojemnociowe
129
Jak wynika z analizy (rys. 4.24b), dla pojemnociowego obcienia,
jakie prezentuje sob reaktor plazmowy z wyadowaniami barierowymi,
charakterystyka zewntrzna (krzywa oznaczona cyfr 3), jest sztywna
w caym zakresie zmian prdu obcienia. Ze wzgldu na domagnesowu-
jcy wpyw obcienia pojemnociowego, sztywna charakterystyka ze-
wntrzna zasilacza moe by uzyskana przy niszych wartociach 1-ej
harmonicznej indukcji magnetycznej, ni ma to miejsce przy obcie-
niach indukcyjno-rezystancyjnych [88, 99]. Pociga to za sob rwnie
znacznie mniejszy pobr prdu pierwotnego i w konsekwencji mniejsze
wymiary uzwoje zasilacza. Mona stwierdzi, e magnetyczne mnoniki
czstotliwoci stanowi dobre rda zasilania dla reaktorw plazmowych
z wyadowaniami barierowymi, co zostao zweryfikowane poprzez bada-
nia modeli laboratoryjnych takich zasilaczy oraz praktyczne wykorzysta-
nie w ukadzie zasilania ozonatora zainstalowanego w Wytwrni Wd
Mineralnych w Grodzisku Wielkopolskim [214].
4.4. Ukady przeksztatnikowe
Zastosowanie statycznych pprzewodnikowych przetwornic napicia
i czstotliwoci, do zasilania reaktorw plazmowych, jest coraz bardziej
powszechne i obiecujce, ze wzgldu na olbrzymi i wci dokonujcy si
postp w dziedzinie technologii pprzewodnikowych, zwaszcza duych
mocy.
Do zasilania ukowych reaktorw plazmowych stosuje si dwie pod-
stawowe konstrukcje [215]:
z mostkiem sterowanym po stronie wtrnej transformatora dopasowu-
jcego (rys. 4.25a),
ze sterownikiem prdu przemiennego po stronie pierwotnej transforma-
tora dopasowujcego (rys. 4.25b).
Inne rozwizania pprzewodnikowych ukadw zasilania urzdze
ukowych s modyfikacjami wyej wymienionych konstrukcji.
130
a)

b)



Rys. 4.25. Podstawowe konstrukcje pprzewodnikowych ukadw zasilania
reaktorw plazmy ukowej; a) ukad z mostkiem sterowanym po stronie wtrnej
transformatora, b) ukad ze sterownikiem prdu przemiennego po stronie pier-
wotnej transformatora
Ukady z mostkiem sterowanym po stronie wtrnej transformatora
znalazy zastosowanie w przemyle elektrotermicznym do zasilania pie-
cw ukowych i plazmowo-ukowych. Przykadowe rozwizanie takiej
konstrukcji przedstawiono na rysunku 4.26.

Rys. 4.26. Ukad z mostkiem tyrystorowym i dodatkowym rdem napicia
131
Jest to ukad zoony z dwch transformatorw, w ktrym transfor-
mator gwny zasila tyrystorowy mostek szeciopulsowy, bdcy elemen-
tem sterujcym wartoci prdu wyadowania ukowego. Dla ogranicze-
nia indukcyjnoci w obwodzie z wyadowaniem, stosuje si dodatkowe
rdo napicia w postaci niesterowalnego szeciopulsowego mostka dio-
dowego. Mostek ten zasilany jest z dodatkowego transformatora pomoc-
niczego o maej mocy i tak dobranej reaktancji rozproszenia, by zapewni
intensywne opadanie charakterystyki zewntrznej. Gdy prowadzony pro-
ces technologiczny wymaga wygadzonego prdu wyadowania ukowe-
go, dodatkowo do obwodu wprowadza si dawik, jak to przestawiono na
rysunku 4.26.
Ukad zasilania reaktora plazmy ukowej, w ktrym sterowanie pro-
cesem plazmowym i ksztatowanie charakterystyki zewntrznej odbywa
si po stronie pierwotnej transformatora dopasowujcego przedstawia
rysunek 4.27.

Rys. 4.27. Ukad ze sterownikiem tyrystorowym po pierwotnej stronie transfor-
matora
W tego typu ukadach, najczciej we wszystkich trzech fazach, po
stronie pierwotnej transformatora umieszczone s sterowniki tyrystorowe,
za po stronie wtrnej znajduje si szeciopulsowy mostek diodowy
i dawik zapewniajcy cigo prdu i jego wygadzenie. W celu zapew-
nienia minimalnego prdu wyadowania, w obwd po stronie pierwotnej,
132
wcza si rwnolegle do sterownikw dodatkowe dawiki a czasem sto-
suje si wielostopniowe poczenia tego typu, ograniczajc w ten sposb
pulsacje prdu wyadowania. Do podstawowych wad omwionych uka-
dw pprzewodnikowych zaliczy naley przede wszystkim due roz-
miary, co istotnie ogranicza liczb moliwych zastosowa. Wady tej po-
zbawione s pprzewodnikowe ukady zasilania odbiornikw ukowych
z poredniczcym obwodem podwyszonej czstotliwoci. Rozwizanie
takie pozwala rwnie na dokadniejsz regulacj prdu wyadowania
i polepsza dynamik ukadu zasilania.
Wprowadzenie obwodu o podwyszonej czstotliwoci umoliwia,
przede wszystkim, zmniejszenie masy i objtoci elementw indukcyj-
nych, tj. transformatora dopasowujcego i dawika w obwodzie z wya-
dowaniem. Zwiksza si rwnie sprawno urzdzenia ze wzgldu na
mniejsze straty w miedzi transformatora. Schemat blokowy takiego uka-
du przedstawia rysunek 4.28. Gwne elementy ukadu to: prostownik,
transformator podwyszajcy i falownik dajcy na wyjciu napicie
przemienne o podwyszonej czstotliwoci. W ukadach z falownikami
stosuje si czstotliwoci w granicach od 500 Hz do 20 kHz. Uzyskane
z falownika napicie, jest transformowane do wymaganej wartoci i na-
stpnie kolejny raz prostowane.

Rys. 4.28. Schemat blokowy ukadu z poredniczcym obwodem podwyszonej
czstotliwoci: P1 prostownik wejciowy, FWE filtr wejciowy, FAL
falownik, Tr transformator, P2 prostownik wyjciowy, FWY filtr wyjcio-
wy
Na rysunku 4.29 przedstawiono obwd gwny falownika szerego-
wego z diodami zwrotnymi, jaki znajduje zastosowanie w spawarkach do
spawania rcznego elektrod otulon i ukiem krytym.
133

Rys. 4.29. Schemat obwodu gwnego zasilacza w ukadzie falownika prdu
z diodami zwrotnymi
Zalet ukadu z rys. 4.29 jest moliwo zwikszania prdu w obwo-
dzie z ukiem przez rwnolege czenie kilku falownikw. Odbywa si to
jednak kosztem zwikszenia masy urzdzenia i skomplikowaniem obwo-
du sterowania i regulacji. Istotn wad ukadu, jest wystpowanie po
stronie pierwotnej zasilacza obwodu rezonansowego, skadajcego si
z transformatora i kondensatorw oraz due wartoci skuteczne prdu po
stronie pierwotnej, wynikajce ze stosowania transformatorw ze szczeli-
n powietrzn.
Inne rozwizanie ukadu zasilania z obwodem poredniczcym
o podwyszonej czstotliwoci, wykorzystujce w swej konstrukcji fa-
lownik o konstrukcji fazowej, przedstawia rysunek 4.29. Napicie wyj-
ciowe tego falownika w niewielkim stopniu zaley od obcienia, co jest
szczeglnie korzystne przy pracy reaktorw plazmowych z rnymi ga-
zami roboczymi i przy rnej ich wydajnoci, w zalenoci od prowadzo-
nego procesu technologicznego. Ponadto, zalet ukadu jest lepsze wyko-
rzystanie transformatora, w porwnaniu z innymi ukadami pprzewod-
nikowymi, gdy przenosi on gwnie moc czynn. Gdy zawory energo-
elektroniczne ukadu wykonane s z tranzystorw, do sterowania i regula-
cji wykorzystuje si komparatory oraz regulatory prdu typu PI, co czyni
ukad mao skomplikowanym i niezawodnym.
134

Rys. 4.30. Ukad zasilania z falownikiem o komutacji fazowej
Ukady zasilania odbiornikw ukowych z poredniczcym obwodem
o podwyszonej czstotliwoci, mimo znacznego skomplikowania, znaj-
duj zastosowanie, przede wszystkim, w technologiach zwizanych z na-
pylaniem i natryskiwaniem plazmowym, gwnie ze wzgldu na mae
rozmiary.
4.5. Analiza mocy i sprawnoci wybranych transformatorowych
ukadw zasilania reaktorw plazmowych
Elementy wyadowcze, omawianych w rozdziale 3 reaktorw plazmy
nietermicznej z wyadowaniami barierowymi oraz ze lizgajcym si u-
kiem elektrycznym, s dla ukadu zasilania specyficznymi odbiornikami
nieliniowymi. Obok mocy czynnej, zwizanej z zachodzcymi w nich
procesami plazmo-chemicznymi i stratami, wystpuje w nich moc bierna
odksztacenia D, a w reaktorze z wyadowaniami barierowymi take moc
bierna przesunicia Q o charakterze pojemnociowym.
Uproszczon analiz strat mocy i porwnanie ukadw zasilania,
przeprowadzono dla ozonatora o mocy 160 kW, wydajnoci 10 kg O
3
/h
i koncentracji 18 g/m
3
(tabela 4.1) oraz dla reaktora plazmowego ze li-
zgajcym si ukiem o mocy 50 kW (tabela 4.2). Na podstawie danych
katalogowych elementw ukadw oszacowano wystpujce w nich straty
mocy w warunkach pracy znamionowej i wyznaczono dla kadego ukadu
moc czynn pobieran z sieci i sprawno.
135
4.5.1. Moc i sprawno wybranych ukadw zasilania reaktorw
z wyadowaniami barierowymi
Moc czynna P ozonatora wynika z wymaganej iloci ozonu wytwa-
rzanego przez generator, ktr zapewnia si przez odpowiedni liczb
rwnolegle poczonych elementw wyadowczych. Moc pojedynczego
elementu wyadowczego (rozdzia 3.1.2), zaley od wymiarw, waci-
woci materiaw uytych do jego budowy oraz wartoci napicia i cz-
stotliwoci rda zasilajcego. Najczciej stosowane w generatorach
ozonu elementy o konstrukcji rurowej maj moc czynn rzdu 350 W
i wydajno 60 g O
3
/kWh przy czstotliwoci 50 Hz i okoo 800 W
i 50 g/kWh przy 600 Hz, przy wytwarzaniu ozonu z powietrza. Liczba
elementw wyadowczych w jednym generatorze moe wynosi od 200
do 1000, a zatem moc czynna jednego generatora przemysowego moe
wynosi od 50kW do 900 kW. Wspczynnik mocy elementu wya-
dowczego zawiera si w granicach od 0,30,8.
Analiz strat mocy przeprowadzono dla trzech ukadw zasilania,
ktrych schematy blokowe przedstawiono na rysunku 4.31:
ukadu czstotliwoci sieciowej 50 Hz, zoonego z transformatora,
dawikw i autotransformatora do regulacji napicia,
ukadu tyrystorowego pracujcego przy czstotliwoci 600 Hz,
ukadu mnonikowego 150 Hz (rozdzia 4.4).
Aby zminimalizowa straty mocy i wymiary elementw ukadu zasilania,
kompensuje si moc biern pojemnociow dawikami. Po skompenso-
waniu prdu pojemnociowego ozonatora wspczynnik mocy zawiera
si w granicach 0,80,9 (mocy odksztacenia nie da si w prosty sposb
skompensowa), a to oznacza, e moc pozorna transformatora S
T
w uka-
dzie zasilania, musi by wiksza od mocy czynnej P o 1020%. Trans-
formator jest budowany na moc pozorn S i jego straty mocy P
T
, s do
niej proporcjonalne. Moc dawika kompensujcego Q
D
, jest bliska mocy
czynnej Q
D
= (0,71,2)P. Dawik jest take rdem strat mocy czynnej,
136
ktrych warto jest tego samego rzdu co straty w transformatorze. Jeli
w ukadzie jest autotransformator regulacyjny, to jest on rwnie rdem
strat P
AT
.

Rys.4.31. Schematy blokowe analizowanych ukadw zasilania reaktorw
z wyadowaniami barierowymi
W ukadach zasilania podwyszonej czstotliwoci (ukad prze-
ksztatnikowy), dawik i transformator s wymiarami geometrycznymi
nieco mniejsze, ale cakowite straty mocy s wysze ni w ukadzie cz-
stotliwoci sieciowej.
W ukadzie mnonikowym wystpuje tylko jeden magnetyczny po-
trajacz czstotliwoci o stratach zblionych do transformatora. Zakadajc
w ukadzie z rys. 4.31a pen kompensacje mocy biernej i szacujc moc
odksztacenia na poziomie 20% mocy czynnej ozonatora P
2
, moc zna-
mionowa transformatora wynosi 200 kVA. Transformator o takiej mocy
i napiciach 30/0,4 kV ma sprawno 96%. Z uwagi na odksztacone
137
przebiegi napicia i prdu straty mocy w transformatorze zasilajcym s
wysze i przyjmujemy je rwne 5%, co odpowiada 10 kW. Zakadajc
wspczynnik mocy ozonatora rwny = 0,6poj, moc pozorna ozonatora
S
o
wyniesie 270 kVA, a sumaryczna moc bierna Q
o
i moc odksztacenia
D
o
(
2 2
o o
D Q + ) jest rwna 210 kvar. Szacujc moc odksztacenia na po-
ziomie 20% P, tj. 32 kvar, moc bierna pojemnociowa ozonatora wyniesie
200 kvar i na tak moc musi by zaprojektowany dawik do kompensacji
mocy biernej. Straty mocy w dawiku mona wic okreli na poziomie
6 kW (straty mocy w rdzeniu takie jak w transformatorze, a w uzwoje-
niach rwne poowie strat transformatora o tej samej mocy nominalnej,
zakadajc stosunek strat w uzwojeniach do strat w rdzeniu jak 3:1). Moc
autotransformatora S
AT
zaley od zakresu regulacyjnego i zostaa przyjta
jako 0,8 S
T
a straty mocy w autotransformatorze P
AT
= 0,8P
T
.
W ukadzie na podwyszon czstotliwo (600 Hz) (rys. 4.31b), mimo
pewnego zmniejszenia wymiarw elementw ukadu zasilania, przyjto
straty mocy wysze o 10% od tych, jakie wystpuj przy czstotliwoci
50 Hz. W ukadzie z potrajaczem (rys. 4.31c), z uwagi na podwyszon
indukcj pracy i straty mocy w ukadzie regulacji, przyjto sumaryczne
straty mocy o 20% wysze ni w transformatorze o tej samej mocy.
Z przedstawionych w tabeli 4.1 wynikw analizy wynika, e naj-
wiksz sprawno ma ukad z magnetycznym potrajaczem czstotli-
woci (mpc). Wysoka sprawno ukadu mnonikowego wynika z ograni-
czenia liczby elementw ukadu zasilania, bowiem funkcje dawikw
i autotransformatora, elementw niezbdnych w pozostaych ukadach,
s realizowane w mpc. Ponadto, ukad nie wymaga kompensacji mocy
biernej pojemnociowej, a trzykrotne podwyszenie czstotliwoci robo-
czej pozwala obniy napicie pracy ozonatora, przy zachowaniu tej sa-
mej wydajnoci i przy niezmienionych warunkach chodzenia elektrod.

138
Tabela 4.1. Straty mocy w ukadach zasilania ozonatorw
Ukad
Ukad sieciowy
50 Hz
Ukad tyrystorowy
600 Hz
Mnonik
150 Hz
S
n
P P S
n
P P S
n
P P
Element ukadu
kVA kW % kVA kW % kVA kW %
Dawik 160 4,8 3,0 160 5,6 7,0 - - -
Transformator 200 10 6,2 200 11 6,8 200 11 6,8
Autotransformator 200 6 3,7 - - - - - -
Przeksztatnik
tyrystorowy

-

-

-

200

8

5,0

-

-

-
Ukad 200 20,8 13 200 24,6 15,5 200 11 6,8
Moc czynna ozo-
natora P
2


160 kW
Moc czynna
z sieci P
1


180,8 kW

184,6 kW

171,0 kW
Sprawno
= P
2
/P
1


88,5%

86,7%

93,6%
4.5.2. Moc i sprawno wybranych ukadw zasilania reaktorw
ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym
Analiz strat mocy w ukadach zasilania reaktorw ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym mona przeprowadzi w podobny sposb jak
dla ukadw zasilania ozonatorw. Schematy blokowe analizowanych
ukadw zasilania przedstawia rys. 4.32. Analiz przeprowadzono dla
nastpujcych czterech ukadw zasilania:
ukadu z transformatorem i dawikami,
ukadu z transformatorem rozproszeniowym,
ukadu magnetycznego potrajacza czstotliwoci,
ukadu zintegrowanego (rozdzia 4.3).
Reaktor ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym nie pobiera
z sieci mocy biernej Q, natomiast wystpuje w nim moc odksztacenia D.
139
Wspczynnik mocy, okrelony jako stosunek mocy czynnej do pozornej
na zaciskach elektrod, wynosi od 0,60,8. Moc pozorna reaktora S jest
zatem rwna 1,2 do 1,6 mocy czynnej P, wymaganej w procesie plazmo-
wym. W reaktorach bez ukadu zaponowego, moc pozorna transformato-
ra S
T
, jest znacznie wysza i wynosi 58 S, a moc dawikw Q
L
ograni-
czajcych prd i kondensatorw Q
C
kompensujcych moc biern tych
dawikw, jest rwna 0,8 mocy transformatora S
T
(Q
L
= Q
C
0,8 S
T

7 S). W ukadzie zintegrowanym moc transformatora S
T
, jest rwna mocy
reaktora S i wynosi S
T
= (1,31,6) P. Przedstawione w tabeli 4.2 wyniki
wskazuj, e najmniejsze straty i najwiksz sprawno ma ukad zinte-
growany.

Rys 4.32. Schematy blokowe ukadw zasilania reaktorw plazmy ukowej
140
Tabela 4.2. Straty mocy w ukadach zasilania reaktorw ukowych
Ukad
Ukad
z transformatorem
i dawikami
Ukad
z transformatorem
rozproszeniowym
Ukad
z mnonikiem
150 Hz
Ukad
zintegrowany
S
n
P P S
n
P P S
n
P P S
n
P P Element
ukadu
kVA kW % kVA kW % kVA kW % kVA kW %
Kondensatory 360 3,6 1 240 2,4 1 160 1,6 1 - - -
Transformator 400 18 4,5 320 16 5 240 14,4 6 80 4,8 6
Dawik 360 11 3 - - - - - - - - -
Ukad 400 32,6 65,2 320 18,4 36,8 240 16 32 80 4,8 9,6
Moc reaktora
P2

50 kW
Moc czynna z
sieci P1

82,6 kW

68,4 kW

66 kW

54,8 kW
Sprawno
P2 / P1

60,5%

73%

76%

91%
Zmniejszenie strat w ukadzie uzyskuje si nie tylko przez eliminacj
dawikw ograniczajcych prd i kondensatorw kompensujcych, ale
przede wszystkim przez (58)-krotne zmniejszenie mocy transformatora
zasilajcego elektrody robocze reaktora ukowego. Integracja w jednym
ukadzie zasilania funkcji wymaganych przez reaktor plazmowy, pozwala
obniy koszty oraz zwiksza jego niezawodno.
4.6. Wybrane zagadnienia projektowania ukadw zasilania
reaktorw plazmowych
Projektowanie zasilaczy elektromagnetycznych reaktorw plazmy
wyadowa barierowych i lizgajcego si wyadowania ukowego spro-
wadza si w zasadzie do wyznaczania parametrw konstrukcyjnych trans-
formatorw tworzcych zasilacz, bd w postaci mnonika magnetyczne-
go, rdzenia piciokolumnowego, bd jako ukad zintegrowany czterech
jednofazowych transformatorw. Praca tych specjalnych transformatorw
polega na wykorzystaniu wyszych harmonicznych strumienia magne-
tycznego, ktre indukuj napicie robocze o podwyszonej czstotliwoci
(do zasilania reaktorw z wyadowaniami barierowymi, rozdzia 4.3),
albo napicie zaponu wyadowa, jak ma to miejsce w ukadzie zinte-
141
growanym (rozdzia 4.2) i w ukadzie z transformatorem 5-kolumnowym
(rozdzia 4.2.1). W zwizku z tym, szczeglnego znaczenia nabiera taki
wybr materiau na rdzenie i poziomu indukcji magnetycznej, aby za-
pewni odpowiednio wysok warto wyszych harmonicznych strumie-
nia magnetycznego. Zawarto wyszych harmonicznych w strumieniu
magnetycznym zaley nie tylko od nieliniowoci charakterystyki magne-
sowania transformatorw zasilacza, ale w rwnym stopniu take od nieli-
niowych charakterystyk odbiornika. Obecno wysokiej czstotliwoci
obwodu zaponowego, oraz harmonicznych indukowanych przez ten ob-
wd, to nastpne powody, wpywajce na odksztacenie krzywej strumie-
nia magnetycznego oraz przebiegw napi roboczych. Jak wynika z ana-
liz i bada reaktora plazmowego ze lizgajcym si wyadowaniem uko-
wym, ktrych wyniki przedstawiono w rozdziale 3.3.1, materia rdzenia
transformatora moe istotnie zmienia przebiegi napi w reaktorze
i zdolno do przenoszenia przez zasilacz wyszych harmonicznych gene-
rowanych w reaktorze.
Materia na rdzenie transformatorw decyduje w znacznej mierze
o przetwarzaniu czstotliwoci, przenoszeniu mocy, stratach i sprawnoci
zasilacza, bowiem zjawiska zachodzce w rdzeniach i ich nieliniowo
le u podstaw dziaania zasilaczy elektromagnetycznych dla urzdze
wyadowczych. Materia rdzeniowy powinien sprosta wymaganiom pra-
cy, przy znacznych indukcjach nasycenia obwodu magnetycznego,
a ksztat charakterystyki magnesowania i pooenie punktu pracy wpy-
waj na moc wyjciow i parametry eksploatacyjne zasilacza. Optymalny
materia na rdzenie transformatora powinien charakteryzowa si duym
udziaem trzeciej harmonicznej indukcji B
30
, niewielkim prdem magne-
sujcym oraz nisk stratnoci. Kryteria te dobrze speniaj materiay
o wysokim wspczynniki prostoktnoci, okrelanej jako stosunek in-
dukcji remanencji B
r
do indukcji nasycenia B
s
. Dla stosowanych po-
wszechnie na rdzenie transformatorw mocy blach elektrotechnicznych,
wspczynnik prostoktnoci zawiera si granicach 0,850,9, co zapewnia
142
udzia trzeciej harmonicznej indukcji wynoszcy okoo 21% harmonicz-
nej podstawowej. Coraz czciej na magnetowody transformatorw stosu-
je si materiay amorficzne (szka metaliczne), ktre charakteryzuj si
krzyw magnesowania o duej prostoktnoci i niskiej indukcji nasyce-
nia. Umoliwia to prac zasilacza przy niewielkich stratach i maym pr-
dzie magnesujcym. Obecnie materiay amorficzne s dostpne, a ich
cena jest niewiele wysza od konwencjonalnych materiaw magnetycz-
nych.
Wanym zagadnieniem przy projektowaniu zasilaczy transformato-
rowych dla reaktorw plazmowych ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym jest zapewnienie wymaganej reaktancji rozproszenia (zwarcia)
ktra, jak wynika z dotychczasowych bada, w transformatorach zasila-
czy zintegrowanych powinna wynosi 3040% [147, 214]. Podobne war-
toci reaktancji rozproszenia wymagane s w zasilaczach bazujcych na
transformatorze piciokolumnowym [129]. Jest to warto wysza ni
w klasycznych transformatorach energetycznych i nisza ni w zasila-
czach urzdze spawalniczych. Tak warto reaktancji rozproszenia
trudno uzyska w konstrukcjach uzwoje wsposiowych, gdzie nie prze-
kracza 15%, oraz w konstrukcji o uzwojeniach rozdzielonych, gdzie wy-
nosi ponad 60% [221]. Reaktancj rozproszenia uzwoje zasilajcych
elektrody robocze ksztatuje si poprzez odpowiednie rozmieszczenie
wzgldem siebie uzwojenia pierwotnego i wtrnego na kolumnach trans-
formatora. Najwysz warto reaktancji rozproszenia uzyskuje si dla
uzwoje krkowych. Gdy wystpuje jeden krek uzwojenia pierwotne-
go i jeden krek uzwojenia wtrnego, reaktancja zwarcia jest na tyle
wysoka e, w konwencjonalnych transformatorach, powoduje niedopusz-
czalnie du strat napicia. Zmieniajc liczb krkw mona zmienia
warto reaktancji w szerokich granicach. W uzwojeniach wsprodko-
wych mona rwnie, w pewnym stopniu, wpywa na warto reaktancji
rozproszenia przez wprowadzenie asymetrii przestrzennej uzwoje.
143
Pozostae zagadnienia zwizane z projektowaniem transformatorw
dla zasilaczy reaktorw plazmowych nie maj cech szczeglnych i nie
bd tutaj omawiane, a znajduj si w bogatej literaturze [212, 214, 219,
220224].
4.7. Podsumowanie
W ukadach zasilania ukowych reaktorw nietermicznej plazmy,
wykorzystuje si specjalnej konstrukcji transformatory i ukady prze-
ksztatnikowe. Ukady transformatorowe zintegrowany (rozdz. 4.2),
piciokolumnowy (rozdz. 4.2.1), i mnonikowy (rozdz. 4.3), o odpowied-
nio uksztatowanej charakterystyce zewntrznej (reaktancji zwarcia),
speniaj wszystkie wymagania urzdze wyadowczych. Zapewniaj one
zapon wyadowa, ich podtrzymanie po zaponie i ograniczenie prdu
elektrod, a jako zasilacze reaktorw z wyadowaniami barierowymi kom-
pensuj skadow pojemnociow prdu reaktora, poprawiajc wsppra-
c reaktora plazmowego z sieci zasilajc. W ukadzie zintegrowanym
zapon wyadowania realizowany jest przez trzeci harmoniczn (150 Hz)
napicia, indukowan na skutek nieliniowoci transformatorw robo-
czych, za przenoszenie mocy odbywa si przez pierwsz harmoniczn
gwnego strumienia magnetycznego transformatorw roboczych. Dziki
integracji funkcji zaponu, podtrzymania wyadowania i ograniczenia pr-
du elektrod w jednym urzdzeniu, transformatory robocze mog by pro-
jektowane na kilka- do kilkunastokrotnie nisze napicia pracy (moce
znamionowe) ni stosowane dotychczas. Takie rozwizanie zapewnia
stabiln prac reaktora plazmowego, krtkie przerwy bezprdowe, po-
zwala zmniejszy liczb elementw stosowanych w tradycyjnych zasila-
czach transformatorowych, a tym samym ma niskie koszty inwestycyjne
i eksploatacyjne.
Ukady przeksztatnikowe, stosowane powszechnie w celach nap-
dowych, odpowiednio zaprojektowane jako zasilacze urzdze wyadow-
144
czych maj wiele zalet i waciwoci nieosigalnych w zasilaczach trans-
formatorowych. Gwn zalet takich zasilaczy jest moliwo regulacji
napi, prdw i mocy w szerokim zakresie, niezbdnym dla poprawnej
pracy reaktora plazmowego. Obecnie, ukady zasilania bazujce na tran-
zystorach IGBT, budowane s na mae i rednie moce, rzdu kilkuset ki-
lowatw i czstotliwoci do 20kHz, za ukady bazujce na transformato-
rach MOSFET, maj moce rzdu kilku kilowatw i czstotliwoci prze-
czania do kilkuset kilohercw [218]. Takie wartoci mocy s wystarczaj-
ce z punktu widzenia realizacji zasilaczy dla reaktorw nietermicznej
plazmy o dobrych waciwociach regulacyjnych. Budowany w Laborato-
rium Technologii Plazmowych Instytutu Podstaw Elektrotechniki i Elek-
trotechnologii Politechniki Lubelskiej zasilacz energoelektroniczny
AC/DC/AC w ukadzie otwartym oraz wieloelektrodowy reaktor pla-
zmowy ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym o zmiennej, regulo-
wanej geometrii elektrod, pozwoli na zbadanie waciwoci takich syste-
mw oraz dobr parametrw reaktorw plazmowych i ich zasilaczy do-
stosowanych do potrzeb procesw plazmo-chemicznych.
145
5. MODELOWANIE MATEMATYCZNE REAKTORW
ZE LIZGAJCYM SI WYADOWANIEM UKOWYM
Teoria i praktyka modelowania matematycznego wyadowa elek-
trycznych, jest niemal rwnie duga jak ich przemysowe wykorzystanie.
Cay ubiegy wiek powicony by modelowaniu rnych zjawisk zwi-
zanych z wyadowaniami ukowymi i zaowocowa wieloma modelami,
ktrych uyteczno praktycznie zweryfikowano w badaniach dotycz-
cych teorii zwar i procesw czeniowych, przy budowie komr gasze-
niowych wycznikw prdowych, projektowaniu piecw ukowych
i plazmotronw dla zastosowa w metalurgii i obrbce powierzchniowej
[225231]. Podstawowym problemem w badaniach obwodw z komuta-
cj, jest gaszenie wyadowania ukowego. Modele wyadowa ukowych
dla tych celw s tak definiowane, aby poprawnie zbada zjawiska za-
chodzce w pobliu przejcia prdu przez zero miejscu naturalnego ga-
szenia uku. Pozwalaj one wycign wnioski odnonie doboru geome-
trii oraz parametrw komr wycznikw prdowych i tak je zaprojekto-
wa, aby gaszenie uku nastpowao przy pierwszym przejciu prdu
przez zero [228, 233].
Gwnym celem modelowania wyadowa ukowych w reaktorach
plazmowych jest taki dobr ich parametrw, oraz charakterystyk ukadu
zasilajcego, aby zapewni nieprzerwane stabilne wyadowanie ukowe
nierwnowagowe, zapewniajc jednoczenie wysok wydajno i spraw-
no procesw plazmochemicznych. Zatem, w zalenoci od zastosowa-
nia i rodzaju wyadowa ukowych, cele ich modelowania matematycz-
nego mog by cakowicie przeciwstawne.
Zjawiska towarzyszce wyadowaniom ukowym, wykorzystywanym
w technikach plazmowych, s niezwykle zoone a ich analiza wymaga
wyznaczenia rozkadu pl elektromagnetycznego i temperaturowego, ich
wzajemnych sprze oraz rozwizania rwna przepywu energii, a-
dunku i masy. Nieliniowy charakter zjawisk w wyadowaniu ukowym,
konieczno uwzgldnienia i powizania ze sob fizycznych parametrw
146
zjonizowanego gazu, warunkw chodzenia uku i elektrycznych parame-
trw ukadu zasilania zawsze zmuszaj, przy konstruowaniu modelu ma-
tematycznego, do przyjmowania znacznych zaoe upraszczajcych
i czsto wymagaj wyznaczanych empirycznie charakterystyk wyadowa-
nia. Model lizgajcego si wyadowania ukowego, ktrego parametry
znacznie rni si od klasycznego uku elektrycznego, powinien
uwzgldni kilkunastokrotny wzrost dugoci kolumny i objtoci wya-
dowania, jego zapon i cykliczn prac reaktora. Wanym zagadnieniem
jest zapewnienie warunkw nierwnowagowych generowanej plazmy, co
jest zwizane z rozkadem temperatury w przestrzeni wyadowczej reak-
tora oraz okreleniem energii (temperatury) czstek plazmy, a zwaszcza
elektronw, ktrych energie w plazmie nierwnowagowej s znacznie
wysze ni pozostaych czstek plazmy. Zjawiska te s trudne do diagno-
styki i wymagaj specjalnych metod i urzdze. Modelowanie matema-
tyczne i numeryczne tych zjawisk jest alternatyw dla kosztownych bada
eksperymentalnych.
Poniej przedstawiono klasyfikacj i przegld modeli matematycz-
nych wyadowa ukowych, zarwno deterministycznych jak i stocha-
stycznych. Zwrcono szczegln uwag na moliwo zastosowania
omawianych modeli do opisu zjawisk w lizgajcym si wyadowaniu
ukowych. Podano wybrane wyniki modelowania numerycznego lizgaj-
cego si wyadowania ukowego, w ktrym wykorzystano zmodyfikowa-
ne modele zaciskowe, zaproponowane w pracach [142, 144]. Wyniki mo-
delowania porwnano z wybranymi wynikami bada eksperymentalnych.
Przedstawiono take wyniki analizy numerycznej rozkadu temperatury
w komorze wyadowczej reaktora plazmowego ze lizgajcym si wya-
dowaniem ukowym.



147
5.1. Przegld modeli matematycznych wyadowa ukowych
W zalenoci od celu modelowania i rodzaju zjawisk, ktre zamie-
rzamy odwzorowa w badanym procesie plazmowym, modele wyado-
wa ukowych mona podzieli na: deterministyczne i stochastyczne,
statyczne i dynamiczne, kanaowe i zaciskowe.
Podstaw do formuowania wszystkich modeli s rwnania hydrody-
namiki nagrzewanego gazu, zwizane z wydzielon przez wyadowanie
energi elektryczn, oraz mechanizmy wymiany tej energii z otoczeniem.
Wzrost temperatury i cinienia gazu, w ktrym zachodz wyadowania,
wpywaj na zmienno procesw dysocjacji i jonizacji, a to oddziauje
z kolei na warto parametrw elektrycznych i hydrodynamicznych ob-
szaru plazmy wyadowania ukowego.
Pierwsze modele uku zostay zaproponowane ju na pocztku dwu-
dziestego wieku. Mona tu wymieni zaciskowy model empiryczny uku
elektrycznego, poncego swobodnie midzy elektrodami wglowymi,
podany przez Hert Ayrton [230], w postaci dynamicznej charakterystyki
prdowo-napiciowej uwzgldniajcej dugo kolumny wyadowania.
Czsto wprowadza si podzia modeli matematycznych na dwie za-
sadnicze grupy [225]:
modele kanaowe, zwane rwnie matematyczno-fizycznymi,
modele zaciskowe, zwane modelami adaptatywnymi.
Za pomoc modeli kanaowych moemy obliczy parametry miej-
scowe plazmy uku i jej otoczenia (temperatura, cinienie, prdko prze-
pywu gazu) oraz dobra najbardziej podane ksztaty komr w czni-
kach i geometrie elektrod reaktorw plazmowych.
Poniej wymieniono najczciej stosowane modele kanaowe z krt-
kim opisem ich zastosowa:
opracowany przez W. Hermanna, U. Kogelschatza, R. Ragallera
i E. Schadego [229], w ktrym zaoono, e parametry elektryczne
i hydrodynamiczne zmieniaj si zarwno wzdu osi uku z, jak i pro-
148
mienia r. Wykorzystywano go do obliczenia prdw poukowych
w funkcji czasu, dla rnej stromoci napicia powrotnego i gstoci
mocy wydzielanej i oddawanej z kolumny ukowej w funkcji promie-
nia;
opracowany przez B. W. Swansona, R. M. Roida oraz T. E. Browna
[231], zakadajcy, e o odbiorze energii z uku decyduj zjawiska
w warstwie granicznej pomidzy ukiem a chodnym gazem. Pozwala,
midzy innymi, okreli rednic uku w okresie zera prdu, obliczy
rne parametry uku, przebiegi prdu poukowego w funkcji stromoci
napicia powrotnego;
podany przez J. J. Lowkiego, H. C. Ludwiga, D. T. Tum oraz F. R. El-
Akkariego [228] okrelany jest jako model matematyczny uku cze-
niowego stabilizowanego przez konwekcj. Wyjciowym rwnaniem
do formuowania jego parametrw, jest zasada zachowania energii od-
niesiona do kolumny uku. W omawianych rwnaniach przyjmuje si,
e temperatura uku jest staa wzdu promienia, energia promieniowa-
nia na jednostk objtoci, przy danym cinieniu, zaley tylko od tem-
peratury, natomiast nie zaley od promienia uku, liczba Macha, w ob-
szarze plazmy uku, jest rwna liczbie Macha dla otaczajcego uk
zimnego gazu i zaley tylko od ksztatu dyszy, a energia kinetyczna ga-
zu jest pomijalnie maa w stosunku do jego entalpii;
modele opracowane przez M. D. Cowleya i S. K. Chana [227], M.T. C.
Fanga i D. Brannena [232], Z. Cioka i Z. Pochankego [226]. W pracach
tych autorw wyjciowymi s zawsze oglne rwnania uku. Rnice
dotycz albo zaoe upraszczajcych albo sposobu rozwizania rw-
na.
W modelach zaciskowych zjawiska fizyczne zachodzce w uku s
sprowadzone do zastpczego dwjnika elektrycznego o nieliniowej zale-
noci prdu i napicia. Za ich pomoc liczymy przebiegi prdw, napi,
mocy i konduktancji w obwodach zasilania reaktorw plazmowych.
149
Przeomem w dziedzinie modelowania matematycznego uku elek-
trycznego byy modele zaciskowe Mayra i Cassiego ktre, modyfikowane
nastpnie przez wielu autorw, pozwoliy opisa konduktancj kolumny
wyadowania ukowego uwzgldniajc mechanizmy wymiany energii
z otoczeniem, konduktywno plazmy i jej zmiany wraz z temperatur
oraz termiczn sta czasow.
Rwnanie Mayra uku dynamicznego zakada zmienn rezystywno
kolumny ukowej i jej energii w jednostce objtoci oraz jej powierzch-
niowe chodzenie, przy czym moc odbierana z jednostki dugoci kolum-
ny ukowej ma sta warto, a jej rednica nie zmienia si wraz ze zmia-
n prdu. W rwnaniu Cassiego pomijana jest bezwadno procesw
jonizacyjnych oraz zjawiska przyelektrodowe, zakada si, e w uku wy-
stpuje tylko jonizacja cieplna a temperatura, rezystywno i energia s
stae w czasie i przestrzeni. W przeciwiestwie do modelu Mayr'a, ko-
lumna wyadowania w modelu Cassiego chodzona jest wntrzowo, a jej
rednica zaley od wartoci prdu.
Inne modele zaciskowe uku czeniowego publikowane byy w pra-
cach T. E. Browne, J. Urbaneca, W. Riedera, J. Schwartza i stanowiy
prby poczenia modelu Mayra i Cassiego w jednym rwnaniu, uzale-
nienia modelu dodatkowo od napicia uku oraz uwzgldnienia stocha-
stycznej zalenoci staej czasowej i mocy odbieranej z uku w funkcji
jego przewodnoci [142].
Osobne badania dotycz modeli stochastycznych uku oraz wykorzy-
stania teorii chaosu, zwaszcza, gdy interesuj nas waciwoci dyna-
miczne i stabilno ukadw z wyadowaniami ukowymi. Wyznaczona
za pomoc modeli deterministycznych konduktancja wyadowania uko-
wego, odpowiada jego urednionym charakterystykom i nie uwzgldnia
maych, pojawiajcych si wok wartoci redniej, zmian konduktancji.
Mog one powodowa, na przykad w wycznikach prdowych, inne
warunki wyczania, zwaszcza, gdy bd si pojawia w pobliu przej-
cia prdu wyadowania przez zero.
150
Jak wskazuj badania, stochastyczne zachowanie wyadowania u-
kowego opisuje, w sposb wystarczajco dokadny, proces autoregresji
trzeciego rzdu, charakteryzujcy tzw. procesy Markowa [233]. Aby zde-
finiowa model stochastyczny wyadowania ukowego i okreli jego
parametry, koniecznym jest przeprowadzenie wielu eksperymentw,
z ktrych mona wybra niezbdne informacje o zmianach konduktancji
wyadowania.
Badania nad drganiami chaotycznymi zachodzcymi w plazmie wy-
adowa elektrycznych w gazach [234] dowiody, e w napiciu wyado-
wania ukowego, zachodzcego w warunkach cinienia atmosferycznego,
wystpuj zaburzenia wskazujce na jego chaotyczne zachowanie. Zatem,
w badaniu dynamiki i stabilnoci ukadw z wyadowaniami elektrycz-
nymi wykorzystuje si standardowe narzdzia analizy ukadw chaotycz-
nych takie jak: badanie trajektorii fazowych, analiza spektralna, zastoso-
wanie wykadnikw Lapunova. W tym zakresie badania nad wyadowa-
niami ukowymi przy cinieniu atmosferycznym nie s zbyt liczne,
w przeciwiestwie do wyadowa w gazach przy niskim cinieniu, gdzie
dowiedziono istnienia procesw chaotycznych [235, 236].
W reaktorach plazmy lizgajcego si wyadowania ukowego dy-
my do osignicia warunkw nierwnowagi termodynamicznej, typo-
wych dla wyadowa zachodzcych przy niskim cinieniu, takich jak wy-
adowania jarzeniowe. Charakterystyki wyadowa ze lizgajcym si
ukiem zale od wiele parametrw (geometria elektrod, waciwoci fi-
zyczne gazu roboczego, jego prdko i skad chemiczny, warto prdu
i napicia, impedancja ukadu zasilajcego). Zastosowanie metod analizy
bazujcych na teorii chaosu powinno dostarczy wielu, nieosigalnych
innymi metodami, informacji o zachowaniu si ukadu i jego czuoci na
zmiany tych parametrw.


151
5.2. Modelowanie lizgajcego si wyadowania ukowego
Analiz numeryczn reaktora plazmowego ze lizgajcym si wya-
dowaniem ukowym przeprowadzono wykorzystujc dwa znane z litera-
tury modele wyadowa ukowych: dynamiczn charakterystyk prdo-
wo-napiciow oraz rwnania nieliniowej konduktancji wyadowa u-
kowych, ktre po modyfikacjach uwzgldniajcych specyfik tych wya-
dowa, rozwizano numerycznie w programie MathCAD oraz wykorzy-
stujc pakiet oprogramowania Microsim PSPICE [142, 144, 146, 147].
Zaleno na dynamiczn charakterystyk prdowo-napiciow wy-
adowania ukowego, uwzgldniajca jego dugo, podan po raz pierw-
szy przez Hert Ayrton [230], przedstawia ponisze rwnanie:
( ) ( )
( )
( ) t i
t l D C
t l B A t u

+
+ + =
(5.1)
w ktrym: A, B, C i D to stae wyznaczane eksperymentalnie, l(t) du-
go wyadowania, i(t) prd uku.
W zalenoci (5.1) dugo kolumny wyadowania jest staa i takie
zaoenie dla uku poncego swobodnie midzy elektrodami o staym
odstpie jest uzasadnione. Dugo lizgajcego si wyadowania uko-
wego wzrasta kilkunastokrotnie w czasie cyklu pracy, w stosunku do od-
legoci elektrod w miejscu zaponu, i takie zaoenie byoby zbyt duym
uproszczeniem. Zaleno (5.1) zmodyfikowano uzaleniajc dugo
wyadowania w miejscu ganicia od kta rozchylenia elektrod , prdko-
ci przepywu gazu v
g
i czasu t, wedug:
( ) t v l t l
g o
+ =
, (5.2)
gdzie: l
o
pocztkowa odlego elektrod w miejscu zaponu wyadowa-
nia.
Zaoono, zatem, e prdko wyadowania jest rwna prdkoci
gazu, a kolumna ma ksztat czci okrgu opartego na kcie rozchylenia
elektrod (krzywa a na rys. 5.1).
152
Wybrane wyniki modelowania matematycznego lizgajcego si wy-
adowania zasilanego z rzeczywistego rda napicia sinusoidalnego
w programie MathCAD, przedstawiono na rysunkach 5.2 i 5.3. Stwier-
dzono, e zaleno na charakterystyk prdowo-napiciow wyadowa-
nia ukowego podana przez Ayrton, moe dobrze odwzorowywa jako-
ciowe przebiegi prdw i napi w reaktorze ze lizgajcym si wyado-
waniem ukowym.
x, t
y
V
g
x
m
elektroda robocza
elektroda robocza
r
r
o
l

( )
+
,
x
m
y
m
r
0
l
o
a
b
l
l
(t)


Rys. 5.1. Geometria elektrod z zaoonym ksztatem kolumny lizgajcego si
wyadowania ukowego: a uk oparty na kcie rozchylenia elektrod, b
kolumna w ksztacie pokrgu

Rys. 5.2. Konduktancja wyadowania w funkcji czasu dla 3 prdkoci gazu
153
Gwne ograniczenia modelu zwizane s z koniecznoci ekspery-
mentalnego wyznaczania staych w rwnaniu (5.1), zatem wyniki analiz
dotycz reaktorw o danej geometrii i nie mog by uoglniane dla caej
klasy reaktorw ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym.


Rys. 5.3. Prd i napicie wyadowania w kolejnych cyklach pracy reaktora
Sprawdzono take przydatno modeli zaciskowych Mayra i Cassie-
go do modelowania lizgajcego si uku elektrycznego [140142]. Po-
wd podjcia prby przystosowania wymienionych modeli zaciskowych
do analizy reaktora ze lizgajcym si ukiem wynika z prostego matema-
tycznego opisu dynamiki wyadowania ukowego, oraz wielokrotnej we-
ryfikacji tych modeli w modelowaniu obwodw elektrycznych z wycz-
nikami prdu. Charakterystyki konduktancji uku dynamicznego podane
przez Mayra i Cassiego przedstawiaj rwnania (5.3) i (5.4):
( )
( ) ( ) t i
P
t g
dt
t dg
M M
2
0
1 1

= +
, (5.3)
( )
( ) ( ) t i
U
t g
dt
t dg
st c c
2
2
2
2
2 2

= +
, (5.4)
154
w ktrych :
g (t) konduktancja chwilowa kolumny ukowej,
i (t) natenie prdu ,

staa czasowa uku przy zaoeniach Mayra,

C
staa czasowa uku przy zaoeniach Cassiego,
U
st
napicie uku w warunkach ustalonych,
P
o
moc oddawana z jednostki dugoci kolumny ukowej.
Gwne trudnoci zastosowania rwna zaciskowych Mayra i Cassiego,
przy modelowaniu lizgajcego si wyadowania ukowego, stanowi:
problem uwzgldnienia elektrycznego zaponu wyadowania, niepopraw-
ne odwzorowanie charakterystyki prdowo-napiciowej w zakresie nie-
wielkich wartoci prdu, rzdu kilku amperw, oraz trudnoci w modelo-
waniu cyklicznej pracy reaktora [144]. Aby pokona powysze trudnoci,
model matematyczny lizgajcego si wyadowania ukowego powinien
spenia podstawowe zalenoci energetyczne postulowane przez Mayra
i Cassiego, a mianowicie:
mie odpowiednie waciwoci dynamiczne,
dobrze przyblia rzeczywisty przebieg statycznej charakterystyki pr-
dowo-napiciowej wyadowania w zakresie prdw o stosunkowo nie-
wielkich wartociach, tak jak ma to miejsce w reaktorze ze lizgajcym
si wyadowaniem ukowym,
pozwala zamodelowa zapon napiciowy wyadowania w zimnej
przestrzeni midzyelektrodowej,
uwzgldnia cykliczno wyadowania i zmienno w czasie jego pa-
rametrw.
Nieliniow konduktancj uku zamodelowano w programie PSPICE, wy-
korzystujc definiowane przez uytkownika bloki modelowania analogo-
wego. Technika ABM (z ang. analog behavioral modeling) pozwala na
elastyczny opis elementw obwodu elektrycznego, poprzez podanie funk-
cji lub tablicy wartoci sygnau wyjciowego w zalenoci od sygnaw
155
wejciowych. Zasada ta realizowana jest przy uyciu sterowanych rde
napicia i prdu oraz elementw ukadw sterowania.
Rozwizaniem rwna Mayra i Cassiego, danych wzorami (5.3)
i (5.4), s zalenoci na chwilow konduktancj nieliniow wedug:
( )
( ) ( )
|
|

\
|

=
t
P
t i t u
g t g
d 1
1
0
0 M
e

, (5.5)
( )
( )
|
|

\
|

=
t
U
t u
g t g
d 1
1
0
2
st
2
c
e

, (5.6)
gdzie: g
o
kondunktancja wyadowania w miejscu zaponu (najmniejsze-
go odstpu elektrod), a bloki ABM realizujce obie konduktancje przed-
stawia rys. 5.4.
Zmodyfikowana zaleno na konduktancj chwilow lizgajcego si
wyadowania ukowego ma nastpujc posta [142]:

=
|
|

\
|
+ t
t g P
t p
g
t w
e g t g
d 1
) , (
) (
) (
1
) (
0
0
) (

(5.7)
gdzie:
t
t g P
t p
g
t w
z
t
d 1
) , (
) (
) (
1
) (
0
0
|
|

\
|
=

, (5.8)
przy czym: ) ( ) ( t g h g
j
= , (5.9)
p(t) moc chwilowa odbierana z jednostki dugoci kolumny ukowej,
c t g a g P
o
+ = ) ( ) ( , (5.10)
oraz:
) ( ) (
z
2
t t l a t a
o
=
, (5.11)
) ( ) (
z
t t l c t c
o
= , (5.12)
w ktrych: l(t) zmienna w czasie dugo wyadowania, t
z
czas odpo-
wiadajcy chwili zaponu wyadowania, h, j, a, a
o
, c, c
o
stae wyznacza-
ne empirycznie.
156

Rys. 5.4. Bloki ABM realizujce rwnania Mayra i Cassiego uku elektryczne-
go [142]
W stosunku do modeli zaciskowych Mayra i Cassiego, w zaproponowa-
nym modelu wielko , zwana sta czasow, nie jest staa a zaley od
konduktancji chwilowej wyadowania ukowego, wedug zalenoci (5.9).
Elektryczny zapon wyadowania realizowany jest w modelu za pomoc
funkcji w(t) danej rwnaniem (5.8), za gsto mocy odbieranej z ko-
lumny ukowej P
0
(5.10) jest liniow funkcj konduktancji chwilowej
g(t), przy czym wspczynniki a i c, dane zalenociami (5.11) i (5.12), s
funkcjami czasu zaponu t
z
oraz dugoci wyadowania l.
Obliczenia przeprowadzono przy zaoeniu, e kolumna wyadowa-
nia ma ksztat pokrgu, tak jak to przedstawia rys. 5.1 krzywa b,
a wyadowanie zasilane jest z rzeczywistego rda napicia sinusoidal-
nego V1 o rezystancji wewntrznej R1 (rys. 5.4). Realizacja modelu li-
zgajcego si wyadowania ukowego za pomoc blokw ABM, wedug
zmodyfikowanego rwnania danego zalenoci (5.7), jest przedstawiona
na rysunku 5.5.
Bloki ABM, ze schematu przedstawionego na rysunku 5.5, realizuj
nastpujce funkcje:
157
elementy ABM3 i ABM4 s odpowiedzialne za realizacj nieliniowej
konduktancji,
blok ABM2 wraz z wycznikiem sterowanym napiciowo S2 i kon-
densatorem C2, su do generowania funkcji w(t) realizujcej zapon
napiciowy,
element ABM1, wycznik S1 i kondensator C1, modeluj zmiany od-
bioru energii z kolumny wyadowania i jej dugoci w czasie cyklu pra-
cy reaktora.
Symulacje numeryczne prowadzone byy za pomoc analizy typu
TRANSIENT, a ich wyniki przedstawiono w postaci chwilowych prze-
biegw prdu i napicia wyadowania. Przeprowadzono take ekspery-
mentaln weryfikacj wynikw analizy numerycznej na modelu reaktora
plazmowego ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym.

Rys. 5.5. Model lizgajcego si wyadowania ukowego [142]
Przebiegi napicia i prdu wyadowania oraz charakterystyki statycz-
ne, uzyskane podczas analizy numerycznej, przedstawiono na rysunkach
5.6 i 5.7, za porwnanie wynikw oblicze z przebiegami zarejestrowa-
nymi na oscyloskopie na rysunkach 5.8 i 5.9.
158

Rys. 5.6. Wyniki modelowania lizgajcego si uku w jednofazowym obwodzie
RL w czasie 1 cyklu pracy [144]
0 10 20 30 40
I, A
0
100
200
300
400
500
U
,

V
c=500
a=0
a=5000
a=20000

Rys. 5.7. Charakterystyki statyczne symulowanego wyadowania [144]
159
T
C1
T
C2
T
C3
T
P3
T
P2
T
P1

Rys. 5.8. Napicie (grny przebieg) i prd (poniej) lizgajcego si wyadowa-
nia ukowego wyniki uzyskane numerycznie [142]
T
C2
T
C1
T
P1
T
P2
T
C3

Rys. 5.9. Napicie (grny przebieg) i prd (poniej) lizgajcego si wyadowa-
nia ukowego wyniki uzyskane numerycznie
Modyfikacje zaciskowych modeli matematycznych wyadowa u-
kowych pozwalaj na przeprowadzenie numerycznej analizy i symulacj
wzajemnego oddziaywania ukadu reaktor plazmowy rdo zasilania,
160
w rnych stanach pracy i przy rnych zaoeniach upraszczajcych.
Uwzgldnienie w modelu Ayrton zmiennej dugoci wyadowania pozwa-
la uzyska jakociowe wyniki zgodne z eksperymentami, cho nie pozwa-
la ich uoglni na szersz klas reaktorw, z uwagi na wystpujce
w modelu wyadowania wspczynniki empiryczne, konieczne do wyzna-
czenia w obiekcie rzeczywistym.
Modyfikacje modeli zaciskowych Mayra i Cassiego pozwalaj uzy-
ska wyniki modelowania, ktre prezentuj wysok zgodno jakociow
z przebiegami zjawisk w reaktorze ze lizgajcym si wyadowaniem
ukowym. Porwnujc wyniki uzyskane z modelu numerycznego z zare-
jestrowanymi na oscyloskopie w obiekcie rzeczywistym (rysunki 5.8
i 5.9) mona stwierdzi, e model dobrze odwzorowuje cykliczno pracy
reaktora, przerwy bezprdowe oraz ksztaty prdw i napi reaktora pla-
zmowego ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym i moe by wyko-
rzystany do symulacji takich obiektw.
5.3. Modelowanie rozkadu temperatury w przestrzeni
wyadowczej reaktora
Badania nad parametrami plazmy wytwarzanej w reaktorach pla-
zmowych odgrywaj zasadnicz rol przy projektowaniu ukadw prze-
mysowych. W plazmie niskotemperaturowej istniej sprzyjajce warunki
do przebiegu rnego rodzaju reakcji chemicznych, ze wzgldu na wyst-
powanie w niej wysokoenergetycznych czstek [136]. Badania procesu
plazmowego opiera si na wyznaczaniu jego waciwoci, do ktrych
nale: chemiczny skad plazmy, energetyczny rozkad jej skadnikw
oraz procesy przenoszenia takie jak: przewodno cieplna i elektryczna
plazmy. Problemy te s bardzo trudne do rozwizania w warunkach pla-
zmy nieizotermicznej, w ktrych nie tylko temperatury kinetyczne cz-
stek rnego rodzaju s rne, lecz take zachodzi znaczne odchylenie od
rozkadu Maxwella i nie jest spenione prawo Boltzmanna oraz prawo
161
dziaania mas. W warunkach tych nie mona wykorzysta odpowiednich
zalenoci, opracowanych na bazie termodynamiki i teorii kinetycznej
gazw. Z punktu widzenia termodynamiki, gdy energia oddziaywania
midzy czsteczkami jest maa, w porwnaniu z energi ciepln, mona
zaoy, e plazma zachowuje si jak gaz doskonay. Wtedy, z pewnym
przyblieniem, uzasadniony jest maxwellowski rozkad prdkoci i bolt-
zmannowski rozkad energii czstek. Jednake z samego charakteru pla-
zmy wynika, e obraz oddziaywania przez zderzenia par czstek trzeba
uzupeni, albo nawet zastpi, obrazem tak zwanego oddziaywania ko-
lektywnego (zbiorowego). Znaczy to, e wystpuje oddziaywanie kadej
czstki z wieloma innymi jednoczenie, gdy siy dziaajce midzy naa-
dowanymi czstkami plazmy s natury elektrostatycznej. Naley rwnie
pamita, e plazma, w odrnieniu od gazu obojtnego, przewodzi prd
elektryczny, z czego wynika jej specyficzne zachowanie si w polu ma-
gnetycznym. Dla nieizotermicznej plazmy wyadowa elektrycznych,
wan wielkoci jest rednia energia kinetyczna (temperatura) elektro-
nw. Energi t mona przyrwna do redniej energii kinetycznej cz-
stek gazu, ktre maj maxwellowski rozkad prdkoci, odpowiadajcy
okrelonej temperaturze. Warto tej temperatury nazwano temperatur
gazu elektronowego plazmy, mimo e w nieizotermicznej plazmie nie ma
rwnowagi termodynamicznej. Temperatura gazu elektronowego ma wic
charakter umowny i na podstawie jej wartoci nie mona wycign ad-
nych wnioskw opartych na prawach termodynamiki. Podobnie, nie mo-
na prowadzi oblicze termodynamicznych na podstawie temperatury
obojtnych skadnikw plazmy nieizotermicznej. Parametry plazmy nie-
termicznej (o maym nateniu prdu) i plazmy termicznej (o duym na-
teniu prdu) przedstawia tabela 5.1. Nierwnowagowa plazma nieter-
miczna jest trudna do teoretycznego opisu, poniewa w najlepszym razie
znajduje si w rwnowadze kinetycznej (plazma kwazirwnowagowa),
natomiast nie mona przyj, e jest w rwnowadze termicznej, a wic
162
nie mona analizowa skadu plazmy korzystajc z rwnania Saha, i obli-
cza promieniowania, korzystajc z rwnania Stefana-Boltzmanna.
Waciwoci plazmy s najczciej obliczane przy zaoeniu rwno-
wagi termicznej, ktre jest bliskie rzeczywistoci [138]. Poniewa obli-
czenia waciwoci plazmy nierwnowagowej s bardzo zoone,
a w plazmotronach ukowych odchylenia od stanu rwnowagi s niezbyt
due [137, 142], std do wyznaczenia waciwoci plazmy czsto stosuje
si zalenoci przynalene stanom rwnowagi.
Tabela 5. 1. Porwnanie parametrw wyadowania termicznego i nietermiczne-
go [137]
Parametry plazmy Plazma nietermiczna Plazma termiczna
Stan rwnowagi Rwnowaga kinetyczna Rwnowaga termiczna
Gsto elektronw, n
e

(m
-3
)
10
20
< n
e
< 10
21
10
21
< n
e
< 10
23

Cinienie, p (Pa) 10
-1
< p < 10
5
10
5
< p < 10
7

Temperatura elektronw
T
e
(eV)
0,2 < T
e
< 2,0 1,0 < T
e
< 10
Temperatura gazu,
T
g
(eV)
0,025 < T
g
< 0,5 T
g
= T
e

Prd wyadowania, I (A) 1 < I < 50 50 < I < 10
4

Promieniowanie Nieokrelone Rwnowagowe
Stopie jonizacji Nieokrelony Saha
Istotnym parametrem, z punktu widzenia procesw plazmo-
chemicznych, jest rozkad temperatury w komorze wyadowczej reaktora
plazmowego. Jego analiza moe by prowadzona w rny sposb, w za-
lenoci od rodzaju stosowanego reaktora (geometria elektrod) oraz od
procesw fizykochemicznych zachodzcych w reaktorze. Budowa mode-
lu matematycznego reaktora plazmy nierwnowagowej wymaga okrele-
nia:
parametrw geometrycznych ukadu (dugo, rednica i ksztat elek-
trod, odlego midzy elektrodami, objto przestrzeni wyadowania),
163
parametrw przepywajcego gazu (rodzaj przepywu laminarny, tur-
bulentny, prdko przepywu, cinienie, stopie jonizacji, lepko),
parametrw ukadu zasilania (dostarczana moc, czstotliwo, warto
i ksztat napicia, impedancja ukadu zasilania).

Rys. 5.10. Przemiany energii i zjawiska w plazmie nietermicznej
Przemiany energii w nietermicznej plazmie mona przedstawi w postaci
schematu pokazanego na rysunku 5.10.
Analiza modelu fizycznego, oraz zjawisk zwizanych z przemianami
energii, pozwala okreli, niezbdne do skonstruowania modelu matema-
tycznego, parametry plazmy nietermicznej i podzieli je na:
zalene od temperatury T:
przewodno cieplna gazu ,
ciepo waciwe c
p
,
164
konduktywno plazmy ,
gsto waciwa gazu .
niezalene od temperatury:
prdko plazmy promieniowa v i osiowa u,
lepko gazu ,
cinienie gazu p,
natenie prdu w uku I,
natenie pola elektrycznego E.
Stopie jonizacji gazu, prdko, temperatura czstek i cinienie, opisy-
wane s rwnaniami zachowania masy, pdu i energii.
Zakadajc laminarny przepyw plazmy w reaktorze, rwnania, wi-
ce podstawowe parametry fizyczne plazmy, wynikajce z wymienio-
nych rwna rwnowagi w ukadzie wsprzdnych cylindrycznych, maj
posta [133135]:
( ) ( ) 0
1
=

r
r r
u
z
(5.13)
( ) ( )
z z
r
r r r
u
r
r r z
u
z
u r
r r
u
z

\
|

+
|

\
|

+
|

\
|

1 1
2
1
2
(5.14)
( ) ( )
r
p
r r
u
z r
r
r r z z
r
r r
u
z

\
|

+ |

\
|

+ |

\
|

2
2
2 2 1

(5.15)
0
1
2
= +

\
|

E
r
T
c
z
T
uc
r
T
r
r r
p p
(5.16)

=
R
dr r
I
E
0
2
(5.17)
Rwnania (5.13) do (5.17) mog zosta rozwizane za pomoc do-
wolnych metod numerycznych, przy czym najprociej jest zastosowa
metod rnic skoczonych lub elementw skoczonych. Podstawowym
rwnaniem, pozwalajcym wyznaczy rozkad temperatury w kolumnie
165
ukowej, jest rwnanie bilansu mocy opisane zalenoci (5.16). Ze
wzgldu na ma warto prdkoci promieniowej plazmy v, w porwna-
niu z osiow u ( = 0,05 u) [230, 244], czynnik z ni zwizany w rwna-
niu bilansu mocy mona pomin. Upraszcza to rwnanie (5.16), nie
wpywajc w znaczny sposb na wyniki oblicze.
W praktyce pojawiaj si trudnoci z rozwizaniem rwnania (5.16)
ze wzgldu na zoon zaleno parametrw , c
p
, i , od aktualnej
temperatury w przestrzeni wyadowa. W modelu matematycznym przy-
jto, na podstawie pomiarw [130, 133], e wyej wymienione parametry
s nieliniowo zalene od temperatury. W podobny sposb wprowadzone
zostay do modelu matematycznego pozostae parametry zalene od tem-
peratury.
Rwnanie rniczkowe drugiego rzdu (5.16), bilansu mocy w ko-
lumnie ukowej, mona przeksztaci do rwnania rnicowego. W tym
celu wprowadzono do analizowanego ukadu kwadratow siatk dyskre-
tyzujc, a opis rnicowy wykonano dla dowolnego punktu wewntrz-
nego P siatki o wsprzdnych i, j [174, 182].
Dla zadanego promienia kanau plazmowego, jego dugoci i znanego
w postaci analitycznej rozkadu temperatury na katodzie plazmotronu
(rda), rwnanie bilansu mocy (5.16) mona zapisa w nastpujcej
postaci rnicowej:
( )
2
2
, 1 , , 1 , , 1 1 , , 1 ,
2
2 2 k
E
T T
R
k
T T T T T T
j i j i j i j i j i j i j i j i

= + + + +
+ + +
(5.18)
Po przeksztaceniu otrzymamy zaleno na temperatur T
i,j
w punkcie
o wsprzdnych i, j siatki:
(

+ + +
|

\
|
+ +
|

\
|
=
+ +
2
2
, 1 , 1 1 , 1 , ,
2
1
2
1
4
1
k
E
T T
R
k
T
R
k
T T
j i j i j i j i j i

(5.19)
gdzie, k krok siatki, R promie komory wyadowczej.
166
Biorc pod uwag cylindryczn konstrukcj plazmotronu przyjto ukad
wsprzdnych biegunowych (z, r), dla ktrych warunki brzegowe maj
posta (rys. 5.11):
warunek na osi symetrii dla r = 0 0 =

r
T
,
warunek na ciankach bocznych dla r = R T=300 K,
warunek na kocu elektrod reaktora plazmowego 0 =

z
T
.
Rys. 5.11. Przyjta geometria analizowanego obszaru plazmy we wsprzdnych
cylindrycznych
Przyjto rn temperatur rda katody, ktr opisano w kadym
punkcie nastpujca zalenoci:
( )
0
2 2
2
max
T r a
a
T
T + =
(5.22)
gdzie:
r wsprzdna biegunowa,
T
max
maksymalna temperatura na katodzie,
T
0
temperatura poza obszarem katody,
a odlego od rodka katody.
Wyniki symulacji numerycznej rozkadu pola temperatury w komorze
wyadowczej reaktora plazmowego w argonie, przedstawiono na rysunku
5.12 dla dwch rnych krokw siatki: T > 10 K i T < 10 K po 100
r
z

R
167
i 118 iteracjach. Obraz przestrzenny rozkadu temperatury otrzymuje si
poprzez obrt wykresu z rysunku 5.12 wok osi z.
Przedstawiony model matematyczny nie ogranicza si do symulacji
rozkadu pola temperatury i pozwala przeprowadzi obliczenia innych
parametrw plazmy, ktre zale od rozkadu temperatury [135].

Rys. 5.12. Wynik symulacji numerycznej rozkadu temperatury w komorze wy-
adowczej reaktora ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym
Weryfikacj matematycznego modelu rozkadu temperatury i energii
czstek plazmy w komorze wyadowczej reaktora plazmowego mona
przeprowadzi, analizujc spektrum wyadowania zarejestrowane, na
przykad, za pomoc spektrometru optycznego. Przykadowe spektra li-
zgajcego si uku elektrycznego, zarejestrowane w argonie i powietrzu,
przedstawia rysunek 5.13. Wynika z nich, e gazy technologiczne, wyko-
rzystane w eksperymencie, zawieray zanieczyszczenia oraz zwizki po-
chodzce z elektrod na skutek erozji elektroiskrowej. Zastosowane w eks-
perymentach elektrody wykonane byy ze stali kwasoodpornej zawieraj-
cej znaczne iloci chromu i niklu a take pewne iloci magnezu, tytanu,
molibdenu i miedzi. Te zanieczyszczenia i wtrcenia, pochodzce z mate-
riau elektrod, mog wpywa na statyczne i dynamiczne charakterystyki
lizgajcego si wyadowania ukowego. Ponadto, w reaktorach z dodat-
Liczba iteracji: 100 T > 10 K i x j = 2880

Liczba iteracji: 118 T < 10 K i x j = 184320

Skala temperatury [K]
168
kow elektrod zaponow, zanieczyszczenia mog obnia bd pod-
wysza warto wytrzymaoci na przebicie przestrzeni midzyelektro-
dowej. Wysoka zawarto zanieczyszcze moe, w ekstremalnej sytuacji,
doprowadzi do zatrzymania wyadowania.

Rys. 5.13. Spektra promieniowania optycznego lizgajcego si wyadowania
ukowego w argonie i powietrzu
Przeprowadzona on-line diagnostyka spektrum promieniowania,
podczas wyadowania razem z przebiegami prdu i napicia, moe suy
jako skuteczny sposb kontroli charakterystyk dynamicznych reaktora
plazmowego ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym, w czasie rze-
czywistym. Spektroskopowa diagnostyka plazmy lizgajcego si wya-
dowania ukowego jest uytecznym narzdziem wyjanienia mechanizmu
przejcia ze stanu rwnowagi termodynamicznej do stanu nierwnowa-
gowego. Dostarcza ona wskazwek do projektowania takiego ukadu za-
silania w energi elektryczn, ktry bdzie w stanie zapewni jak najdu-
szy czas trwania stanu nierwnowagowego oraz nietermiczne warunki
169
generowanej plazmy, w caej objtoci komory wyadowczej reaktora
[159, 168, 171, 174, 182]
5.4. Podsumowanie
Analiza numeryczna urzdze wyadowczych, ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym, jest zagadnieniem stosunkowo zoonym,
z uwagi na konieczno zamodelowania bardzo skomplikowanych nieli-
niowych zjawisk towarzyszcych wyadowaniom elektrycznym. Popraw-
ne modelowanie zjawisk zaponu wyadowa, cyklicznej pracy reaktora
i jego charakterystyk dynamicznych, o parametrach charakteryzujcych
si znaczn zmiennoci przestrzenno-czasow, wymaga istotnej modyfi-
kacji znanych i stosowanych w praktyce modeli wyadowa ukowych.
Przeprowadzona na przykadzie reaktora plazmowego ze lizgajcym
si wyadowaniem ukowym analiza numeryczna pokazaa, e moliwe
jest poprawne modelowanie wymienionych zjawisk, wykorzystujc mo-
dele zaciskowe uku elektrycznego.
Zgodno oblicze numerycznych z wynikami eksperymentu, pozwa-
la dobrze oceni przyjte do analizy modele zaciskowe lizgajcego si
wyadowania ukowego.
Zaproponowane modele numeryczne lizgajcego si wyadowania
ukowego nie uwzgldniaj wszystkich parametrw, ktre mog mie
wpyw na prac reaktora. Dalsze badania powinny by ukierunkowane na
analiz wpywu takich czynnikw jak: skad chemiczny gazu roboczego,
jego prdko, oraz elektryczne parametry zasilacza, na charakterystyki
reaktora ze lizgajcym si ukiem. Obiecujce wydaj si rwnie mode-
le stochastyczne i zastosowanie teorii chaosu do modelowania zjawisk
w lizgajcym si wyadowaniu ukowym. Przedstawiona analiza nume-
ryczna, moe stanowi wygodne narzdzie przy projektowaniu i budowie
reaktorw plazmowych ze lizgajcym si wyadowaniem, i innych reak-
torw plazmowych o podobnej charakterystyce prdowo-napiciowej.
170
6. ZASTOSOWANIE TECHNOLOGII NIETERMICZNEJ PLAZMY
W PROCESACH STERYLIZACJI
Jednym z intensywnie rozwijanych obszarw zastosowa nietermicz-
nej plazmy s technologie ochrony rodowiska naturalnego, a w szcze-
glnoci oczyszczanie powietrza, wody i mediw staych z zanieczysz-
cze organicznych i nieorganicznych [250256]. Poniej przedstawione
zostan wyniki bada wykorzystania nietermicznej plazmy w procesach
sterylizacji gleby.
Sterylizacja i dezynfekcja (odkaanie) maj na celu wyeliminowanie
bd ograniczenie aktywnoci biologicznej mikroorganizmw (bakterii,
grzybw, pleni) w medium poddawanym obrbce ale w taki sposb, aby
nie zmieni jego waciwoci fizycznych, chemicznych i biologicznych,
a w wypadku gleby, aby nie zmniejszy istotnie jej waciwoci odyw-
czych i podnoci. Procesy sterylizacji i dezynfekcji prowadzone s r-
nymi metodami, ktre ze wzgldu na rodzaj gwnego czynnika steryliza-
cji dzieli si na:
metody fizyczne bazujce na wysokiej temperaturze (pasteryzacja
gorcym suchym lub wilgotnym powietrzem autoklawy), mikrofale,
solaryzacja, promieniowanie (UV, gamma), ultradwiki,
metody chemiczne wykorzystujce substancje lotne, cieke i stae
(chloroform, tlenek etylu, bromek metylu, chlor, nadtlenek wodoru,
chlorek rtci, podchloryn sodu, dwutlenek chloru, chloraminy, chlor,
brom i jod),
biotechnologie ktrych dziaanie opiera si na pracy mikro-
organizmw oraz wykorzystaniu szczepw bakteryjnych do wytwarza-
nia enzymw i rodkw powierzchniowo-czynnych. Enzymy rozkada-
171
j zawarte w wodzie tuszcze, a biologiczne rodki powierzchniowo-
czynne oczyszczaj powierzchni,
procesy membranowe odwrcona osmoza, ultrafiltracja, elektrodiali-
za w ktrych separacja zanieczyszcze odbywa si na poziomie mo-
lekularnym lub jonowym, wykorzystywane do odsalania, zmikczania
wody, usuwania substancji organicznych.
Wspczenie stosowane metody dezynfekcji i sterylizacji przedsta-
wiono w tablicy 6.1, podajc ich gwne wady i zalety. Wszystkie wy-
mienione w tabeli 6.1 metody, s w wikszym lub mniejszym stopniu
stosowane w laboratoriach badawczych i w praktyce. Metody termiczne
s stosunkowo proste i najatwiej osigalne, ale mog powodowa zmiany
struktury gleby i uwalnianie aminokwasw. Metody wykorzystujce na-
promieniowanie s skuteczne, nie powoduj istotnych zmian waciwoci
medium poddawanego obrbce, ale ich stosowanie jest ograniczone,
gwnie z powodu drogich urzdze i technologii, zwaszcza, gdy maj
by poddawane obrbce due iloci gleby (in-situ).
Metody chemiczne s najczciej stosowane w procesach sterylizacji
gleby, ale pozostawiaj w glebie toksyczne substancje chemiczne. Wyko-
rzystywany powszechnie do sterylizacji gleby bromek metylu (CH
3
Br),
zosta zakwalifikowany do zwizkw odpowiedzialnych za efekt dziury
ozonowej i std potrzeba poszukiwania alternatywnych metod steryliza-
cji i dezynfekcji gleby i zainteresowanie metodami plazmowymi.
Badania na wykorzystaniem nietermicznej plazmy w procesach ob-
rbki gleby, zapocztkowane zostay przez autork ksiki w Laborato-
rium Przemian Energii Uniwersytetu Kumamoto w Japonii.

172
Tabela 6.1. Metody sterylizacji i dezynfekcji
Czynnik Metoda Zalety i wady
Pasteryzacja,
gotowanie
Najprostsza technika, stosowanie ograniczone do
gospodarstw domowych i wody w niewielkich
zbiornikw wodnych.
Ciepo
Mikrofale Szybka i selektywna metoda odkaania, przyjazna
dla rodowiska, ale o duym zapotrzebowaniu na
energi.
Promieniowanie Ultrafioletowe
gamma
Wysoka skuteczno i wydajno, brak koniecz-
noci stosowania rodkw chemicznych, nie wy-
stpuj groba przedawkowania rodka, wymaga
znacznych nakadw inwestycyjnych i eksploata-
cyjnych.
Membrana Odwrcona
osmoza
ultrafiltracja
elektrodializa
Nie wymagaj dawkowania chemikaliw i nie
powoduj transformacji zanieczyszcze. Naj-
wiksze zastosowania w odsalaniu wody, oczysz-
czaniu ciekw, przygotowaniu wody ultra czy-
stej.
Ultradwiki Myjki
i puczki
Wspomagaj procesy utleniania i rozpadu wiel-
koczsteczkowych zwizkw organicznych po-
chodzenia przemysowego, wykorzystywane przy
utylizacji ciekw. Zastosowanie ultradwikw
do dezynfekcji wody nie wyszo poza sfer bada
laboratoryjnych i ptechnicznych i dotyczy nie-
wielkich zbiornikw.
Bromek metylu,
chlor, fluor
Chemiczna Bardzo czsto wykorzystywana metoda odkaania
i dezynfekcji wody i mediw staych (gleby),
szkodliwe dla rodowiska substancje mog pozo-
stawa w wodzie i gleby przez dugi okres.
Ozon, tlenki
azotu
Plazma nisko-
temperaturowa
Powszechnie wykorzystywana do uzdatniania
wody zamiast szkodliwego chloru. Stosowana
w przemyle elektronicznym do odtuszczania
pytek obwodw drukowanych; wykorzystuje
silne waciwoci bakteriobjcze ozonu i mono
tlenku azotu.
W nastpnym rozdziale przedstawiono wybrane wyniki tych bada
ktre wykazay, e technologie nietermicznej plazmy w procesach steryli-
zacji s konkurencyjnym, a nade wszystko przyjaznym dla rodowiska
rozwizaniem, w stosunku do konwencjonalnych metod chemicznych
i termicznych.
173
6.1. Obrbka gleby
W rolnictwie, technologie nietermicznej plazmy stosowane s od
kilkunastu lat w procesach pasteryzacji i dezynfekcji ywnoci, przy
ograniczaniu i usuwaniu pestycydw z owocw i do rozmikczania zbo-
a. Zastpuj coraz czciej w tych procesach, powszechnie stosowane
zwizki chloru i siarki [243, 244], nie powodujc jednoczenie zmniej-
szenia wartoci smakowych i odywczych produktw ywnociowych.
Wytwarzane w nietermicznej plazmie czstki i rodniki (ozon O
3
, tlenek
azotu NO, promieniowanie UV, a w obecnoci par wody take OH
i H
2
O
2
), nie tylko dezynfekuj produkty ywnociowe, ale take popra-
wiaj ich waciwoci smakowe i odywcze oraz pozwalaj istotnie prze-
duy okres ich przechowywania.
Korzyci wynikajce z zastosowania ozonu w przemyle rolno-
spoywczym wynikaj z dwch gwnych powodw:
jego waciwoci: ozon ma stosunkowo krtki czas poowicznego roz-
padu (rzdu kilkunastu minut w temperaturze pokojowej) i obrbka
gleby ozonem nie skutkuje powstawaniem w glebie substancji toksycz-
nych, ozon bowiem rozpada si na tlen czsteczkowy i jest natychmiast
wykorzystywany w glebie,
sposobu wytwarzania: ozon nie moe by gromadzony, a musi by wy-
twarzany w miejscu, gdzie jest wykorzystywany, co uniemoliwia na-
ge uwolnienie do atmosfery duych jego iloci; inaczej ni podczas
transportu takich substancji jak chlor, bromek metylu, fluor, etylen, itp.
Badania nad plazmow sterylizacj gleby, ktrych wyniki przedstawiono
poniej, obejmoway:
wybr rodzaju reaktora plazmowego, jako rda czynnikw steryliza-
cji (ozonu, tlenku azotu),
174
okrelenie elektrycznych parametrw sterylizacji oraz zbadania moli-
woci sterowania parametrami procesu,
wybr i przetestowanie metody analizy waciwoci gleby poddanej
obrbce plazmo-chemicznej,
okrelenie wysokoci dawki O
3
/NO oraz wpywu czasu ekspozycji,
konduktywnoci, temperatury i innych parametrw gazu plazmowego,
na skuteczno procesu sterylizacji gleby.
badanie wzrostu rolin w glebie poddanej obrbce plazmowej.
W szczeglnoci przebadano reaktory barierowe o elektrodach wysoko-
napiciowych w postaci ruby i piramidy dla rnych przepyww gazu
(powietrza, tlenu), dugoci elementw wyadowczych, obecnoci i spo-
sobu chodzenia elektrod i od elektrycznych parametrw zasilania (warto-
ci napicia, mocy, czstotliwoci). Zbadano take wpyw plazmowej
obrbki gleby na jej przewodno, kwasowo oraz zawarto substancji
azotowych czynniki, ktre maj istotny wpyw na waciwoci gleby,
jej yzno i proces wzrostu rolin.
Wyadowania elektryczne barierowe i powierzchniowe generowane
byy w reaktorach, ktrych geometri przedstawiono na rysunku 6.1.
Elektrody w ksztacie ruby i piramidy wykonane byy ze stali nierdzew-
nej i w wikszoci bada doczone byy do zacisku wysokonapiciowego
rda. Elektrod niskonapiciow (uziemion) stanowia folia aluminio-
wa bd miedziana umieszczona na/lub wewntrz elektrody (rurki) szkla-
nej (Rys. 6.2). Podczas eksperymentu, w ktrym badano wpyw chodze-
nia elektrod reaktora na koncentracje ozonu i wydajno jego wytwarza-
nia, elektroda rubowa bd piramidowa, wydrone wewntrz, byy
chodzone wod i wtedy stanowiy elektrod uziemion, a zacisk rda
175
wysokiego napicia doczony by do zewntrznej opaski miedzianej,
umieszczonej na elektrodzie kwarcowej (Rys. 6.2).


Rys. 6.1. Konfiguracje elektrod badanych reaktorw z barier dielektryczn:
a) reaktor z elektrod ksztacie ruby, b) elektroda piramidowa, c) reaktor z wy-
adowaniami powierzchniowymi, d) idea budowy elementu wyadowczego reak-
tora z wyadowaniami powierzchniowymi
Pomiary wykonywano dla czterech dugoci elektrod reaktora: 100,
200, 300 i 400 mm, dla powietrza i tlenu jako gazu plazmowego, przy
dwch prdkociach przepywu gazu, przy cinieniu atmosferycznym.
System pomiarowy przedstawiony na rysunku 6.3 skada si z generatora
fali sinusoidalnej o regulowanej czstotliwoci i napiciu, ukadu dozo-
wania i regulacji przepywu gazw roboczych, miernikw koncentracji
ozonu i tlenkw azotu oraz miernikw napicia, prdu i mocy. Przebiegi
chwilowe prdu i napicia wyadowa barierowych rejestrowano oscylo-
graficznie, a moc czynn wyadowa wyznaczano z krzywych Lissajous
176
[91]. Warunki eksperymentu i parametry geometryczne badanych reakto-
rw zestawiono w tablicy 6.2.
a) b)


Rys. 6.2. Ozonator z elektrod rubow chodzon wod (a), b) zdjcie ozonato-
ra laboratoryjnego
Gaz powstajcy w wyniku wyadowa w powietrzu, bdcy miesza-
nin ozonu i tlenkw azotu, wprowadzano do prbek gleby umieszczo-
nych w komorze klimatyzacyjnej.

Rys. 6. 3. Schemat ukadu pomiarowego
Koncentracje ozonu i tlenku azotu, wprowadzanych do prbek gleby,
wynosiy od 100 ppm do 50 000 ppm [193]. Badano take gboko, na
177
jak gaz plazmowy penetruje prbk gleby oraz wpyw jego czasu kon-
taktu na waciwoci biologiczne, fizyczne i chemiczne gleby. Parametry
gleby (kwasowo pH, przewodno elektryczn EC, zawarto zwiz-
kw azotu NO
3
NH i NH
3
NO oraz temperatur) mierzono umieszczajc
w zbiorniku z gleb dwa zestawy czujnikw (rys. 6.4).
Tabela 6.2. Parametry geometryczne reaktora i warunki eksperymentu
Dugo elektrod , mm 100, 200, 300, 400
Ksztat elektrod ruba, piramida (0,8mm;1mm)
Dugo szczeliny, mm 1
Czstotliwo napicia zasilajcego, kHz 10 , 30 , 50
Przepyw gazu roboczego, lit/min 1, 2
Cinienie gazu, atm 1
Rodzaj gazu powietrze, tlen (czysto 99,9%)
Chodzenie elektrod brak, wodne
Zbiornik z gleb umieszczony by w komorze klimatyzacyjnej o kon-
trolowanych warunkach nawietlenia i temperatury.


Rys. 6.4. Rozmieszczenie sensorw pH i EC w zbiorniku z gleb
178
Koncentracj ozonu O
3
oraz tlenkw azotu NO i NO
x
, zmierzone
w funkcji napicia wyadowania dla trzech jego czstotliwoci dla prd-
koci przepywu powietrza rwnej 1lit/min, przedstawiono na rysunkach
6.5, 6.6 i 6.7. Wzrostowi czstotliwoci napicia zasilajcego towarzyszy
spadek koncentracji ozonu i wzrost koncentracji tlenkw azotu. Dla cz-
stotliwoci 30 kHz i 50 kHz koncentracja ozonu w g/m
3
bya bliska zeru.
Z punktu widzenia koncentracji ozonu optymalna czstotliwo zasilania
wynosia 10 kHz i dalsze badania byy prowadzone dla tej czstotliwoci.
Wytwarzany w wyadowaniu barierowym tlenek azotu NO, jest ak-
tywnym, cho niestabilnym, rodnikiem o podobnych waciwociach bak-
teriobjczych i dezynfekujcych jak ozon. Stenie tlenku azotu NO
w gazie wylotowym badanego ozonatora roso wraz z wartoci napicia
i czstotliwoci, osigajc warto maksymaln rwn 780 ppm przy
f = 30 kHz i U = 7 kV (Rys. 6.6), przy czym warto stenia NO zaleaa
od natenia przepywu gazu. Jak wynika z rysunku 6.8, im wikszy
przepyw gazu, tym mniejsze byy wartoci stenia NO, i przy przepy-
wie 3 lit/min, jego zawarto bya pomijalnie maa. Koncentracj ozonu
i tlenkw azotu NO i NO
x
, w najkorzystniejszych warunkach pracy ozo-
natora (prdko przepywu powietrza 2lit/min, czstotliwo 10 kHz),
w funkcji mocy dostarczanej do przestrzeni wyadowa, przedstawiono
na rysunku 6.9.
Na rysunku 6.10 przedstawiono zaleno koncentracji ozonu
w funkcji napicia zasilajcego, dla rnych ksztatw elektrody wysoko-
napiciowej, a na rysunku 6.11 dla porwnania koncentracje ozonu uzy-
skiwane w reaktorze z wyadowaniami powierzchniowymi (rys. 6.1 c i d).
Jak wynika z rysunku 6.11, w wyadowaniach powierzchniowych, mona
uzyska znacznie wiksze koncentracje ozonu, dla tych samych wartoci
napi, ale moliwoci regulacji koncentracji ozonu w caym zakresie
zmian napicia zasilajcego s bardziej ograniczone.
179
Rys. 6.5. Koncentracja O
3
, NO i NO
x
w funkcji napicia dla f = 10 kHz
Rys. 6.6. Koncentracja O
3
, NO i NO
x
w funkcji napicia dla f = 30 kHz
Rys. 6.7. Koncentracja O
3
, NO i NO
x
w funkcji napicia dla f = 50 kHz
0
0.5
1
1.5
2
0
100
200
300
400
500
600
4 4.5 5 5.5 6 6.5 7
O
3

NO
NOx g/m
3
ppm
Napicie (kV)
10 kHz
1 lit/min
powietrze
0
200
400
600
800
1000
1200
4.5 5 5.5 6 6.5 7 7.5
NO
NOx
ozon
ppm
Napicie (kV)
30 kHz
1 lit/min
powietrze
0
0.5
1
1.5
2
0
200
400
600
800
1000
3.7 3.8 3.9 4 4.1 4.2 4.3 4.4 4.5
O
3

NO
NOx
g/m
3 ppm
Napicie (kV)
50 kHz
1 lit/min
powie-
trzeee
180
0
200
400
600
800
1000
1200
0 50 100 150 200 250 300 350
1 lit/min
2 lit/min
3 lit/min
S
t

e
n
i
e

N
O

(
p
p
m
)
Moc (W)
Czstotliwo 30 kHz
powietrze
0
200
400
600
800
1000
1200
0 50 100 150 200 250 300 350
1 lit/min
2 lit/min
3 lit/min
S
t

e
n
i
e

N
O

(
p
p
m
)
Moc (W)
Czstotliwo 30 kHz
powietrze


Rys. 6.8. Zaleno stenia NO w
funkcji mocy wyadowania i prdko-
ci przepywu gazu
Rys. 6.9 Zaleno koncentracji ozonu
i tlenkw azotu od mocy wyadowa
0
5
10
15
20
1.5 2 2.5 3 3.5 4 4.5 5 5.5
ruba
piramida-0.8mm
piramida-1mm
K
o
n
c
e
n
t
r
a
c
j
a

o
z
o
n
u

(
g
/
m
3
)
Napicie (kV)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
dugo elektrody 100 mm
0
5
10
15
20
1.5 2 2.5 3 3.5 4 4.5 5 5.5
ruba
piramida-0.8mm
0
5
10
15
20
1.5 2 2.5 3 3.5 4 4.5 5 5.5
ruba
piramida-0.8mm
piramida-1mm
K
o
n
c
e
n
t
r
a
c
j
a

o
z
o
n
u

(
g
/
m
3
)
Napicie (kV)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
dugo elektrody 100 mm


Rys. 6.10 Koncentracja ozonu w funk-
cji napicia zasilajcego dla rnych
konfiguracji elektrod (rys. 6.1 a i b)
Rys. 6.11. Koncentracja O
3
w reakto-
rze z wyadowaniami powierzchnio-
wymi (rys. 6.1.c i d)
0
50
100
150
200
250
300
0 5 10 15 20
Bez chlodzenia
chodzenie
S
p
r
a
w
n
o

g
e
n
e
r
a
c
j
i

o
z
o
n
u
(
g
/
k
W
h
)
Moc (W)
czstotliwo 10 kHz
przepyw 2 lit/min
piramid (1 mm)
0
50
100
150
200
250
300
0 5 10 15 20
Bez chlodzenia
chodzenie
S
p
r
a
w
n
o

g
e
n
e
r
a
c
j
i

o
z
o
n
u
(
g
/
k
W
h
)
Moc (W)
0
50
100
150
200
250
300
0 5 10 15 20
Bez chlodzenia
chodzenie
S
p
r
a
w
n
o

g
e
n
e
r
a
c
j
i

o
z
o
n
u
(
g
/
k
W
h
)
Moc (W)
czstotliwo 10 kHz
przepyw 2 lit/min
piramid (1 mm)

0
5
10
15
20
25
0 5 10 15 20
bez chodzenia
chodzenie
K
o
n
c
e
n
t
r
a
c
j
a

o
z
o
n
u

(
g
/
m
3
)
moc (W)
czstotliwo 10 kHz
przepyw 2 lit/min
piramida (1 mm)
0
5
10
15
20
25
0 5 10 15 20
bez chodzenia
chodzenie
K
o
n
c
e
n
t
r
a
c
j
a

o
z
o
n
u

(
g
/
m
3
)
moc (W)
czstotliwo 10 kHz
przepyw 2 lit/min
piramida (1 mm)

Rys. 6.12. Wpyw chodzenia elektro-
dy uziemionej na sprawno generacji
ozonu
Rys. 6.13. wpyw chodzenia elektrody
uziemionej na koncentracj ozonu
0
20
40
60
80
100
0 1 2 3 4 5 6
napicie (kV)
przepyw 2 lit/min
tlen (99.9 %)
g/m
3

181
Wpyw warunkw chodzenia elektrod na sprawno generacji ozonu
i jego koncentracj przedstawiaj rysunki 6.12 i 6.13. Jak wynika z ry-
sunkw 6.12 i 6.13 koncentracja ozonu, ktra w ukadzie bez chodzenia
elektrod osiga warto 14 g/m
3
, zostaje dziki chodzeniu wodnemu
prawie podwojona (23 g/m
3
), za sprawno generacji ozonu przy mocy
P = 15 W wzrasta od wartoci 120 g/kWh (bez chodzenia elektrod) do
200 g/kWh w warunkach chodzenia.
Zaleno koncentracji ozonu, generowanego z tlenu w reaktorze
z elektrod rubow i sprawno jego generacji, od dugoci elektrody
wyadowczej, przedstawia rysunek 6.14.
(a)


(b)

Rys. 6.14. Wpyw dugoci elektrod na koncentracje ozonu (a) i sprawno jego
generacji (b)
Wpyw dugoci elektrod na sprawno generacji ozonu jest niewiel-
ka, natomiast koncentracja ozonu (rys. 6.14 a) ronie istotnie wraz z du-
goci elektrod i jej maksimum przesuwa si w stron wyszych mocy.
Dla reaktora o dugoci elektrod rwnej 400 mm, maksymalna koncentra-
cja ozonu jest rwna 25 g O
3
/m
3
przy P = 55 W. Wanym parametrem,
okrelajcym skuteczno generacji ozonu w wyadowaniu barierowym,
jest zaleno sprawnoci jego generacji w g/kWh od koncentracji
w g/m
3
. Sprawno generacji ozonu zaley take od rodzaju elektrod i ich
0
5

10

15

20

25

30

0 1

2

3

4

5

6

100mm
200mm
300mm
400mm
Moc (W)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
elektroda rubowa
g/kWh
0
5
10
15
20
25
30
0 10 20 30 40 50 60
100mm
200mm
300mm
400mm
Moc (W)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
elektroda rubowa
g/m
3

182
dugoci (Rys. 6.15). Jak wynika z przedstawionych na rys. 6.15 wyni-
kw, najlepsz sprawno generacji ozonu, przy akceptowalnej jego kon-
centracji, uzyskuje si w reaktorze z elektrod w ksztacie ruby o dugo-
ci 100 mm. Wzrost dugoci elektrody daje wiksze koncentracje ozonu,
ale przy mniejszej sprawnoci energetycznej procesu.
a)

0
50
100
150
200
250
300
350
0 5 10 15 20 25
ruba
piramida-0.8mm
piramida-1mm
Koncentracja ozonu (g/m
3
)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
Dugoc elektrod 100 mm
S
p
r
a
w
n
o

g
e
n
e
r
a
c
j
i

o
z
o
n
u
(
g
/
k
W
h
)


b)

0
50
100
150
200
250
300
350
0 5 10 15 20 25 30
koncentracja ozonu(g/m
3
)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
elektroda rubowa
100mm
200mm
300mm
400mm
S
p
r
a
w
n
o

g
e
n
e
r
a
c
j
i

o
z
o
n
u

(
g
/
k
W
h
)


Rys. 6.15. Sprawno generacji ozonu w funkcji jego koncentracji dla rnych
ksztatw elektrod (a) i ich dugoci (b)
Przebiegi napicia i prdu wyadowania barierowego w reaktorze
z elektrod rubow i piramidow pokazano na rysunku 6.16. Wyadowa-
nie ma struktur wknist (z ang. filaments) i przebieg prdu skada si
z nanosekundowych impulsw statystycznie rozoonych w kadym p-
okresie zmian napicia zasilajcego. Ich liczba i amplituda zale od war-
toci napicia i czstotliwoci a take od dugoci i ksztatu elektrod. Za-
zwyczaj impulsy prdu nie s rwnomierne rozmieszczone w dodatnim
i ujemnym cyklu napicia zasilajcego. Maj wysz amplitud
i s mniej gsto rozmieszczone, gdy elektroda wysokonapiciowa jest
chwilow katod, co jest szczeglnie widoczne dla duszych elektrod.
Przy staej dugoci elektrod podwyszenie napicia zasilajcego prowa-
dzi do bardziej rwnomiernego rozmieszczenia impulsw prdu. Ksztat
elektrody wysokonapiciowej, przy staej wartoci napicia i dugoci
183
elektrody, ma take wpyw na przebieg prdu wyadowania (rys. 6.16a
i b).
a)

b)
Rys. 6.16. Przebiegi prdu i napicia w reaktorze o dugoci elektrod 100 mm,
z elektrod rubow (a) i piramidow 0,8 mm (b), dla napicia U = 5,0 kV
Dla elektrody piramidowej obserwuje si wiksz liczb impulsw
prdu o mniejszej amplitudzie i bardziej rwnomierne ich rozmieszczenie
w dodatniej i ujemnej powce przebiegu ni dla elektrody rubowej.
Zwikszona liczba impulsw prdu sprzyja wytwarzaniu ozonu na skutek
dekompozycji tlenu, ale w kontakcie z licznymi mikro-wyadowaniami
ozon rozpada si w tlen czsteczkowy, co prowadzi do zmniejszenia kon-
centracji ozonu w reaktorze z elektrod piramidow. Ponadto, wzrost
temperatury elektrody szklanej, na skutek strat dielektrycznych przy wy-
sokiej czstotliwoci, powoduje destrukcj dopiero co wytworzonego
ozonu. Otrzymane wyniki wskazuj, e reaktor z elektrod piramidow
jest odpowiedni do generacji mniejszych koncentracji ozonu, podczas gdy
reaktor rubowy powinien by stosowany tam, gdzie wymagane s wik-
sze stenia ozonu [193203, 246].
-6
-4
-2
0
2
4
6
-80
-60
-40
-20
0
20
40
60
80
0 20 40 60 80 100
czas ( s)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
dugo elektrody 100 mm
kV
mA
prd
napicie
-
6
-
4
-
2
0
2
4
6
-
80
-
60
-
40
-
20
0
2

4

6

8

0 2

4

6

8

10

czas ( s)
przepyw 2 lit/min
czstotliwo 10 kHz
dugo elektrody 100 mm
kV
prd
napicie
mA
184
Wybrane wyniki obrbki gleby za pomoc ozonu o koncentracji
5000 ppm, czasie ekspozycji 30 min, przepywie gazu 1 l/min przedsta-
wiono w tabelach 6.3 i 6.4. Stwierdzono ponad 98% spadek iloci bakterii
w glebie oraz 87% zmniejszenie zarodnikw grzybw po obrbce pla-
zmowej. Wrd bakterii zmniejszeniu ulega ilo odpowiedzialnych za
tworzenie azotkw (tzw. bakterii azotowych), co skutkowao zwiksze-
niem zawartoci wskanikw NH
4
N i NO
3
N. Zawarto mineraw
w glebie nie ulega istotnej zmianie po obrbce plazmowej.
Tabela 6.3. Wyniki obrbki gleby ozonem (*)
Prbka
gleby
wilgotno
%
EC
mS/m
pH

NH
4
-N
mg/100g
NO
3
-N
mg/100g
bez obrbki 30.7 34 6.5 14.9 0.5
po obrbce 23.7 79 5 18 22
(*)
warunki obrbki: 5000 ppm, 30 minut, 1 lit/min.

Tabela 6.4. Zawarto w glebie bakterii, grzybw i mineraw przed i po
obrbce
Mineray, mg/100g Prbka
gleby
Bakterie
cfu/cc
Grzyby
cfu/cc P
2
O
5
K
2
0 Ca0 MgO Fe Mn
bez obrbki 3.810
7
1.810
5
674 37 1112 913 4721 612
po obrbce 8.510
5
2.710
4
700 44 1076 946 4697 637
Jako gleby charakteryzowana jest poprzez jej kwasowo pH,
przewodno elektryczn EC, zawarto wody pF oraz zwizkw azotu
NH
4
-N i NO
3
-N. Wielkoci te, wraz z temperatur gleby, badano w czasie
60 minut wprowadzania ozonu bd tlenku azotu NO do prbki gleby,
oraz po obrbce ozonem podczas kolejnych 60 minut, a wyniki pomiarw
przedstawiono na rysunkach 6.17 i 6.18.


185


Rys. 6.17. Zmiany pH gleby (a) oraz EC i temperatury gleby (b) w czasie wprowa-
dzania do gleby ozonu 60 min obrbki ozonem i nastpne 60 min po obrbce


Rys. 6.18. Zmiany pH (a), EC i temperatury gleby (b), w czasie wprowadzania do
gleby tlenku azotu NO 60 min obrbki NO i nastpne 60 min po obrbce
Po 40 minutach od wprowadzenia ozonu do prbki gleby (rys. 6.17),
zaobserwowano skokowe zmniejszenie pH w odlegoci 3 cm od dyszy
dozujcej ozon, ktre nastpnie stopniowo wzrastao. Podobne zjawisko
obserwowano przy wprowadzaniu do gleby NO (Rys. 6.19a), ale po 20
minutach od rozpoczcia dozowania. Rysunki 6.17b, 6.18b i 6.19b przed-
stawiaj przewodno elektryczn EC prbki gleby, ktra take wykazuje
skokowe zmiany w pierwszych 20 minutach obrbki ozonem/tlenkiem
azotu i nastpnie stopniowo osiga warto ustalon, wiksz ni przed
186
obrbk ozonem i mniejsz dla obrbki tlenkiem azotu. Zaobserwowano
take, towarzyszce zmianom pH i EC, zmiany temperatury gleby, praw-
dopodobnie zwizane z reakcjami egzotermicznymi zainicjowanymi
ozonem.
obrbka ozonem po obrbce
4.5
5
5.5
6
6.5
7
0 20 40 60 80 100 120
3cm
6cm
p
H
Czas (min)
Koncentracja ozonu 100 g/m
3
czas obrbki 60 min
przepyw 2 lit/min
obrbka ozonem po obrbce
4.5
5
5.5
6
6.5
7
0 20 40 60 80 100 120
3cm
6cm
p
H
Czas (min)
Koncentracja ozonu 100 g/m
3
czas obrbki 60 min
przepyw 2 lit/min
4.5
5
5.5
6
6.5
7
0 20 40 60 80 100 120
3cm
6cm
p
H
Czas (min)
Koncentracja ozonu 100 g/m
3
czas obrbki 60 min
przepyw 2 lit/min


Rys. 6.19. Zmiany pH gleby (a) i jej przewodnoci EC (b) w czasie i po obrb-
ce ozonem w zalenoci od odlegoci od dyszy wprowadzajcej ozon do prbki
gleby
Badania skutecznoci sterylizacji gleby za pomoc ozonu i tlenku
azotu przeprowadzono wprowadzajc do 50. gramowej prbki gleby
zmienne dawki (stenia) ozonu (040 gO
3
/m
3
) w czasie do 60 minut. Do
sterylnych prbek gleby wprowadzano zarodniki grzybw z gatunku Fu-
sarium Oxysporum w iloci 10
6
kolonii/ml i nastpnie po 72 godzinach
oznaczano liczb przetrwalnikw w jednostkach CFU (jednostek tworz-
cych kolonie z ang. colony forming units). Cakowit dawk ozonu
w gramach wyznaczono jako iloczyn koncentracji ozonu, przepywu gazu
i czasu trwania obrbki. Przykadowo, w prbce gleby zawierajcej po-
cztkowo 7,210
6
jednostek tworzcych kolonie zarodnika grzyba Fusa-
rium Oxysporum, po 60 minutach obrbki, w ktrej uyto 6,39 grama
ozonu o koncentracji 38,5 g/m
3
przy przepywie gazu 3 lit/min, zmierzo-
no tylko 1,210
2
CFU zarodnikw grzybw. Na rysunku 6.20 przedsta-
0
20
40
60
80
100
0 20 40 60 80 100 120
3cm
6cm
Czas (min)
koncentracja ozonu 100 g/m
3
czas obr bki 60 min
? yw 2 lit/min
po obrbce
0
20
40
60
80
100
0 20 40 60 80 100 120
3cm
6cm
EC,
mS/m
Czas (min)
koncentracja ozonu 100 g/m
3
czas obrbki 60 min
prze-
pyw
2 lit/min
obrbka ozonem
187
wiono stopie sterylizacji prbki gleby w zalenoci od wypadkowej
dawki ozonu w gramach. Jak wynika z rysunku 6.20, oraz z tablicy 6.4
sterylizacja jest skuteczna, jeli dawka przekracza 0,6 grama ozonu na
50 g gleby. Zarodniki grzyba Fusarium Oxysporum zostay niemal ca-
kowicie unieszkodliwione po 10 minutowej obrbce ozonem o steniu
20 g/m
3
. Po 20 minutach obrbki z t sam dawk ozonu usunito z gleby
86% bakterii.
100 %
0
20
40
60
80
100
6.93 3.42 1.2 0.6 0.3 0
S
t
e
r
y
l
i
z
a
c
j
a

(
%
)
Ozon cakowity (g)
100 %
100 %
99.91%
97.54%
22.8%
100 %
0
20
40
60
80
100
6.93 3.42 1.2 0.6 0.3 0
S
t
e
r
y
l
i
z
a
c
j
a

(
%
)
Ozon cakowity (g)
100 %
100 %
99.91%
97.54%
22.8%

Rys. 6.20. Stopie sterylizacji gleby ozonem w zalenoci od jego cakowitej
dawki w gramach (prbka gleby zawieraa pocztkowo od 410
6
710
6
zarod-
nikw grzybw)
W innym eksperymencie, prbki gleby zanieczyszczono nicieniami
pasoytujcymi na korzeniach rolin (z ang. root-knot nematodes) [203].
Po wprowadzeniu do prbki gleby ozonu o steniu 45 g/m
3
w czasie 20
minut przy przepywie gazu 3 lit/min, nie stwierdzono po eksperymencie
adnych nicieni w objtoci prbki gleby (od powierzchni do gbokoci
5 cm). Co wicej, po 30 dniach od obrbki ozonem zmierzono zawarto
nicieni w glebie, na ktrej posadzono sadzonki melona, i stwierdzono
niemal 2-krotne zmniejszenie zawartoci nicieni w stosunku do gleby nie
poddanej obrbce ozonem.
188
Analiza procesu obrbki gleby za pomoc ozonu i tlenku azotu, gene-
rowanych w nietermicznej plazmie wyadowania barierowego, jest bardzo
zoona, bowiem dla zrozumienia zjawisk naley wzi pod uwag wiele
czynnikw i parametrw zarwno samej gleby (skad, zawarto zanie-
czyszcze nieorganicznych, organicznych i mikro-biologicznych, kwaso-
wo, wilgotno), jak i parametrw plazmy (elektrony, wzbudzone ato-
my tlenu i azotu, ozon, tlenki azotu, rodniki, promieniowanie ultrafiole-
towe), oraz parametrw procesu (czas ekspozycji, wielko dawki ozonu,
temperatura).
Tablica 6.5. Sterylizacja gleby ozonem in-situ
Bakterie Grzyby Fusarium Oxysporum
Przed obrbk, CFU/cm
3
1,810
5
5,710
6

Przepyw gazu, l/min 1 3
Stenie, g/m
3
20 10 20
Czas kontaktu, min 20 10 10
Po obrbce ozonem, CFU/cm
3
2,7810
4
1,4810
5
1,710
2

Stopie sterylizacji 86% 97,5% 99,9%

Obecne w glebie, na skutek mikrobiologicznej aktywnoci bakterii
azotowych oraz procesw nawoenia, tlenki azotu reaguj z produktami
wyadowania barierowego w powietrzu, co wpywa na fizyczne i che-
miczne waciwoci gleby a tym samym na wzrost rolin. Wstpne bada-
nia wasne [197203, 245] oraz innych autorw [243, 244] potwierdzaj,
e ozon i tlenki azotu wytwarzane w wyadowaniu barierowym w odpo-
wiednio dobranych dawkach mog sprzyja wzrostowi rolin. Przepro-
wadzona przez badaczy japoskich [259] analiza ekonomiczna obrbki
gleby ozonem dla nastpujcych parametrw: koncentracja ozonu
100 g/m
3
, przepyw gazu 2 l/min, czas obrbki 60 min, sprawno gene-
racji ozonu 100 g/kWh, przy aktualnej cenie 1 kWh energii elektrycznej
rwnej 20 centw (wg cen korporacji energetycznej Kyushu w 2008 r),
189
wykazaa, e obrbka 1 m
2
gleby kosztuje okoo 2 dolary amerykaskie.
Jest to koszt konkurencyjny w stosunku do konwencjonalnych chemicz-
nych metod sterylizacji gleby. Biorc pod uwag, e metoda sterylizacji
gleby ozonem jest przyjazna dla rodowiska, a generatory ozonu mog
by zasilane ze rde odnawialnych (panele fotowoltaiczne, farmy wia-
trowe), naley spodziewa si dalszych bada nad optymalizacj parame-
trw procesu i nastpnie szybkiego upowszechnienia tej metody obrbki
gleby w praktyce.
6.2. Podsumowanie
Nietermiczna plazma, generowana w wyadowaniach barierowych,
jest stosowana w procesach sterylizacji i dezynfekcji mediw staych,
ciekych i gazowych z uwagi na jej liczne zalety, z ktrych najwaniejsze
to brak ubocznych, szkodliwych dla rodowiska, produktw odpadowych,
moliwo prowadzenia obrbki plazmo-chemicznej przy cinieniu at-
mosferycznym i w temperaturach otoczenia. Badania w tej dziedzinie
prowadzone s przez wiele orodkw naukowo-badawczych na wiecie.
Poszukuje si nowych rde plazmy o wysokiej wydajnoci czasowo-
przestrzennej, doskonalone s istniejce konstrukcje reaktorw plazmo-
wych i ich ukady zasilania, pojawiaj si nowe zastosowania procesw
plazmowych w inynierii rodowiska, medycynie, nano- i biotechnolo-
giach. Zastosowanie nietermicznej plazmy w przemyle rolno-
spoywczym do dezynfekcji, przechowywania produktw, stymulacji
wzrostu rolin, wydaje si by konkurencyjnym rozwizaniem w stosun-
ku konwencjonalnych metod chemicznych i w peni uzasadnione jest kon-
tynuowanie bada w tym zakresie.

191
LITERATURA
[1] EU focus on clean air. Publication of European Commission, 2006
[2] Rot h J. R. , Industrial Plasma Engineering. Institute of Physics Publishing,
Bristol and Philadelphia, 1995
[3] Janowski T. , St r yczewska H. D. , Electrical power losses and efficiency of
ozone generator, Polish Journal of Applied Chemistry, vol. XXXIX, 4, PWN
Warszawa 1995
[4] Lesueur H. , Czer ni chowski A. , Chapel l e J., Apparatus for generation of
low temperature plasmas by the formation of gliding arc discharges. Patent
Application, France, National registration No 8814932, 1990
[5] Czer ni chowski A. , Ranai vosol oar i manana A. , Janowski T. ,
St r yczewska H. D, Coj an M, Fr i dman A. A. , PlasmaChemical
Processing of CO
2
in a Gliding Arc Reactor Supplied at 50 or 150 Hz, Post-
conference Proceedings of The International Conference on Electromagnetic
Devices and Processes in Environment Protection ELMECO'94, Lublin, 8-9th
Sept. 1994, 1994
[6] Janowski T. , St r yczews ka H. D. , Hybrydowy zasilacz plazmotronu do
prowadzenia reakcji chemicznych, Opis patentowy PL 172170, 1993
[7] International Energy Agency. World Energy Outlook to the Year 2010, Paris
1993
[8] Uchwaa Konferencji Sztokholmskiej z dnia 14.06.1972 roku, dotyczca
naturalnego rodowiska czowieka. Tekst na stronie internetowej:
http://greenworld.serwus.pl/deklaracja_sztokholmska1.htm
[9] UNCED Agenda 21, United Nations Conference on Environment and
Development, Rio de Janeiro 1992
[10] Sustainable Development Report, Manitoba Hydro, Third Edition, 1996, 1997.
[11] Martenson A., Energy use-for what? In series of booklets from The Baltic
University Programme: Energy. From fossil fuels to sustainable energy resources,
editor Jurgen Salay Lund University, 1996
[12] Hal i t Er en, Environmental Impacts of Technology, J. Webster (ed.), Wiley
Encyclopedia of Electrical and Electronics Engineering Online, 2001
[13] Har r i son R. M. , Pollution-Causes, Effects and Control, Cambridge, UK, 3rd
ed. The Royal Society of Chemistry, 1996.
[14] EU-25 Energy and Transport Outlook to 2030, European Commission, January
2003
[15] Ko aci ski Z. , Cedzyska K. , Szymaski , Arc plasma towards clean
environment, 9th International Conference on Switching Arc Phenomena,
Materiay konferencyjne 2001
[16] Ko aci ski Z. , Plasma treated waste destruction, ASEM Workshop on Europe-
Asia Cooperation on Clean technologies, organized by European Commission
and Vietnamese Academy of Science, Hanoi 2004
[17] Ko aci ski Z. , Cedzyska K. , Valuable building materials made of plasma
vitrified waste, invited lecture for Industrial Workshop at the 17
th
ISPC, Toronto,
2005
[18] Szymaski . , Termiczny rozpad i utylizacja odpadw ukiem elektrycznym,
Rozprawa doktorska, d 2004
192
[19] Praca zbiorowa pod redakcj T. Janowskiego, Nadprzewodnikowe ograniczniki
prdw, Lublin 2003
[20] Praca zbiorowa pod redakcj T. Janowskiego Nadprzewodnikowe zasobniki
energii , Lublin 2008
[21] Ar ci mowi cz, L. A. Czwarty stan materii, Wiedza Powszechna, Warszawa
1972
[22] Cel i ski , Z. , Plazma, PWN Warszawa 1980
[23] Or aj ewski W. N., Plazma na Ziemi i w kosmosie, PWN Warszawa 1989
[24] Kor dus A., Plazma. Waciwoci i zastosowania w technice, WNT Warszawa,
1985
[25] Kr al l N. A. , Tr i vel pi ece A. W., Fizyka plazmy, WNT Warszawa 1979
[26] Li eber man M. A. , Li cht enber g A. J. , Principles of Plasma Discharges and
Materials Processing, Wiley, New York, 1994
[27] Non-thermal Plasma techniques for Pollution Control, Part. A: Overview,
Fundamentals and Supporting Technologies, edited by M. Penetrante & Shirley
E. Schultheis, NATO ASI Series G: Ecological Science, vol.34, part A and B,
Springer-Verlag 1993
[28] Pol l o I . , OZON. Waciwoci, produkcja, zastosowania, Prace Instytutu
Matematyki, Fizyki I Chemii, Politechnika Lubelska, Wydawnictwa Uczelniane,
Seria A, Nr 4, 1983
[29] Schal ekamp M. , Ozone technology in Switzerland yesterday, today and
tomorrow, Proceedings of II International Conference on High Pressure Low
Temperature Plasma Chemistry, HAKONE89, ed. By Technical University of
Lublin, 1989
[30] Vasi l i ev M. , Vasi l i eva T. , Electron-beam plasma in the production of
bioactive agents and drugs , Proceedings of 17
th
International Conference on
Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 57, 2005
[31] Ebi har a K. , Takayama M. , I kegami T. , St r yczewska H. D. ,
Gyout oku Y. , Yokoyama T. , Gunj i kake N. , Mi zukami H. , Ar aki
S. , Tachi bana M. , Sakai T. , Soil Sterilization Using Ozone Generated By
Dielectric Barrier Discharge, Proceedings of 17
th
International Conference on
Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 64, 2005
[32] Pacheco M. , Mor eno H. , Pacheco J. , Automotive toxic gases removal by
non thermal plasma, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma
Chemistry, CD-rom, paper No 110, 2005
[33] Gi r ar d- Laur i aul t P. - L. , Mwal e F. , I or danova M. , Demer s C. ,
Desj ar di ns P. , Ler ouge S. , Wer t hei mer M. R. , Atmospheric Pressure
Deposition of Micro-Patterned N-rich Plasma-Polymer Films for Tissue
Engineering, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry,
CD-rom, paper No 133, 2005
[34] Gr ossmannov H. , Krma F. , Sl nsk K. , VOC Destruction in
Atmospheric Pressure Plasma Discharge, Proceedings of 17
th
International
Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 158, 2005
[35] Li Ke, Chen Ji e-r ong , Mo Xi ao- yan, Li Ru , Li Yi ng, Study of non-
thermal plasma on the efficacy and mechanisms of indoor air sterilization,
Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom,
paper No 203, 2005
193
[36] Mor eau M. , Feui l l ol l ey M. G. J. , Meyl heuc T. , Cheval i er S. ,
Or ange N. , . Br i sset J. L, Bio-decontamination by Gliding Arc Discharges:
Application to the treatment of Erwinia carotovora atroseptica 1526, Proceedings
of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 297,
2005
[37] Lock E. H. , Savel i ev A. V. , Kennedy L. A. , Removal of Methanol and
Dimethyl Sulfide by Pulsed Corona Discharge: Energy Efficiency and
Byproducts Formation, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma
Chemistry, , CD-rom, paper No 306, 2005
[38] Br oci l o D. et al , Removal of NOx and dust particles from exhaust of diesel
engine power generator by plasma-catalyst system, Proceedings of 17
th

International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 544, 2005
[39] Gal l agher M. J. , Gut sol A. , Fr i edman G. , Fr i dman A. , Non-Thermal
Plasma Applications in Air-Sterilization, Proceedings of 17
th
International
Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper 729, 2005
[40] Aki shev Yu. , Gr ushi n M. , Kar al ni k V. , Tr ushki n N. , Khol odenko
V. , Chugunov V. , Kobzev E. , Zhi r kova N. , I r khi na I . , Atmospheric
pressure non-thermal plasma sterilization of microorganisms in liquids and on the
surfaces, Proceedings of 18
th
International Conference on Plasma Chemistry,
CD-rom, paper No 262, 2007
[41] Vaze N. D. , Gal l agher M. J. , Vasi l et s V. N. , Anandan S. ,
Gut sol A. , Mi l ovanova T. N. , Fr i dman A. , Air Sterilization Using Non-
Thermal Plasma , Proceedings of 18
th
International Conference on Plasma
Chemistry, CD-rom, paper No 320, 2007
[42] Ar j unan K. P. , Vasi l et s V. , Gut sol A. , Anandan S. , Cho Y. ,
Fr i dman A. , Water sterilization using a Pulsed Spark Plasma Discharge,
Proceedings of 18
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom,
paper No 330, 2007
[43] Vr aj ova J. , Novot ny O. , Cech J. , Kr cma F. , St ahel P. , Plasma Based
Removal of Microbial Contamination of Paper, Proceedings of 18
th
International
Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 489, 2007
[44] Si l l a V. , Munz R. J. , The treatment of Li-ion battery waste in a transferred
arc plasma reactor, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma
Chemistry, CD-rom, paper No 319, 2005
[45] Seki guchi H. , Nakani shi S. , Mur akami M. , Ar i mat su H. , Application
of Atmospheric Microwave Pure Steam Plasma to Treatment of Plastic Wastes,
Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom,
paper No 469, 2005
[46] Lopez L. C. , Gr i st i na R. , Favi a P. , d Agost i no R. , Covalent
immobilization of biological molecules on various plasma modified polymers ,
Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, No
343, 2005
[47] Mot r et O. , Aubr y O. , Thui l l i er C. , Lascaud M. , Met C. , Cor mi er
J-M. , Destruction of ethylene by pulsed dielectric barrier discharge in dry and
wet air parametrical study Proceedings of 17
th
International Conference on
Plasma Chemistry, CD-rom, No 578, 2005
194
[48] Khacef A. , Cor mi er J. M. , Removal of NOx and SO2 from synthetic glass
industry exhausts with pulsed dielectric barrier discharge, Proceedings of 17
th

International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom, paper No 590, 2005
[49] Chen Chi h-Wei , Lee How- Mi ng, Chang Moo Been, Chen Shi aw-
Huei , Inactivation of Aquatic Microorganisms in Water by Pulsed Discharges,
Proceedings of 18
th
International Conference on Plasma Chemistry, CD-rom,
paper No 94, 2007
[50] Mor eau M. , Feui l l ol l ey M. G. J. , Meyl heuc T. , Cheval i er S. ,
Or ange N. , Br i sset J. L. , Bio-decontamination by Gliding Arc Discharges:
Application to the treatment of Erwinia carotovora atroseptica 1526, Proceedings
of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, paper No 297, 2005
[51] Per ucca M. , Pi r r i C. F. , Mandr acci P. , Car ossa C. , Cer ut i P. ,
Growth of amorphous thin-films on dental prostheses for the improvement of
their performance, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma
Chemistry, paper No 655, 2005
[52] Aki t su T. , Ohkawa H. , Ohhashi W. , Mur ayama H. , Kat ayama-
Hi r ayama K. , Experimental Comparison of Antibacterial Effect in Cold
Plasmas at Normal Atmospheric pressure, Proceedings of 18
th
International
Conference on Plasma Chemistry, paper No 173, 2007
[53] I seki S. , Aomat su A. , Oht a T. , I t o M. , Kano H. , Hi gashi j i ma
Y. , Hor i M. , Sterilization of Penicillium digitatum Using Non-equilibrium
Atmospheric Pressure Plasma, Proceedings of 18
th
International Conference on
Plasma Chemistry, paper No 204, 2007
[54] Fr i dman G. , Sher eshevsky A. , Bal asubr amani an M. , Peddi nghaus
M. , Br ooks A. , Gut sol A. , Vasi l et s V. , Fr i dman A. , Fr i edman G. ,
Sterilization of Living Human and Animal Tissue by Non-Thermal Atmospheric
Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma, Proceedings of 18
th
International
Conference on Plasma Chemistry, paper No 536, 2007
[55] Kal ghat gi S. , Fr i dman G. , Nagar aj G. , Peddi nghaus M. ,
Bal asubr amani an M. , Br ooks A. , Gut sol A. , Vasi l et s V. , Fr i dman
A. , Fr i edman G. , Mechanism of Blood Coagulation by Non-Equilibrium
Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma, Proceedings of 18
th

International Conference on Plasma Chemistry, paper No 614, 2007
[56] Cr eyght on Y. , Hui j ser T. , Br oekhui j sen M. , Pulsed RF plasma
sterilization of medical packaging, Proceedings of 18
th
International Conference
on Plasma Chemistry, paper No 769, 2007
[57] Kal i t a V. , at al , Plasma deposited composite bioactive porous coatings for
intrabone implants, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma
Chemistry, paper No 535, 2005
[58] Per ucca , C. F. Pi r r i , P. Mandr acci , C. Car ossa, P. Cer ut i , Growth of
amorphous thin-films on dental prostheses for the improvement of their
performance, Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry,
paper No 655, 2005
[59] Vasi l i ev M. , Vasi l i eva T. , Electron-beam plasma in the production of
bioactive agents and drugs, Proceedings of 17
th
International Conference on
Plasma Chemistry, paper No 57, 2005
195
[60] d Agost i no R. , Favi a P. , Sar del l a E. , Nar dul l i M. , Lopez L. ,
Pi st i l l o B. R. , Gr i st i na R. , Plasma Tuning of Surface Chemistry for Driving
Cell Behavior, Proceedings of 18
th
International Conference on Plasma
Chemistry, paper No 261, 2007
[61] I seki S. , Aomat su A. , Oht a T. , I t o M. , Kano H. , Hi gashi j i ma Y. ,
Hor i M. , Sterilization of Penicillium digitatum Using Non-equilibrium
Atmospheric Pressure Plasma, Proceedings of 18
th
International Conference on
Plasma Chemistry, paper No 204, 2007
[62] Cocuzza M. , Bi anco1 S. , Fer r er o S. , Gi ur i E. , Pi r r i C. F. , Ri cci A. ,
Pi acenza G. , Per ucca M. , Bi ch D. , Schi na P. , Mer i al do A. ,
Amorphous thin-films grown by plasma techniques for biological analysis,
Proceedings of 17
th
International Conference on Plasma Chemistry, paper No
656, 2005
[63] Fr i dman G. et al , Use of Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasma
Discharge for Coagulation and Sterilization of Surface Wounds, Proceedings of
17
th
International Conference on Plasma Chemistry, paper No 665, 2005
[64] . . ., , , , 1992
[65] Li dmanowski W., Zarys teorii wyadowa w dielektrykach, WNT Warszawa
1988
[66] Praca zbiorowa pod redakcja R. Kosztaluka, Technika bada
wysokonapiciowych, tom 2, WNT Warszawa 1985
[67] Gher ar di N, Gouda G, Gat E, Ri car d A, and Massi nes A, Transition
from glow silent discharge to micro-discharges in nitrogen gas, Plasma Sources
Sci. Technol. vol. 9, pp. 340-346, 2000
[68] Bogaer t s, A. , Neyt s, E. , Gi j bel s, R. , van der Mul l en, J. , Gas
discharge plasmas and their applications, Spectrochimica Acta, Part B 57, 2002
[69] Dors M., Mizeraczyk J., NO
x
removal from flue gas in a corona discharge
catalyst hybrid system, Catalysis Today, 89, 127 133, 2004
[70] Raj ch E. , Jawor ek A. , Sobczyk A. T. , Kr upa A, Comparative Studies
Of DC Corona and Back Discharges in Different Gases, Czech. J. Phys., 56,
Suppl. B, B803-B808, 2006
[71] Hul ka L. , Pi et sch G. J. , Influence of Dimensions and Materials of Coplanar
Arrangements on Ozone Production, Plasma Process Polym. 2, 2005
[72] Pi et sch G. J. , Gi bal ov V. I . , Pure &Appl. Chem., vol. 70, no. 6, 1169,
1998
[73] Yasuoka v, Endo Y. , I shi i S. , Experimental Study on Ozone Generation
Using DC Driven Micro - Plasma, Department of Electrical and Electronic
Engineering, Tokyo Institute of Technology, 2003
[74] Kanazawa S. , Kogoma M. , Okazaki S. , Mor i waki T. , Stable glow
plasma at atmospheric pressure, J. Phys. D: Appl. Phys. 21, 1988
[75] Okazaki S. , Kogoma M. , Ueher a M. , Kumur a Y. , Appearance of a
stable glow discharge in air, oxygen and nitrogen at atmospheric pressure using a
50 Hz source, J. Phys. D: Appl. Phys. 26, 1993
[76] Kogoma M. , Okazaki S. , Raising of ozone formation efficiency in a
homogeneous glow discharge plasma at atmospheric pressure, J. Phys. D: Appl.
Phys. 27, 1994
196
[77] Kanazawa S. , Kogoma M. , Okazaki S. , Mor i waki T. , Glow plasma
treatment at atmospheric pressure for surface modification and film deposition,
Nuclear Instrum. Methods Phys. Res. B3738, 1989
[78] Yokoyama T. , Kogoma M. , Okazaki S. , Mor i waki T. , The mechanism
of the stabilization of glow plasma at atmospheric pressure, J. Phys. D: Appl.
Phys. 23, 1990
[79] Okazaki S., Formation of atmospheric pressure plasma by mesh electrodes and
my desire for its development, Transaction of the Material Research Society of
Japan 30, 2005
[80] Lar oussi M, Al exef f A, Ri char dson J P, and Dyer F F The
Resistive Barrier Discharge , IEEE Trans. Plasma Sci, Vol. 30, No. 1, 2002
[81] Kunhar dt E E and Becker K (1999) US Patents 5872426, 6005349, and
6147452
[82] Pollo I., Selected Design Criteria for Ozone Production, J. Adv. Oxid. Technol.
Vol. 7, No.1, 2004
[83] Becker H. , Kogel schat z U. , Schoenbach K. H. , Bar ker R. J. (Eds.),
Non-equilibrium Air Plasmas at Atmospheric Pressure, Taylor &Francis, CRC
Press, 2004
[84] Tepper J. , Li P. , Li ndmayer M. , Effects of interface between dielectric
barrier and electrode on homogeneous barrier discharges at atmospheric pressure,
Proc. of XIV Intern. Conference on Gas Discharges and their Applications,
Liverpool, 01.-06. Sept., 2002
[85] Boeck W. , Pfei f f er W. , Conduction and Breakdown in Gases, J. Webster
(ed.), Wiley Encyclopedia of Electrical and Electronics Engineering online,
Copyright by John Wiley & Sons, Inc, 1999
[86] Kogel schat z U. , Dielectric-barrier Discharges: Their History, Discharge
Physics, and Industrial applications, Plasma Chemistry and Plasma Processing,
Vol. 23, No. 1, March 2003
[87] Fi al a A. , Pi t chfor d L. C. , Boeuf L. C. , Two-dimensional, hybrid model
of low-pressure glow discharges, Phys. Rev. E 49, 1994
[88] Janowski T. , St r yczews ka H. D. and Mi zer aczyk J. (Guest Eds)
Journal of Advanced Oxidation Technologies, Special Issue on selected papers
from International Conference on Electromagnetic Devices and Processes in
Environment Protection ELMECO5, vo. 5, no 2, 2006
[89] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Zastosowania technologii
nadprzewodnikowych i plazmowych w energetyce, Przegld Elektrotechniczny,
No 7/8, 2003
[90] Janowski T. , St r yczewska H. D. , Zasilacz plazmotronu do prowadzenia
reakcji chemicznych. Opis patentowy PL 172152, 1997
[91] Ozonek J. , Laboratorium syntezy ozonu. Podstawy procesowe. Pomiary
elektryczne. Ekotechnologie, (Ed. I. Pollo), Wydawnictwa Uczelniane
Politechniki Lubelskiej, 1993,
[92] Ozonek J. , Modelowanie reaktora do syntezy ozonu, Rozprawa doktorska,
Politechnika lska, 1984
[93] Kogel schat z U. , Advanced ozone generation, in: Process of Water Treatment,
(Ed. S. Stucki) Plenum Press Publisher, 1988
197
[94] Janowski , T. , St r yczewska, H. , Czer wi ski , D. , Bessho, K. ,
Yamada, S. , Model of the plasma reactor supplying system with frequency
tripler, The Third MAGDA Conference in Osaka, Japan, 1994
[95] Janowski , T. , St r yczewska, H. , Czer wi ski , D. , Yamada, S. ,
Bessho, K. , An Integrated Power Supplying System for a Plasma Reactor.
Journal of the Japan Society of Applied Electromagnetics, Vol. 2, No 3, 1994
[96] Janowski , T. , Jar oszys ki , L. , St r yczewska, H. D. , Model of the
gliding arc taking into consideration the discharge length changes, Post-
conference proceedings of ELMECO97 Conference, 1997
[97] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Numerical analysis of AC circuits
with electric arc discharge, Prace Seminarium z Podstaw Elektrotechniki i Teorii
Obwodw, XX- SPETO-1997
[98] St r yczewska H i i nni , Raport z realizacji projektu badawczego KBN Nr 8
S502 010 05 Zintegrowany ukad zasilania reaktorw ozonu, praca
niepublikowana, 84 strony, 1995
[99] St r yczewska, H. D. , Design Aspects of Supplying Systems for Plasma
Reactors, Prace Naukowe Politechniki Lubelskiej 236, Elektryka 27, 1994
[100] St r yczewska, H. D. , Janowski , T. , Szponder , J. , Experimental
Investigation of the 250 Hz Supplying System of an Ozonizer, Proceedings of
The International Conference on Electromagnetic Devices and Processes in
Environment Protection ELMECO' 94, Lublin, 8-9th Sept.1994
[101] St r yczewska H. D. , Analiza zintegrowanych zasilaczy elektromagnetycznych
w urzdzeniach wyadowczych, Prace Naukowe Politechniki Lubelskiej,
ELEKTRYKA, 1996
[102] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Integrated supplying systems of non-
thermal plasma generator, Proceedings of the 5
th
International Conference on
Optimization of Electric and Electronic Equipment, Brasov, May 15-17, 1996
[103] St r yczewska H. D. , New supply system of the non-thermal plasma reactor
with gliding arc. Archives of Electrical Engineering, No 4, 1997
[104] St r yczewska H. D. , Energeticeskaja effekivnost sistem pitania reaktorow
plazmennych, Energetyka No 1-2, 1997
[105] St r yczewska H. D. , Supply systems of non-thermal plasma reactors for
environmental applications, Post-conference proceedings of ELMECO97
Conference, 1997
[106] El i asesen B and Kogel schat z U. , Modeling and applications of silent
discharge plasmas, IEEE Transactions on Plasma Science, 19(6), 309-323, 1991
[107] Fi l i ppov Yu. , Emi el j anov Yu. M., The electrical theory of ozonizers, Russ.
J. Phys. Chem. 33,155-159, 1959
[108] Mi zer aczek J. , Jasi ski M. , Zakr zewski Z. , Hazardous gas treatment by
atmospheric pressure microwave discharges, Plasma Physics and Control Fusion,
47, Special Issue: invited papers from: 32 European Physical Society Conference
on Plasma Physics, B589, B602, 2005
[109] Kr uczi ni n A. M. , Sawi cki A. , Piece i urzdzenia plazmowe, Wydawnictwo
Politechniki Czstochowskiej, Czstochowa 2001
[110] Col l ant es R. , Gomez T. , Identification and Modeling of a Three Phase Arc
Furnace for Voltage Disturbance Simulation, IEEE Transactions on Power
Delivery, vol. 12, no. 4, Oct. 1997
198
[111] Jang G. , Wang W. , Heydt G. T. , Development of enhanced electric arc
furnace models for transient analysis, Electric Power Components and Systems,
29(4), 2001
[112] Mont anar i G. C. , Loggi ni M. , Caval l i ni A. , Pi t t i L. , Zani nel l i D. ,
Arc Furnace Model for the Study of Flicker Compensation in Electric Networks,
IEEE Transactions on Power Delivery, vol. 8, no. 4, 1994
[113] Hudym V. I . , Lesnyak Z. V. , Mathematical model of electric arc for
investigation of thermal electrodynamic processes in steel melting furnaces,
Elektrotechnika i Elektronika, tom 24, zeszyt 1, 2005.
[114] mudzi ski W. , Analiza metod obliczania parametrw plazmy ukowej
w dyszach palnikw plazmowych, Rozprawa doktorska, Politechnika Lubelska,
2007
[115] Kami ska A. , Analiza zjawisk cieplnych i elektrycznych w plazmotronie oraz
obwodzie zasilajcym prdu przemiennego w procesie wytwarzania plazmy
niskotemperaturowej, Rozprawy Elektrotechniczne, Nr 186, 1987
[116] Gangol i S. , Gut sol A. , Fr i dman A. , Applications of Gliding Arc as a
Source of Atmospheric Pressure Transitional Plasma, 32nd IEEE International
Conference on Plasma Science, June 20-23, Monterey, California, 2005
[117] Radar y B. , Ful cher i L. , Bakken J. A. , Fl amant G. , Fabr y F. ,
Influence of the electromagnetic forces on momentum and heat transfer in a 3-
phase plasma reactor, Plasma Chemistry and Plasma Processing, vol. 19, Plenum
Press 1999
[118] Mat suur a T. , Tani guchi K. , Wat anabe T. , A New Type of Arc Plasma
Reactor with Twelve-Phase Alternating Current Discharge for Synthesis of
Carbon Nanotubes, Proceedings of 17th International Symposium on Plasma
Chemistry, Toronto, Canada, August 7-12, 2005.
[119] Szmi dt - Sza owski K. , Gr ska A. , M ot ek M. , Plasma catalytic
conversion of methane by DBD and gliding discharges, Journal of AOTs, vol. 9,
No 2, 2006
[120] Di at czyk J. , St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Modeling of the
temperature distribution in arc discharge plasma reactor, Journal of AOTs, vol. 9,
No 2, 2006
[121] Komar zyni ec G. , Di at czyk J. , St r yczewska H. D. , Arc Plasma Reactor
Power system with 5-Limb Transformer, Journal of AOTs, vol. 9, No 2, 2006
[122] Kossi t syn M. , Gut sol A. , Fr i dman A. , Generation and Diagnostics of
Non-Equilibrium Plasma in Gliding Arc Discharge, Electronic Proceedings of
16th International Symposium on Plasma Chemistry, Taormina, Italy, June 22-27,
2003.
[123] Lesueur , H. , Czer ni chowski , A. , Chapel l e, J. , Apparatus for generation
of low temperature plasmas by formation of gliding electric discharges, Patent
Application, Republique Francaise, National registration no: 8814, 20 May 1990
[124] Czer ni chowski , A. and Czech, T. , Plasma assisted incineration of some
organic vapours in gliding discharges reactor, Proceedings of the 3
rd
International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry,
Strasbourg 1991
[125] Czer ni chowski , A. and Lesueur , H. , Plasma applications to waste
treatment, First Annual INEL Conference, Idaho Falls, Idaho (USA), 16-17 Jan.
1991
199
[126] Czer ni chowski , A. , Lesueur , H. , Multi-electrodes high pressure gliding
discharges reactor and its application for some waste gas and vapor incineration.
Plasma Applied to Waste Treatment, First Annual INEL Conference, Idaho Falls,
Idaho (USA), 16-17 Jan. 1991
[127] Czer ni chowski , A. , Janowski , T. , St r yczewska, H. D. , Performances
of the Supplying Systems for Plasma Reactors, Contributed Papers of
4
th
International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma
Chemistry, Bratislava, HAKONE IV, 1993
[128] Ph. G. Rut ber g, A. A. Safr onov, S. D. Popov, A. V. Sur ov, Gh. V.
Nakonechny, Investigation of voltage and current variations in a multiphase
AC electric arc system, 12th International Congress on Plasma Physics, Nice,
France 25-29 October 2004.
[129] G. Komar zyni ec, Analiza pracy transformatora piciokolumnowego
w ukadzie zasilania ukowego reaktora plazmowego, Rozprawa doktorska,
Politechnika Lubelska, 2008
[130] Nawr owski R. , Tomczewski A. , Pole temperatury w reaktorze plazmy,
II konferencja Naukowo-techniczna Zastosowania komputerw w elektro-
technice, Kiekrz, 1997
[131] Bur m K., Modeling of non-equilibrium Plasma Flow, PhD Thesis, Eindhoven
University of technology, 2001
[132] Kur owski S. , Szymas ki A., Wybrane zagadnienia chemii plazmy.
Warszawa, 1975.
[133] Kami ska-Benmecher nene A. . , Wytwarzanie i modelowanie plazmy w
plazmotronach ukowych, Wydawnictwo Politechniki Poznaskiej, Pozna 1998
[134] Kr uger C. H. , Nonequilibrium in confined arc plasmas, Phys. Fluids, nr 7,
1970
[135] Di at czyk J. , Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D., Determination of
the Gliding Arc Discharge Critical Length, 1st Central European Symposium on
Plasma Chemistry, Gdask, May 28 31, 2006
[136] . . , . .
. .: , 1973
[137] I . B. , . . , . . , . . ,
i I . . , . I . , . . , . .
// i . -. i: i.-. , N 1, 2005
[138] . . , . . , . .
, -.: , 1985
[139] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Supply Systems for Non-Thermal Plasma
Reactors, The First Polish - Japanese Hakone Group Symposium on Non-
Thermal Plasma Processing of Water and Air, Sopot - Poland, 29 - 31 May 2000
[140] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Numerical Analysis of the Integrated
Supply System of Glidarc Plasma Reactor, Electromagnetic Devices and
Processes in Environment Protection ELMECO, Naczw, 04 - 06 czerwca 2000
[141] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Computer Simulation of the Electric
Discharge in Glidarc Plasma Reactor, Electromagnetic Devices and Processes in
Environment Protection ELMECO, Naczw, 04 - 06 czerwca 2000
[142] Jar oszyski L. , Analiza plazmowego reaktora ukowego wykorzystujcego
nieliniowo magnetowodw transformatorw ukadu zasilajcego, Rozprawa
doktorska, Politechnika Lubelska, Lublin, 2000
200
[143] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Integrated Supply System of the Plasma
Reactor Energised from Three Phase Supply Network, International Symposium
on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry HAKONE VII,
Greifswald Germany, September 10 - 13 2000
[144] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Analiza numeryczna urzdze
wyadowczych na przykadzie reaktora plazmowego ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym, Prace Naukowe Instytutu Podstaw Elektrotechniki i
Elektrotechnologii Politechniki Wrocawskiej Nr 37, Seria Konferencje Nr 12,
Wrocaw 2000
[145] Ber ger S. , Mathematical approach to model rapidly elongated free-burning arcs
in air in electric power circuits, ICEC 2006, 6-9 June 2006, Sendai, Japan, 2006.
[146] St r yczewska H. D. , Jar oszyski L, Modelowanie numeryczne wyadowa
ukowych na przykadzie reaktora plazmowego Glidarc, Seminarium Sekcji
Wiellkich Mocy i Wysokich Napi Komietu Elektrotechniki PAN, Lublin 19-
11-2000
[147] Stryczewska H. D., Elektromagnetyczny uklad zasilania reaktorw plazmowych
ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym, Politechnika Lubelska,seria
Elektryka, Wydawnictwa Uczelniane, s. 146, 1998
[148] St r yczewska H. D. , Ukad zasilania reaktorw plazmy nietermicznej, Patent,
P 317110, 2000,
[149] St r yczewska H. D. , Jar oszyski L., Plasma Processes in New
Technologies of Water and Air Cleaning, II International Symposium: New
Electrical and Electronic Technologies and their Industrial Implementation,
NEET, Kazimierz Dolny, 2001
[150] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D., The Numerical Model of the Gliding
Arc Discharge, II International Symposium: New Electrical and Electronic
Technologies and Their Industrial Implementation, Kazimierz Dolny, 2001
[151] Janowski T. , Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Modification of the
Mayr's Electric Arc Model for Gliding Arc Analysis, XXVI International
Conference on Phenomena in Ionized Gases, Nagoya, Japan, July, 17-22, 2001
[152] St r yczewska H. D. , Janowski T., Mathematical Modelling of the Gliding
Arc Discharges, The Second Polish-Japanese Group Symposium on Non-thermal
Plasma Processing of Water and Air, Nagoya, Japan, July, 22-23, 2001
[153] Janowski T. , J ar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Modeling of the
Ignation Voltage in a Gliding Discharge Power System Based of Non-linear
Transformers, X International Symposium on Electromagnetic Fields in Electrical
Engineering ISEF, Krakw 2001
[154] St r yczewska H. D. , Janowski T., Reactive Power of the Ozone Generators,
International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry
HAKONE, Estonia - Puhajarve, vol. 2, 2002,
[155] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Energy Efficiency of Power Systems of
Plasma Reactors with Gliding Arc , Joint Conferences 16th European Conference
on Atomic & Mocecular Physics of Ionized Gases and 5th International
Conference on Reactive Plasmas ESCAMPIG, France Grenoble, vol. 2, 2002
[156] St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Gliding Arc Discharge in the
Triple-Electrode System, VIIth Polish National Symposium on Plasma
Chemistry, Kazimierz Dolny, 2002
201
[157] St r yczewska H. D. , Jar oszyski L., Modelling of the Gliding Arc
Discharges Applied in Technologies of Environment Protection, Polish Journal
of Chemical Technology, Szczecin, 2002
[158] Janowski T. , St r yczewska H. D. , Zastosowanie technologii
nadprzewodnikowych i plazmowych w energetyce, Przegld Elektrotechniczny,
nr 9, 2003
[159] St r yczewska H. D. , Di at czyk J . , Numerical Model of Temperature
Distribution for Arc Plasma, 4th International Conference: Electromagnetic
Devices and Processes in Environment Protection - ELMECO-4, Naczw,
Poland, 2003
[160] Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Transformer Supply System of
Plasma Reactors, 4th International Conference: Electromagnetic Devices and
Processes in Environment Protection - ELMECO-4, Naczw, Poland, 2003
[161] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Zastosowania technologii
nadprzewodnikowych i plazmowych w energetyce, IV Seminarium Zastosowania
Nadprzewodnikw, Lublin Naczw 2003
[162] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Komar zyni ec G. , Di at czyk J. ,
Multi-stage Gliding Arc Reactors for Environmental Applications, International
COE Forum on Plasma Science and Technology, Nagoya, Japan, 5-7 April 2004
[163] St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Di at czyk J. , Reaktory plazmowe
z ukiem elektrycznym jak rdo nietermicznej plazmy dla celw
technologicznych, Konferencja: Zrwnowaone Systemy Energetyczne Nowe
Kierunki Wytwarzania i Wykorzystania Energii, Zakopane, 12 14 padziernika
2005
[164] Wac-W odar czyk A. , St r yczewska H. D. , Mazur ek P. ,
Komar zyni ec G. , Analiza zaburze elektromagnetycznych emitowanych
przez urzdzenia plazmowe, XXVIII Midzynarodowa Konferencja z Podstaw
Elektrotechniki i Teorii Obwodw IC-SPETO, Gliwice Ustro 2005
[165] St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Di at czyk J. , Janowski T. ,
Multi-electrode Gliding Arc Plasma Reactors Powered from Special
Transformers, The 17th International Symposium on Plasma Chemistry, Toronto
Kanada, August 7th - 12th, 2005
[166] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , Badania i edukacja w zakresie
wykorzystania technologii plazmowych na Uniwersytecie Kumamoto w Japonii,
Wiadomoci Elektrotechniczne, 05 2005
[167] Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Di at czyk J . , 5-limb Transformer
as a Power System of Arc Plasma Reactors, International Conference on
Electromagnetic Devices and Processes in Environment Protection ELMECO 5,
Naczw Poland, 2005
[168] Di at czyk J. , St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Modelling of
Plasma Temperature Distribution, International Conference on Electromagnetic
Devices and Processes in Environment Protection ELMECO 5, Naczw
Poland, 2005
[169] St r yczewska H. D. , Arc Discharge Reactors Powered by Special
Transformers, International Conference on Electromagnetic Devices and
Processes in Environment Protection ELMECO 5, Naczw Poland, 2005
202
[170] Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Di at czyk J . , Power Systems of
Gliding Arc Reactors for Industrial Applications, XXVIIth International
Conference on Phenomena in Ionized Gases ICPIG, Eindhoven, The Netherlands,
July 18 - 22 2005
[171] Di at czyk J. , St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Numerical
Simulation of Temperature Distribution of Gliding Plasma Reactor, XXVIIth
International Conference on Phenomena in Ionized Gases ICPIG, Eindhoven, The
Netherlands, July 18 - 22 2005
[172] St r yczewska H. D, Janowski T. , Nal ewaj K. , Technologie plazmowe
i nadprzewodnictwo, Nowe kierunki wytwarzania i wykorzystania energii:
Zrwnowaone systemy energetyczne - monografia, rozdzia 6, 2005
[173] Janowski T. , St r yczewska H. D. , Power Supply Systems of Ozone
Generators with Magnetic Frequency Multipliers, Journal of Advanced Oxidation
Technologies, vol. 9, no 2, July 31, 2006
[174] Di at czyk J. , St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Modeling of the
Temperature Distrbution in Arc Discharge Plasma Reactor, Journal of Advanced
Oxidation Technologies, vol. 9, no 2, July 31, 2006
[175] Komar zyni ec G. , Di at czyk J. , St r yczewska H. D., Arc Plasma Reactor
Power System with 5-Limb Transformer, Journal of Advanced Oxidation
Technologies, vol. 9, no 2, July 31, 2006
[176] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Non-Thermal Plasma Reactors Power
Systems Designing and Efficiency, 10th International Symposium on High
Pressure Low Temperature Plasma Chemistry HAKONE X, Saga, Japan,
September 4 8, 2006
[177] Janowski T. , St r yczewska H. D., Power and Efficiency of the Gliding Arc
Plasma Reactors, 22nd Symposium on Plasma Physics and Technology, Praha,
Czech Republic, June 26 29, 2006
[178] St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Janowski T., Five Limb
Transformer as a Power System of Arc Discharge Reactor, 3rd Polish-Japanese
Hakone Group Symposium on Non-Thermal Plasma Processing of Water and
Air, Saga, Japan, September 4 8, 2006
[179] Janowski T. , St r yczews ka H. D. , Higher Magnetic Flux Harmonics of
Transformer Core for Ignition the Discharge in the Arc Plasma Reactor, XIX
Symposium Electromagnetic Phenomena in Nonlinear Circuits, Maribor,
Slovenia, June 28 30, 2006
[180] St r yczewska H. D. , Jab oska O., Chaotic Behavior of the Electrical
Circuit with Gliding Arc Discharge, 1st Central European Symposium on Plasma
Chemistry, Gdask, May 28 31, 2006
[181] Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Janowski T. , Di at czyk J.,
Special Transformers in Power Systems of Arc Plasma Reactors, 1st Central
European Symposium on Plasma Chemistry, Gdask, May 28 31, 2006,
[182] Di at czyk J. , Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Determination of
the Gliding Arc Discharge Critical Length, 1st Central European Symposium on
Plasma Chemistry, Gdask, May 28 31, 2006
[183] St r yczewska H. D. , Technologiczne zastosowania nietermicznej plazmy, VI
Seminarium Naukowe: Wybrane Zagadnienia Elektrotechniki i Elektroniki
WZEE 2006, Kazimierz Dolny 8 10 maja 2006
203
[184] St r yczewska H. D. , Si kor ski A. , Ruszczyk A. , Komar zyni ec G. ,
Gliding arc plasma reactor supplied from AC/DC/AC inverter, 18th International
Symposium on Plasma Chemistry, Kyoto, Japan, August 26 31, CD 2007
[185] St r yczewska H. D. , Komar zyni ec G. , Gnapows ki E. , Experimental
investigations of the barrier discharge reactor with mesh and porous dielectric,
International Workshop Ozotech, Bratislava, Slovakia, 25th 27th November
2007
[186] Di at czyk J . , Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D., Warunki generacji
nietermicznej plazmy w reaktorze ze lizgajcym si wyadowaniem ukowym,
Zeszyty Naukowe Politechniki wietokrzyskiej Nauki Techniczne Elektryka
(Konferencja Modelowanie i sterowanie procesw elektrotermicznych), Kielce,
24 26 wrzenia 2007
[187] Komar zyni ec G. , St r yczewska H. D. , Janowski W. , Di at czyk J.,
Wpyw elektrycznych parametrw ukadu zasilania na charakterystyki reaktorw
plazmy ukowej, Zeszyty Naukowe Politechniki wietokrzyskiej Nauki
Techniczne Elektryka (Konferencja Modelowanie i sterowanie procesw
elektrotermicznych), Kielce, 24 26 wrzenia 2007
[188] St r yczewska H. D. , Technologie plazmowe w procesach oczyszczania wody i
powietrza, IV Konferencja Naukowa: Postpy w Elektrotechnologii, Jamrozowa
Polana, 14 - 15 wrzenia 2000
[189] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , Gyout oku Y. , Tachi bana M. , Non-
Thermal Plasma Based Technology for Soil Sterilization 9th International
Conference High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistry, Padova, Italy,
August 23-34, 2004,
[190] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , I kegami T. , Janowski T., Gas
plasma assisted soil sterilization in the afterglow of dielectric barrier discharges
generated in air, International COE Forum on Plasma Science and Technology,
Nagoya, Japan, 5-7 April 2004
[191] Ebi har a K. , Shi buya Y, St r yczewska H. D. , Gyout oku Y. , Kubo
K. , Tachi bana M. , Soil treatment Process Using Ozone and NO generated by
Electrical Discharges, Proceedings of 21st Symposium on Plasma Processing,
SPP-21, Hokkaido, Japan, Jan. 28th 30th, 2004
[192] Takayama M. , Ebi har a K. , St r yczewska H. D. , I kegami T. ,
Gyout oku Y. , Kubo K. , Tachi bana M. , Ozone Generation by Dielectric
Barrier Discharge for Soil Sterilization, The 7th APCPST (Asia pacific
Conference on Plasma Science and Technology)& 17th SPSM (Symposium on
Plasma Science and Materials) Conference, Fukuoka, Japan, June 29 July 2,
2004
[193] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , Takayama M. , Gyout oku Y. ,
Tachi bana M. , Non-Thermal Plasma-Based Technology for Soil Treatment,
Plasma Processes and Polymers, vol. 2, No 3, March 31, 2005
[194] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , Janowski T. , Zastosowanie
nietermicznej plazmy w procesach sterylizacji, Konferencja: Zrwnowaone
Systemy Energetyczne Nowe Kierunki Wytwarzania i Wykorzystania Energii,
Zakopane, 12 14 padziernika 2005
204
[195] Ebi har a K. , Takayama M. , I kegami T. , St r yczewska H. D. ,
Gyout oku Y. , Yokoyama T. , Gunj i kake N. , Mi zukami H. , Ar aki
S. , Soil Sterilization Using Ozone Generated by Dielectric Barrier Discharge,
The 17th International Symposium on Plasma Chemistry, Toronto Kanada,
August 7th - 12th, CD-R , 2005
[196] Ebi har a K. , Takayama M. , I kegami T. , Ogat a K. , St r yczewska H.
D. , Gyout oku Y. , Sakai T., Development of Agricultural Soil Sterilization
Using Ozone Generated by High Frequency Dielectric Barrier Discharge,
International Conference on Electromagnetic Devices and Processes in
Environment Protection ELMECO 5, Naczw Poland, 4 7 September 2005
[197] Takayama M. , Ebi har a K. , St r yczewska H. D. , I kegami T. ,
Gyout oku Y. , Kubo K. , Tachi bana M. , Ozone Generation by Dielectric
Barrier Discharge for Soil Treatment, Thin Solid Film 506 507, 2006
[198] Ebi har a K. , Takayama M. , I kegami T. , Ogat a K. , St r yczewska H.
D. , Gyout oku Y. , Sakai T. , Development of Agricultural Soil Sterilzation
Using Ozone Generated by High Frequency Dielectric Barrier Discharge, Journal
of Advanced Oxidation Technologies, Vol. 9, no 2, July 31, 2006
[199] Ebi har a K. , Takayama M. , St r yczewska H. D. , I kegami T. ,
Gyout oku Y. , Tachi bana M. , Wide Range Concentration Control of
Dielectric Barrier Discharge Generated Ozone for Soil Sterilization, The Journal
of the Institute of Electrical Engineers of Japan, vol. 126, no 10, 2006
[200] Ebi har a K. , I kegami T. , Takayama M. , I shi da H. , Sakai T. ,
St r yczewska H. D. , Gyout oku Y. , High Dense Ozone Generation and the
Supply System for Agricultural Soil Sterilization, 10th International Symposium
on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry HAKONE X, Saga,
Japan, September 4 8, 2006
[201] Ebi har a K. , I kegami T. , Takayama M. , I shi da H. , Sakai T. ,
St r yczewska H. D. , Gyout oku Y. , High Dense Ozone Generation and the
Supply System for Agricultural Soil Sterilization, 3rd Polish-Japanese Hakone
Group Symposium on Non-Thermal Plasma Processing of Water and Air, Saga,
Japan, September 4 8, 2006
[202] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , I kegami T. , Takayama M. , Dielectic
Barrier Discharge Products as a Soil Processing Environment, 1st Central
European Symposium on Plasma Chemistry, Gdask, May 28 31, 2006
[203] St r yczewska H. D. , Ebi har a K. , I kegami T. , Takayama M. , Products
of dielectric barrier discharge in screw and pyramid reactors as a soil processing
environment, Transactions of the Institute of Fluid Flow Machinery 119, Gdask
2007
[204] St r yczewska H. D. , Nal ewaj K. , Ebi har a K. , Plazmowe urzdzenia do
obrbki wody i gleby zasilane z ogniw fotowoltaicznych, Konferencja:
Zrwnowaone Systemy Energetyczne Nowe Kierunki Wytwarzania
i Wykorzystania Energii, Zakopane, 12 14 padziernika 2005
[205] Janowski T. , Nal ewaj K. , St r yczewska H. D. , Z onki ewi cz Z., The
Application of Solar Energy in the Conditions of Lublin Region, 4th
International Conference: Electromagnetic Devices and Processes in Environment
Protection - ELMECO-4, Naczw, Poland, September 21-24, 2003,
205
[206] St r yczewska H. D. , Nal ewaj K. , Solar Energy in the Installations of
Swimming Pool Water Treatment, International Conference on Electromagnetic
Devices and Processes in Environment Protection ELMECO 5, Naczw
Poland, 4 7 September 2005
[207] Nal ewaj K. , St r yczewska H. D. , Modelling Results of the Laboratory
Photovoltaic System, International Conference on Electromagnetic Devices and
Processes in Environment Protection ELMECO 5, Naczw Poland, 4 7
September 2005
[208] St r yczewska H. D. , Janowski T. , Installation of Swimming Pools Water
Treatment with Ozone Powered from Photovoltaic Panels, 9th International
Conference: High Pressure, Low Temperature Plasma Chemistr, Padova, Italy,
August 23-34, 2004
[209] St r yczewska H. D. , Nal ewaj K. , Janowski T. , Stand alone PV system
to supply swimming pool water treatment installation, 14th Intern. Sonnenforum,
Freiburg, Germany, 2004
[210] St r yczewska H. D. , Wykorzystanie energii sonecznej w technologiach
inynierii ochrony rodowiska, Seminarium IPPT Wybrane zagadnienia w
tematyce budownictwa niskoenergetycznego, Warszawa, 09-12- 2004
[211] St r yczewska H. D. , Nal ewaj K. , Energia soneczna w ozonowaniu wody
basenowej, Sport Plus, Nr 1, lipiec 2005
[212] Janowski T. , Magnetyczne potrajacze czstotliwoci, Prace Naukowe
Politechniki Lubelskiej 202, Seria ELEKTRYKA 24, Wydawnictwa Uczelniane,
s. 114, 1990
[213] Nafal ski A. , Bessho K. , Yamada S. , Sudani T. , Performance and
Analysis o fan Advanced Type Magnetic Frequency Triplet with Three 3-legged
cores, IEEE Trans. On Magnetics, vol. MAG-18, No 6, 1758-1760, 1982
[214] St r yczewska H. D. , Analiza pracy magnetycznego potrajacza czstotliwoci
jako rda zasilania odbiornika nieliniowego na przykadzie wytwornicy ozonu,
Rozprawa Doktorska, Politechnika Lubelska, Lublin, 1986
[215] Rodacki T. , A. Kandyda, Energoelektroniczne ukady zasilania
plazmotronw prdu staego, Wydawnictwo Politechniki lskiej, Gliwice 1998.
[216] Waciwoci wieloelektrodowych generatorw plazmy lizgajcego si uku
elektrycznego zasilanych z energoelektronicznych wielofazowych rde napicia
i prdu, Projekt badawczy wasny MNiSzW, Nr N R01 0012 04, kierownik
projektu: H. D. Stryczewska
[217] Ruszczyk A., Nowe algorytmy predykcyjnych metod regulacji prdw
przeksztatnikw AC/DC i DC/AC, Rozprawa doktorska, (promotor prof. A.
Sikorski) Politechnika Biaostocka, Biaystok 2005
[218] Si kor ski A. , Problemy dotyczce minimalizacji strat czeniowych
w przeksztatniku AC/DC/AC - PWM zasilajcym maszyn indukcyjn,
Politechnika Biaostocka, Rozprawy Naukowe Nr 58, 1998
[219] Jezi er ski E. , Transformatory. Podstawy teoretyczne, WNT Warszawa 1965
[220] Turowski J., Obliczenia elektromagnetyczne elementw maszyn i urzdze
elektrycznych, WNT Warszawa 1982
[221] Jab oski M. , Zakr zewski K., Analiza pracy transformatora
rozproszeniowego, Przegld Elektrotechniczny, Nr 6, 1966
206
[222] Nafal ski A. Analiza magnetycznych mnonikw czstotliwoci z rdzeniami
piciokolumnowymi, Prace Naukowe Politechniki Lubelskiej 165, Seria
ELEKTRYKA 10, Wydawnictwa Uczelniane, p. 83, 1987
[223] Gol eman R., Straty mocy w transformatorowym potrajaczu czstotliwoci,
Rozprawa doktorska, Politechnika Lubelska, Lublin , 1983
[224] Wac-W odar czyk A. Analiza pracy magnetycznego dziewiciokrotnika
czstotliwoci, Rozprawa doktorska, Politechnika Lubelska, Lublin 1983
[225] Ci ok Z. , Modele matematyczne uku czeniowego, PWN, Warszawa, 1987
[226] Ci ok Z. , Pochanke Z. , A method of solving a field equation set for
switching arc description, IV Intern. Symp. On Switching Arc Phenomena, Part
II, d 1981
[227] Cowl ey M. D. , Chang S. K. , Integral methods of analyzing electric arc. I
Formulation & II Examples, J. Phys. Appl. Phys., vol. 7, No 10, 1974
[228] El - Akkar i F. R. , Tuma D. T. , Simulation of transient and zero current
behavior of arc stabilized by forced convection, IEEE Trans. PAS, vol. 96, No 6,
1977
[229] Her mann W. , Kogel schat z U. , Raggl l er K. , Schade E. , Investigation
of the cylindrical axially blown high pressure arc, J. Appl. Phys., vol. 7, No 4,
1974
[230] Kr l i kowski C. , Technika czenia obwodw elektroenergetycznych, PWN
Warszawa, 1990
[231] Swanson B. , Roi dt R. , Br owne T. E. , Arc cooling and short line fault
interruption, IEEE trans. PAS, vol. 90, No 3, 1971
[232] Fang M. T. C. , Br annen D. , A current zero arc model based on forced
convection, IEEE Trans. on Plasma Science, vol. 8, No 1, 1980
[233] Ghor ui S. , Sahasr abudhe S. N. , Mur t hy P. S. S. , Das A. K. ,
Venkat r amani N., Experimental Evidence of Chaotic Behavior in
Atmospheric Pressure Arc Discharge, IEEE Transactions on Plasma Science, vol.
28, no. 1, February 2000
[234] Mei r el l es M. P. , Dupont C. J., Stochastic arc modeling, SAP - 93 7th
International Conference on Switching Arc Phenomena, d, Sep. 1993
[235] Cheung P. Y. , Wong A. Y. , Chaotic behavior and period doubling in
plasmas, Phys. Rev. Lett., vol. 59, no. 5, pp. 551-554, 1987
[236] Di ng W. X. , She H. Q. , Huang W. , Yu C. X. , Controlling chaos in a
discharge plasma, Phys. Rev. Lett., vol. 72, no. 1, pp. 96-99, 1994
[237] Jar oszyski L. , St r yczewska H. D. , Analiza numeryczna urzdze
wyadowczych na przykadzie reaktora plazmowego ze lizgajcym si
wyadowaniem ukowym, IV Konferencja Naukowa: Postpy w
Elektrotechnologii, Jamrozowa Polana, 14 - 15 wrzenia 2000,
[238] Janowski T. , Jar oszys ki L. , St r yczewska H. D., Modeling of the
Ignition Voltage in a Gliding Discharge Power System Based of Non-linear
Transformers, X International Symposium on Electromagnetic Fields in
Electrical Engineering ISEF, Krakw, September,20-22, 2001
[239] Janowski T. , St r yczewska H. D. , Centrum Doskonaoci Zastosowa
Technologii Nadprzewodnikowych i Plazmowych w Energetyce, Przegld
Elektrotechniczny, 92003
207
[240] St r yczewska H. D. , Wykorzystanie energii sonecznej w wybranych
technologiach inynierii ochrony rodowiska, Wybrane zagadnienia w tematyce
budownictwa niskoenergetycznego, Warszawa, 09-12-2004
[241] St r yczewska H. D. , Przegld bada prowadzonych w Instytucie Podstaw
Elektrotechniki i Elektrotechnologii Politechniki Lubelskiej dotyczcych
zastosowa nadprzewodnictwa i technologii nietrmicznej plazmy w
elektroenergetyce i inynierii ochrony rodowiska, Dni Asocjacji Euratom
IFPILM, Kudowa Zdrj, 18 20 wrzenia 2007
[242] Kr l i kowski Cz. , Kami ska A., Plazmotrony jednofazowe prdu
przemiennego, Przegld Elektrotechniczny 10/11/12, 1986
[243] Kr l i kowski Cz. , Kami ska A. , Warunki palenia si uku elektrycznego w
jednofazowym obwodzie prdu przemiennego, Rozprawy Elektrotechniczne 33,
z. 1, 1987
[244] Kr l i kowski Cz. , Namy l ak R. , Ni ewi edzi a R. , The direct current arc
plasmatrons for toxic substances destruction, Proceedings of the International
ELMECO Conference on Electromagnetic Devices and Processes in Environment
Protection, 1994
[245] Kr uczi ni n A. M. , Sawi cki A. , Urzadzenia elektrotechnologiczne z
nagrzewaniem ukowym i plazmowym. Cz I: Teoria nagrzewania ukowego i
plazmowego, Skrypty Politechniki Czstochowskiej 17, 1997
[246] Moi san M. , Bar beau J. , Mor eau S. , Pel l et i er J. , Tabr i zi an M. ,
Yahi a L H., Low temperature sterilization using gas plasmas : a review of
experiments and an analysis of inactivation mechanisms, Internatioanl Journal of
Pharmaceutics 226, 2001
[247] Ozone gas as a soil fumigant, Research Program , EPRI, Palo Alto, California
Energy Commision, Sacramento, TR-113751, 1999
[248] Tr evor s J. T. , Sterilization and inhibition of microbial activity in soil, Journal
of Microbiological Methods 26, 1996
[249] St r yczewska, H. D. , Ebi har a, K. , I kegami T. , Janowski , T, Gas
Plasma Assisted Soil Sterilization in the Afterglow of Dielectric Barrier
Discharges Generated in Air, Proc. International COE Forum on Plasma Science
and Technology, 5-7 April 2004, Nagoya, Japan
[250] Mavr ogi anopoul os G. N. , Fr angoudaki s A. , Pandel aki s J. , Energy
Efficient Soil Disinfection by Microwaves, J. Agric. Engng. Res. 75, 2000
[251] War r i ner K. , Rysst ad G. , Mur den A. , Rumsby P. , Thomas D. ,
Wai t es W. M. , Inactivation of Bacillus subtilis spores on packaging surfaces by
UV excimer laser irradiation, Journal of Applied Microbiology 88, 2000
[252] McNamar a N. P. , Bl ack H. I . J. , Ber esfor d N. A. , Par ekh N. R. , Effect
of acute gamma irradiation on chemical, physical and biological properties of
soil, Applied Soil Ecology 24 , 2003
[253] Dor s M. , Met el E. , Mi zer aczyk J. , Mar ot t a E. , Coli bacteria
inactivation by pulsed corona discharge in water, International Journal on Plasma
Environmental Science and Technology, 2, 34 37, 2008
[254] Ozone Gas as a Soil Fumigant: 1998 Research Program, EPRI, Palo Alto, CA,
California Energy Commission, Sacramento, CA, TR-113751, 1999
[255] Moor e G. , Gr i f fi t h C. , Pet er s A. , Bactericidal properties of ozone and its
potential application as a terminal disinfectant, J. Food Prot. 63, 2000
208
[256] Mor eau S. , Moi san M. , Tabr i zi an M. , Bar beau J. , Pel l et i er J. ,
Ri car d A. Yahi a L H. , Using the flowing afterglow of a plasma to inactivate
Bacillus subtilis spores: Influence of the operating conditions, J. Appl. Phys., Vol.
88, No. 2, 2000
[257] Rol and U. , Hol zer F. , Kopi nke F. -D., Improved oxidation of air
pollutants in a non-thermal plasma, Catalysis Today 73, 2002
[258] Kr awczyk K. , Ul ej czyk B., Decomposition of Chloromethanes in Gliding
Discharges, Plasma Chemistry and Plasma Processing, Vol. 23, No. 2, June 2003
[259] Ebi har a K. , I kegami T. , Mi t sugi F. , I kegami T, St r yczewska
H. D. , Gyout oku Y., Gaseous Ozone Soil Sterilization and Biological
Properties, 2008 Taiwan-Japan Bilateral Technology Interchange Project, The
Workshop on the Applications of Plasma to Bio-Medical Engineering, Lunghwa
University of Science and Technology, Taiwan, December 15-17, 2008

209
SKOROWIDZ
Aproksymacja 111
argon 40, 42, 53, 56, 88-91
azot 64-67

Bakterie 22, 34, 186, 190
bariera dielektryczna 51
bioodkaanie 34
biotechnologie 26, 35, 172

Charakterystyka 61, 71, 121, 155, 168
magnesowania 92
nieliniowa 71
prdowo-napiciowa, 61, 70, 121, 125
statyczna 87, 155, 158, 168
dynamiczna 87, 168
przekanikowa 71
wyadowania 147, 152, 155
ukowego 152, 168
chodzenie 64, 84, 150, 179
elektrod 84, 140, 179-184
uku 148, 150
powierzchniowe 150
wodne 77, 84, 176, 179, 183
cinienie 13, 27,30, 31, 64, 177,191
atmosferyczne 64, 81, 87, 102
gazu 72, 96, 148, 166, 179
normalne 89
cykl pracy 86, 95, 113
czsteczki 21, 26, 32, 37, 41, 46
gazu 26, 28, 32, 37, 61
zjonizowane 29, 147
czstotliwo
charakterystyczna 47
elektronowa plazmy 47
powtarzania impulsw 50, 68
napicia zasilajcego 53, 59-75, 86,
techniczna 54, 55, 93
prbkowania 92
wysoka 60, 64
podwyszona 13, 32, 51, 74, 77
radiowa 46-48

Dielektryk 30, 44-58
stay 42, 72-79
porowaty 72
diody RF 47
dyfuzja 40, 67-68
dysocjacja 62, 164

Elektroda
chodzona 140, 176, 179, 183
grafitowa 82
kwarcowa 177
metalowa 36-41, 74
niskonapiciowa 44, 175
otulona 134
piramidowa 176-185
paska 36
robocza 84, 85, 107-122
siatkowa 53
szklana 185
rubowa 176-185
uziemiona 77, 175, 177, 182
wglowa 148
wyadowcza 61, 82, 183
wysokonapiciowa 44, 49, 176-184
zaponowa 84, 85, 88, 113-122
zbiorcza 44-45
elektrofiltry 11, 22, 44
elementy wyadowcze 65, 78, 135

Faza 31, 74, 110, 132, 151
cieka, staa, gazowa 27
mikrowyadowa 74
nierwnowagowa 61, 81-87
pocztkowa 55
wyadowa 69
zasilania 124
fazowe przesunicie 124
fazowy kt 124
fazowa komutacja 131
figura Lissajous 75
filamenty 184

Gazy 62, 84-86, 90-116, 148-164
cieplarniane 11, 14
elektronowy 162-164
plazmotwrcze 53
210
przemysowe 62
reaktywne 41
robocze 31, 87-89, 94, 118, 134, 170
szlachetne 60, 162
wylotowe 45, 50
technologiczne 168
zjonizowane 29, 147
geometria 35, 148-163,
elektrod, 42, 51-57, 85, 176
komr wyadowczych 42
wycznikw prdowych 146
obszaru plazmy 167
reaktora plazmowego 88
wyadowania 30

Harmoniczne 111-143
generowane
przez uk 92
przez ukad zaponowy 93
indukowane 142
kolejnoci zerowej 123
napicia 108, 115
podstawowa 110, 143
strumienia magnetycznego 108 - 127
wysze 92, 93, 141
hel 41, 52-59, 82

Impulsy Trichela 42
inynieria tkankowa 34

Jonizacja 164
cieplna 150
jednokrotna 27
przestrzeni midzyelektrodowej 109
wielokrotna 27
wstpna 120
objtociowa 37
zderzeniowa 36-37

Komora wyadowcza 82-84
koncentracja ozonu 172 -183

Lawina
elektronowa 37
wtrna 37

adunek
elektronu 46
elektryczny 44
powierzchniowy 73-74
wypadkowy 27
uk 61
ekspansyjny 81-82
elektryczny 80-82,96
krtki 86
intensywnie chodzony 124

Mechanizm wyadowania 35, 37, 72
strimerowy 37
Towsenda 38, 95
metale cikie 18-24
mikrowyadowania 64,74, 76
moc 130, 148,166, 176-183,
bierna 104, 117, 127-135
przesunicia 135
chwilowa 156
czynna 134-141
dawika 137
odksztacenia 136-141
ozonatora 138
pojedynczego elementu 136
pozorna 116,138
transformatora 116, 136
wyadowa 104
znamionowa 137
modele uku 148
deterministyczne 147-150
dynamiczne 148
kanaowe 148
matematyczne 148
statyczne 148
stochastyczne 147, 170
zaciskowe 148

Nadtlenek wodoru (H
2
O
2
) 34, 172
nanotechnologie 191
napicie
fazowe 92-98, 110
impulsowe 64
pocztkowe 37
polaryzacji 42

211

przewodowe 92-98
stae 35
wysokiej czstotliwoci 47, 59, 142
zaponu wyadowa 106, 141

Ozon (O
3
) 13, 18-23, 25, 50, 53, 174
obrbka gleby 22,
ochrona rodowiska 10
odpady
niebezpieczne 24
przemysowe 22
ciekowe 24
toksyczne 23

Parametry
eksploatacyjne 142
elektryczne 72, 88, 148
gazu 79
geometryczne elementw
wyadowczych 78
reaktora 179
gleby 179
hydrodynamiczne 148
uku 148
plazmy nietermicznej 162-169
reaktorw plazmowych 57, 72, 178
technologiczne 88
termiczne 88
ukadu zasilania 31, 77, 79, 88, 170
wyadowania 58, 72,
piec plazmowy
plazma
czciowo-zjonizowana 27
gorca 28
impulsowa 33
nierwnowagowa 80-83
nietermiczna 30,38
niskocinieniowa 29
termiczna 25
wysokocinieniowa 29
zimna 53
plazmotrony ukowe 163
pole
elektryczne 30
jednorodne 35
elektromagnetyczne 49
powietrze 20
prd
przesunicia 74
fazowy 92-98
procesy
chodzenia 23
jonizacji 37,67
37
37
prnia 46, 48, 51

Reaktancja
wewntrzna 128
zwarcia 143
reaktor
plazmowy 82, 84, 117,118, 145
jednofazowy 84
trjfazowy 87
trjelektrodowy 82, 118
wieloelektrodowy 60-62, 145
dwunastoelektrodowy 82-84
szecioelektrodowy 118
dziewicioelektrodowy 117
rekombinacja 67
rozkad
pola elektrycznego 37, 50
potencjau 41, 69
temperatury 81,163-168
rwnanie
Ayrton 148
Cassiego 150
Mayra 150
rwnowagi 165
zachowania
energii 149, 165
masy 165
pdu 165
rwnowaga termodynamiczna 60, 80-83

Schemat zastpczy 100
siy 18, 57, 162
gazodynamiczne 84
spalanie 17, 19, 20, 33
sprawno 67-68, 133-142, 146, 182-190
212
stopie
czystoci 60
jonizacji 28, 88, 163-165
nasycenia 111
sterylizacji 189
sterylizacja 64, 66, 80, 172-176, 188-191
strimery 38-39
symulacja 158, 167

rodowisko 8, 9, 18-24, 26, 31-35, 62

Technologie 8, 10, 17, 24
chemiczne 11, 26
materiaowe 27
plazmowe 12, 14, 17
technologiczne rda plazmy 26
temperatura
czstek plazmy 147
elektronw 163
gazu elektronowego 162
uku 149
obojtnych czstek plazmy 162
przestrzeni wyadowczej 147, 161
tlenki
azotu 18-19, 31-33, 64-66, 174-186
manganu 66
metali 21
siarki 18, 21, 31-33, 69
elaza 66
Transformator
jednofazowy 110, 112
piciokolumnowy 106, 119, 143
podwyszajcy 133
roboczy 108-117, 144
zaponowy 120

Ukady
chodzenia 77-84
dostarczania gazu 66, 79

energoelektroniczne 104, 134, 145
impulsowe 32, 45, 62, 105-106
pprzewodnikowe 130
transformatorowe 135
tranzystorowe 104, 130, 145
trjfazowe 88, 109
wieloelektrodowe 61, 62
zasilania 104 - 118
zintegrowany 105
upakowanie dielektryczne 72

Wykres fazorowy 100
wyadowanie
atmosferyczne 27
barierowe 13, 26, 33, 51, 68, 127, 130
DC 40, 42
impulsowe 49, 50
jarzeniowe 35, 36, 42, 52
katodowe 31
koronowe 36, 42 - 46
ukowe 13, 60
mikrofalowe 30, 60, 62
niezupene 13, 36, 39
kapilarne 60
RF 46,49,50
powierzchniowe 43
quasi-ukowe 36
trjfazowe 84
w mikrootworach 55-59
wsteczne 44, 45
zupene 36
wytrzymao elektryczna 55, 96

VOC 13, 20, 32, 64, 67

Zanieczyszczenia 8, 16-23, 168
zapon wyadowa 55-58, 74-85,106-170
zderzenia 32
zrwnowaony rozwj 15