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SUMRIO
INTRODUO
03
1.1
1.2
1.3
1.4
03
05
06
08
A NATUREZA DA LUZ
09
2.1
10
INSTRUMENTOS PTICOS
11
3.1
3.2
11
12
15
4.1
4.2
18
19
Polariscpio plano
Polariscpio circular
18
5.1
5.2
5.3
5.4
18
19
19
22
22
29
30
31
34
5.5
5.6
5.7
Fundamentos da fotoelasticidade
Fotoelasticidade de transmisso plana
Fotoelasticidade de transmisso tridimensional
Fotoelasticidade de reflexo
ndice de refrao
Luz polarizada
Lei de Brewster-Maxwell (Dupla refrao temporria)
Parmetros fotoelsticos
5.4.1
Medida dos parmetros fotoelsticos
Mtodo de compensao de Tardy
Materiais fotoelsticos
Mtodos de calibrao
5.7.1
Exemplo de um processo de calibrao
REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
37
1 INTRODUO
A especificao ou dimensionamento de peas e estruturas um dos problemas mais freqentes em engenharia. Neste caso, geralmente, deseja-se avaliar os gradientes de tenses oriundos da aplicao dos carregamentos. Por exemplo, em muitos casos de projetos de peas, h a
necessidade de que estas tenham variao de seo, furos, entalhes, ranhuras, etc. Todas essas
formas na pea so pontos concentradores de tenso, ou seja, as tenses nesses pontos so
maiores que a tenso nominal. Essas tenses mximas so proporcionais tenso nominal, e
o fator de proporcionalidade conhecido como fator de concentrao de tenso que depende
da geometria, dimenso do entalhe e natureza do esforo.
Vrias tcnicas experimentais so hoje utilizadas para a determinao da distribuio de tenses/deformaes em sistemas estruturais. Entre estas tcnicas pode-se destacar a fotoelasticidade, tcnica que, permite uma rpida anlise qualitativa do estado de tenso, atravs da
observao de efeitos pticos. Especificamente, a fotoelasticidade de transmisso pode ser
usada na soluo de problemas do estado plano ou tridimensional; para tanto necessria a
confeco de modelos. Existe tambm uma tcnica fotoelstica que determina a distribuio
de tenses em superfcies, a fotoelasticidade de reflexo, que dispensa a confeco de modelos.
No caso particular da tcnica fotoelstica de transmisso, um material plstico transparente
submetido a um estado de tenso/deformao exibe uma propriedade denominada dupla refrao ou anisotropia ptica. A luz polarizada que o atravessa, obtida por um aparelho denominado Polariscpio, permite a determinao das direes e dos gradientes das tenses principais atravs da interpretao dos parmetros pticos observados. Quando se utiliza luz
branca, os efeitos pticos se manifestam como franjas coloridas e com luz monocromtica h
uma srie alternada de franjas pretas e brancas. A ordem de franja em um ponto est relacionada com o estado de tenses no modelo, atravs da "Lei ptica das Tenses".
Como foi citado, na tcnica de fotoelasticidade de transmisso, h a necessidade da confeco de um modelo constitudo de um material transparente que possua propriedades de birefrigncia. Este modelo deve ento ser submetido aos carregamentos desejados sendo analisado em um Polariscpio de transmisso, pois somente sob luz polarizada podem-se observar
os fenmenos e os parmetros pticos necessrios para fazer a anlise das tenses.
1.1 Fundamentos da fotoelasticidade
A Fotoelasticidade uma tcnica experimental para anlise do campo de tenso/deformao
de estruturas que particularmente til em peas que possuem geometria complexa e/ou carregamentos complexos. Em tais casos, mtodos analticos podem ser de difcil execuo ou
impossveis de serem aplicados, e uma anlise experimental pode ser mais apropriada. Atualmente, a soluo de problemas bidimensionais elsticos e estticos so bem conhecidos
3
atravs de mtodos analticos. Mtodos experimentais so atualmente adequados para a soluo de problemas com geometria 3D, montagens com mltiplos componentes, cargas dinmicas e materiais com comportamento inelstico. O nome fotoelasticidade reflete a natureza do
mtodo, ou seja, foto implica no uso da luz e tcnicas pticas, enquanto elasticidade relaciona-se com o estudo de tenses e deformaes em corpos elsticos. Utilizando a tcnica com
vernizes fotoelsticos possvel ampliar este estudo para corpos inelsticos. A tcnica fornece evidncias quantitativas de reas altamente tensionadas e picos de tenses em superfcies
ou pontos interiores de estruturas.
A tcnica da fotoelasticidade permite uma rpida anlise qualitativa do estado de tenso,
atravs da observao de efeitos pticos em modelos, alm de ser muito usada no monitoramento quantitativo de resultados obtidos por elementos finitos e em solues tericas aproximadas. Esta tcnica muito aplicada para localizar reas com altos nveis de tenso em
problemas de geometria plana e tridimensional, sendo uma tcnica recomendada tambm em
estudos de problemas de contato entre os corpos.
O mtodo baseado em uma propriedade nica de alguns materiais transparentes que o
efeito de anisotropia ptica. Quando o modelo tensionado e um raio de luz entra ao longo
das direes das tenses principais, a luz dividida em duas componentes de onda, cada uma
com seu plano de vibrao paralelo a uma das duas tenses principais. A luz viaja ao longo
destes dois caminhos com diferentes velocidades devido ao efeito de birrefringncia e que
depende da magnitude das duas tenses principais, conforme mostrado na Figura 1. Portanto,
a onda vai emergir do modelo com uma nova relao de fases ou retardao relativa, que a
diferena no nmero de ciclos dos dois raios viajando dentro do modelo.
Plano principal
Raio de
luz
Plano principal
Para a utilizao da tcnica fotoelstica, materiais especiais devem ser usados, portadores de
caractersticas indispensveis tais como: ser transparente e livre de tenses residuais, apresentar uma boa resposta ptica, ser linear, ser homogneo e isotrpico e ter boa usinabilidade.
1.2 Fotoelasticidade de transmisso plana
A fotoelasticidade de transmisso plana utilizada em problemas de estado plano de tenses
e requer a confeco de modelos planos e sistemas de cargas que simulam adequadamente as
cargas reais impostas ao modelo real. A Figura 2 mostra um modelo fotoelstico feito de um
material base de resina epxi sem carregamento. A Figura 3-b mostra o mesmo modelo
posicionado em um sistema de carga e a Figura 4-b mostra os parmetros pticos observados
neste modelo quando sujeito aos carregamentos e observados no polariscpio de transmisso.
Figura 2 Implante dentrio com conexo do tipo hexgono interno fixado em um bloco
fotoelstico, analisado no Laboratrio de Projetos Mecnicos da FEMEC/UFU.
(a)
(b)
Em geral, pontos crticos em modelos planos ocorrem em contornos livres (furos, entalhes,
filetes). A fotoelasticidade plana torna-se uma forma poderosa de determinao da distribuio de tenses ou fator de concentrao de tenses, associadas a esses problemas. Em pontos
no interior do modelo bidimensional, pode-se obter apenas a leitura da tenso cisalhante mxima, e os valores individuais das tenses principais s so obtidos com a utilizao de dados
suplementares ou emprego de mtodos numricos.
(a)
(b)
Figura 4 a) Modelo fotoelstico do implante dentrio com conexo do tipo hexgono interno sem carga. b) Padro de franjas observado no modelo fotoelstico do implante dentrio
com carga, analisado no Laboratrio de Projetos Mecnicos da FEMEC/UFU.
1.3 Fotoelasticidade de transmisso tridimensional
Os modelos utilizados na fotoelasticidade plana so carregados temperatura ambiente, e,
sendo elsticos, a configurao das franjas desaparece quando a carga retirada. Uma vez
que a luz precisa atravessar toda a espessura, a interpretao das configuraes das franjas s
possvel quando o modelo plano, gerando um estado plano de tenses considerando a distribuio das tenses praticamente uniforme ao longo da espessura.
Vrios polmeros, como por exemplo, aqueles base de resina epxi, quando carregados sob
altas temperaturas e em seguida resfriados, retm a configurao das franjas como se ainda
estivessem carregados em regime elstico. Este processo denominado de "congelamento de
tenses/deformaes". O congelamento de tenses em certos tipos de materiais pode ser entendido como se estes possussem uma forte estrutura elstica, ou rede molecular, que no
afetada pelo calor, com os espaos entre as ligaes preenchidos por uma massa de molculas
fracamente ligadas (cadeias secundrias), que amolecem com o aquecimento, como mostra a
Figura 5. Quando o modelo aquecido, atingindo a chamada "temperatura crtica do polmero", e carregado, a estrutura molecular elstica suporta a carga e deformada elasticamente
sem impedimento. No resfriamento, a massa malevel na qual a estrutura molecular est
6
Figura 8 Anlise fotoelstica 3D (transmisso) de um reator nuclear utilizando fotoelasticidade de transmisso 3D. Fonte: Measurements Group / Vishay Inc.
1.4 Fotoelasticidade de reflexo
A fotoelasticidade de reflexo uma tcnica experimental usada para a determinao de tenses/deformaes em superfcies planas ou irregulares. uma tcnica relativamente precisa e
tem como principal vantagem o fato de no ser necessria a confeco de modelos. Pode ser
utilizada em problemas envolvendo deformao elstica ou plstica, bem como em problemas
envolvendo materiais anisotrpicos. A obteno dos parmetros pticos pode ser feita diretamente na estrutura ou componente mecnico, quando estes esto sob efeito dos carregamentos reais. Nestes casos, o polariscpio de reflexo pode ser deslocado para o local de operao da estrutura.
8
Esta tcnica consiste em colar na superfcie do espcimen uma camada de material fotoelstico com uma cola apropriada e que possui uma superfcie reflexiva na interface espcimen/camada. Quando o espcimen carregado, a deformao na superfcie do mesmo
transmitida para a camada fotoelstica e atravs da anlise dos fenmenos pticos que ocorrem no material fotoelstico, pode-se determinar as tenses/deformaes na superfcie do
espcimen. Existem vrios mtodos de separao das tenses principais, sendo que os mais
usados so o mtodo da incidncia oblqua e o mtodo da inciso.
Os materiais fotoelsticos usados nesta tcnica, alm de outras caractersticas, tm que ter
baixo mdulo de elasticidade, se comparado com o mdulo de elasticidade do espcimen,
para minimizar o efeito de reforo e dar alta resistncia relaxao ptica mecnica, garantindo uma estabilidade das medidas com o tempo. A Figura 9 apresenta um caso de aplicao
utilizando a fotoelasticidade de reflexo.
E
B
B
Fonte de luz
z
Figura 10 Luz propagando-se na direo Z vibrando em diversos planos.
E f ( z c t ) g( z c t )
(1)
Onde:
A maioria dos efeitos pticos de interesse na anlise experimental de tenses, mais especificamente na fotoelasticidade pode ser descrita como uma onda senoidal, propagando na direo positiva do eixo z, como mostrado na Figura 11. Ou seja:
E f ( z ct ) a sen
( z ct )
ou
E a cos
( z ct )
(2)
O tempo requerido para a passagem de dois picos sucessivos sobre algum valor fixo de propagao chamado perodo (T). A frequncia (f) definida pelo nmero de oscilaes de
amplitude por perodo, onde o comprimento de onda. Ento:
f
1 c
(3)
10
Cor
400 450
Violeta
450 480
Azul
480 510
Azul-verde
510 550
Verde
550 570
Amarelo-verde
570 590
Amarelo
590 630
Laranja
630 700
Vermelho
3 INSTRUMENTOS PTICOS
3.1 Polarizador plano ou linear
So elementos pticos que absorvem os componentes do vetor de luz que no vibram na direo do eixo do polarizador. Os tipos mais utilizados so aqueles que utilizam folhas de polaride do tipo H que so cristais dicricos (duas cores) encapsulados por um filme plstico
11
(Polivinil alcolico). Quando a luz atravessa um polarizador plano, ele a divide em duas
componentes de onda de luz vibrando em planos mutuamente ortogonais, como mostrado no
esquema da Figura 12.
Direo de polarizao
E
Luz incidente
Et
Luz emergente
E Et Ea
Et a cos t cos
(4)
um campo de luz polarizada plana com o vetor de luz transmitido (Et) fazendo um ngulo
com o eixo rpido, este vetor decomposto em duas componentes transmitidas, Et1 e Et2, respectivamente. A Figura 13 mostra um esquema de um retardador de onda.
Luz incidente
Eixo 2
(lento)
h
E1
Atraso relativo ()
E1
E2
Eixo 1
(rpido)
E2
2 1 h(n2 n1)
(5)
Onde:
1 h(n1 n)
(6)
2 h( n 2 n)
Nas Equaes (5) e (6), h a espessura da placa, n o ndice de refrao do ar e n1 e n2 so
os ndices de refrao nas direes dos eixos rpido e lento, respectivamente.
A diferena de fase angular pode ser obtida a partir da diferena de fase linear (), uma vez
que esta equivalente ao vetor de luz girando ao longo do eixo de propagao com uma frequncia angular , ou seja:
13
h(n2 n1)
(7)
Quando a placa projetada para dar uma retardao angular de /2, ela chamada de placa
de de onda (quarter-wave plate). Isto conseguido, geralmente, apenas variando a espessura h da placa retardadora. Como pode ser visto na Figura 13, na sada da placa, as componentes do vetor de luz transmitidos ao longo dos eixos rpido e lento so:
Et 2 k cos(t ) sen
Onde, k a cos
O mdulo do vetor de luz resultante ( Etr ) ser:
(9)
O ngulo que este vetor de luz resultante faz com o eixo rpido dado por:
tan
Et1 cos(t )
tan
Et 2
cos t
(10)
Portanto, tanto a amplitude como a rotao da luz emergente podem ser controladas pela placa retardadora. Os tipos de polarizao que se pode obter nestes casos so, plana, circular ou
elptica. Os fatores que controlam estes tipos de polarizao so a diferena de fase relativa
e o ngulo de orientao . A seguir so apresentados estes trs casos possveis.
Caso 1: Luz polarizada plana
Para = 0 e qualquer no h efeito do retardador. Neste caso:
Etr k cos t = 0
(11)
Desde que o vetor de luz no gira ( = 0) ele passa atravs da placa retardadora e emerge como luz polarizada plana. Neste caso, o retardador apenas produz uma retardao na onda que
depende de sua espessura e do ndice de refrao associado com o eixo rpido. Resultado
similar obtido para = /2.
14
2
e = t
2
(12)
A ponta do vetor de luz gira com uma velocidade angular constante no sentido anti-horrio e
uma magnitude constante formando um crculo emergindo com uma luz denominada luz polarizada circular.
Caso 3: Luz polarizada elptica
Para n/4 e = /2 (quarter-wave plate) tem-se que:
Etr k cos 2 cos 2 t sen 2 cos 2 t
(13)
(14)
A ponta do vetor tem uma magnitude que varia com a posio angular formando uma elipse,
cuja forma e orientao so controlados pelo ngulo .
4 POLARISCPIO E SUAS CARACTERSTICAS
O equipamento utilizado na anlise fotoelstica plana e tridimensional o polariscpio de
transmisso, que pode ser um polariscpio de luz plana ou luz circular. A Figura 14 mostra
um modelo de polariscpio de transmisso pertencente ao Laboratrio de Projetos Mecnicos
da FEMEC/UFU. Na fotoelasticidade de reflexo o instrumento utilizado na medidas dos
parmetros fotoelsticos o polariscpio de reflexo.
O polariscpio serve para levar as ondas dentro de um plano comum causando uma interferncia ptica entre elas, sendo um instrumento que mede a diferena de fase que ocorre quando a luz polarizada passa atravs de um modelo fotoelstico tensionado. O modelo mais simples o polariscpio plano de campo escuro (trabalha com luz plana e o polarizador e o analisador possuem eixos cruzados). Utilizando duas placas de um quarto de onda possvel
obter o chamado polariscpio circular.
15
eixos cruzados ou paralelos. De acordo com um arranjo especfico pode-se obter luz polarizada em um campo escuro ou campo claro. De acordo com cada arranjo especfico pode-se
modificar os parmetros pticos nos modelos. A Tabela 2 mostra o resultado para as quatro
possibilidades de arranjo dos filtros.
Tabela 2 Arranjos dos elementos em um polariscpio circular.
Arranjo
Polarizadores
Retardadores
Campo Observado
cruzados
cruzados
escuro
cruzados
paralelos
claro
paralelos
cruzados
claro
paralelos
paralelos
escuro
18
b
C
b
C
Cluz
b luz luz b n x n y
Vy
Vx Vy
Vx
(15)
n1 n0 c1 1 c 2( 2 3)
n2 n0 c1 2 c 2( 1 3)
n3 n0 c1 3 c 2( 1 2)
(16)
Onde:
i : Tenses principais no ponto;
ni : ndices de refrao do material no ponto;
n0 : ndice de refrao do material descarregado;
ci : constantes pticas.
19
n1 n2 (c1 c 2)( 1 2)
c( 1 2)
(17)
A Equao (7) mostrou que a diferena de fase angular pode ser escrita em funo da diferena de fase linear e do comprimento de onda da seguinte forma:
(18)
(19)
Definindo, a ordem de franja (N) e a constante ptica em termos de tenso (f) como,
N
2
(20)
(21)
1 2
N f
h
(22)
A principal caracterstica dos materiais fotoelsticos que estes materiais respondem s tenses/deformaes atravs de uma mudana nos ndices de refrao nas direes das tenses
principais. A diferena entre os ndices de refrao nos dois planos principais proporcional
diferena das tenses principais, como mostrado na Equao (19). Para facilitar a utilizao
da tcnica, esta equao foi reescrita sob a forma da Equao (22). Nesta, 1 e 2 so as tenses principais no ponto, f a constante ptica relativa s tenses que depende do material e
do comprimento de onda da luz utilizada, N a ordem de franja no ponto e h a espessura do
modelo. Com este mtodo consegue-se determinar a diferena das tenses principais nos pontos, e a direo destas tenses.
A tenso cisalhante mxima depende apenas da diferena das tenses principais, ou seja:
20
max
1 2
(23)
max
1 2
2
Nf
2h
(24)
Portanto, a tenso cisalhante mxima pode ser determinada em toda a extenso do modelo
conhecendo-se as respectivas ordens de franja no ponto de interesse. Se o problema exigir
que se conheam as tenses normais mximas, necessrio que se aplique algum mtodo
para a separao de tenses.
De forma anloga, a relao observada na Equao 17 pode ser expandida em termos da diferena entre as deformaes principais, ou seja:
n1 n2 C (1 2)
(25)
Considerando as direes das deformaes principais, pode-se obter a relao bsica para
medida de deformaes usando tcnicas fotoelsticas:
1 2
N
f
h
(26)
1
f
E
(27)
Onde:
E : mdulo de elasticidade do material;
: razo de Poisson do material.
As expresses das Equaes (22) e (26) so as relaes bsicas para medida de tenses usando fotoelasticidade. Devido ao atraso relativo (), as duas ondas no so mais simultneas
quando emergem do modelo. Se o modelo em questo estiver entre dois polarizadores o analisador transmitir somente uma componente de cada uma dessas ondas. Estas componentes
interferiro entre si e a intensidade de luz resultante que emergir, ser funo da fase e do
ngulo entre o eixo de polarizao do analisador e a direo das tenses principais.
21
Para avaliar como se d esta interferncia as sees 5.4 e 5.5 apresentam as intensidades luminosas resultantes em modelos fotoelsticos carregados em um polariscpio plano e em um
polariscpio circular.
5.4 Parmetros fotoelsticos
Conforme definido anteriormente, a interferncia causada pela diferena de fase entre os feixes de luz propagando nas duas direes principais e o ngulo entre as direes principais e
os eixos de polarizao do polariscpio do origem a dois parmetros fotoelsticos que podem ser medidos, sendo conhecidos como isoclnicas e isocromticas.
A tcnica fotoelstica pode utilizar luz monocromtica ou luz branca. Utilizando luz monocromtica os efeitos pticos observados, ou seja, as franjas so pretas ou claras. Neste caso,
um modelo observado em um polariscpio plano possui as isoclnicas superpostas as isocromticas tornando difcil a anlise do modelo.
O uso da luz branca resolve este problema porque as franjas observadas so coloridas. No
caso particular, a franja de ordem zero de cor preta, facilitando portanto a observao e determinao do gradiente de tenses no modelo. A Figura 17 mostra as cores relativas as ordens de franja inteiras.
COR
PADRO DE CORES
ORDEM DE FRANJA
Vermelho/verde
Vermelho/azul/verde
Violeta
Preta
Figura 17 Padro de cores versus ordens de franjas observadas nos modelos fotoelsticos.
5.4.1 Medida dos parmetros fotoelsticos
A pergunta agora : Como determinar as isoclnicas (direo das tenses principais) e as
isocromticas (ordens de franja N) nos pontos de interesse?
22
(a)
(b)
Figura 18 Disco sob compresso ao longo do dimetro vertical observado em um polariscpio plano: (a) em um polariscpio com campo escuro, (b) em um polariscpio com campo
claro. Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos/FEMEC/UFU.
As isoclnicas podem ser determinadas de duas maneiras:
Obteno das isoclnicas no campo completo do modelo. A famlia de curvas correspondentes sequncia de parmetros de 0o a 90o registrada em incrementos de
5o, mapeando-se assim o modelo com suas curvas isoclnicas.
Obteno da isoclnica individualmente nos pontos de interesse.
A Figura 19 mostra uma sequncia de isoclnicas observadas em um disco sob compresso
utilizando luz monocromtica.
23
xy
xy
1 2
2
1 2
2
sin2 2
sin2 1
N f
sin2 2
2h
N f
sin2 1
2h
(28)
(29)
24
Algumas caractersticas gerais podem ser observadas com relao ao padro das isoclnicas.
A Figura 20 apresenta uma sequencia geral de vrios parmetros das isoclnicas para o modelo de um anel e a Figura 21 mostra um esquema geral destes parmetros. De uma forma geral,
podem ser destacadas as seguintes regras gerais:
A borda de uma placa um ponto singular negativo.
No contorno livre, pontos isotrpicos singulares indicam mudana de sinal nas tenses do contorno.
Pontos isotrpicos em sequencia (mais de um ponto singular) sero positivos e negativos.
Linhas isoclnicas no se interceptam umas com as outras exceto em pontos isotrpicos.
Pontos de carga concentrada no so pontos isotrpicos.
Pontos singulares de uma borda e canto livre de cargas sero negativos.
Se uma isoclnica passa em 02 pontos singulares na borda livre de uma placa, ele
passa tambm em um ponto isotrpico do interior.
As isoclnicas, linhas ao longo das quais as tenses principais tm uma inclinao
constante, d a direo das tenses principais. Estas podem ser apresentadas na
forma de um diagrama de trajetria de tenses chamado de isostticas, onde as tenses principais so tangentes ou normais s linhas isostticas em cada ponto.
Figura 20 Padro das isoclnicas para um anel circular sujeito a uma carga de compresso.
25
Figura 21 Esquema da configurao das isoclnicas para o modelo do anel sob carga de
compresso.
compresso.
As isostticas so construdas da seguinte forma:
Inicia-se da isoclnica a 0, considerando-se pontos arbitrariamente espaados.
Definem-se linhas numeradas (1) conforme mostra a Figura 22, sendo orientadas a
0 com relao a normal.
As linhas (1) so divididas ao meio e o novo conjunto de linhas (2) desenhado inclinado de 10 com relao a vertical.
O processo segue e as linhas (3) so desenhadas a 20 com relao a vertical e assim sucessivamente.
Com o auxlio destas linhas so desenhadas as Isostticas.
As trajetrias das tenses so desenhadas tangentes s linhas construdas nos pontos de interseo com as isoclnicas.
26
(a)
(b)
1 p
f N
h
(30)
Np
0
29
[ 1 ] Ajusta-se o polariscpio para polarizao plana. A seguir, gira-se o conjunto polarizador/analisador at que uma isoclnica passe sobre o ponto em questo. Fixa-se o conjunto nesta posio. Os eixos de polarizao ficam assim alinhados
com a direo das tenses principais.
[ 2 ] Colocam-se as duas placas retardadoras de de onda fazendo um ngulo de
45o, com os eixos de polarizao, passando o ajuste do polariscpio de plano para circular. Com isto, desaparecem as isoclnicas, ficando somente as isocromticas.
[ 3 ] Observa-se o espectro, assinalando as ordens de franja de valores inteiros adjacentes ao ponto de interesse. Identificam-se assim as ordens de franjas prximas
ao ponto de interesse (por exemplo: na Figura 26 tem-se as ordens N1 = 2 e N2 =
3 no ponto de interesse.
[ 4 ] Gira-se o analisador, observando cuidadosamente o movimento das franjas, at
que uma das franjas de ordem inteira passe pelo ponto (no exemplo, a 2 ou a 3).
No transferidor do polariscpio l-se o ngulo de rotao (). Neste caso, se girar no sentido horrio a franja 2 caminhar para o ponto, consequentemente, girando no sentido anti-horrio quem vai caminhar para o ponto ser a franja de
ordem 3.
[ 5 ] Se a franja que se moveu em direo ao ponto for a de ordem menor (n1) tem-se
que a ordem de franja fracionria no ponto dada pela Equao 31 e se a franja
que se moveu for a de ordem mais alta (n2), o mesmo obtido pela Equao 32.
N p n1
N p n1
180
180
(medido em graus)
(31)
(medido em graus)
(32)
Deve-se ficar atento, pois ordens de franjas de trao e compresso so exatamente iguais.
Alm disso, nas superfcies livres, as direes das tenses principais so, respectivamente,
tangentes e perpendiculares superfcie. A tenso principal perpendicular superfcie nula,
se no existir carregamento. Portanto, em uma superfcie livre, se a franja de ordem superior
se mover em direo ao ponto, tem-se uma tenso de compresso neste ponto (negativa), e se
a franja de ordem menor se mover em direo ao ponto, tem-se uma tenso de trao (positiva).
5.6 Materiais fotoelsticos
Para a utilizao da tcnica fotoelstica, materiais especiais devem ser usados, portadores de
caractersticas indispensveis como:
material transparente;
30
31
cotas em mm
Figura 27 - Vistas no 3 diedro do corpo de prova utilizado para a obteno da Curva de Calibrao para a determinao da constante ptica (f). Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos.
A tenso da barra em qualquer ponto longe da aplicao da carga dada por:
F
A
(33)
A lei ptica das tenses foi definida na Equao (22). Como, neste modelo, a tenso 2
nula, tem-se que:
f
F
N
h
A
(34)
A f
N
h
(35)
32
Portanto, o coeficiente angular da reta formada pela fora versus a ordem de franja fornece a
constante ptica, uma vez que os parmetros geomtricos so constantes.
b) Calibrao utilizando o modelo de disco comprimido
Neste caso, um modelo fotoelstico de um disco, conforme mostrado na Figura 28 sujeito a
uma carga vertical de compresso F.
6P
2P
e 2
hD
hD
(36)
Utilizando a lei ptica das tenses e a Equao (36) pode-se obter a equao da reta de calibrao utilizando o modelo do disco sob compresso, ou seja:
Df
8
(37)
De forma anloga ao caso anterior, o coeficiente angular da reta formada pela fora versus a
ordem de franja fornece a constante ptica, uma vez que os parmetros geomtricos tambm
so constantes para o modelo do disco.
33
Figura 29 Aparato experimental utilizado para obter a constante fotoelstica de um material utilizando uma barra de seo transversal retangular. Fonte: Laboratrio de Projetos Mecnicos.
Inicialmente, foram determinadas as dimenses da barra utilizando o paqumetro. A barra foi
fixada ao sistema de carga atravs dos furos feitos em suas extremidades. Foi aplicada uma
carga gradual na barra de 5 kgf em 5 kgf at prximo de 30 kgf. Para cada valor de carga
aplicado foi determinada a ordem de franja (N) correspondente na imagem observada no polariscpio circular de transmisso. Para a determinao destas franjas foi usado o mtodo de
34
compensao de Tardy. Com os dados obtidos construiu-se uma tabela a fim de se obter a
curva de calibrao. A constante ptica do material foi obtida desta curva utilizando regresso linear (DALLY e RILLEY, 1978). A Tabela 3 mostra os resultados dos incrementos de
carga versus as ordens de franja medidas. As dimenses do corpo de prova so:
Largura (b) de 40.10 mm;
Espessura (h) de 6.45 mm;
Comprimento L de 200 mm.
Tabela 3 - Valores das ordens de franja medidas para diferentes incrementos de carga.
Calibrao
Carga (kgf)
Ordem de Franja
0
5.97
9.67
15.62
19.79
26.5
29.72
0
0.17
0.285
0.525
0.705
0.91
1.02
A constante ptica f pode ser calculada a partir da regresso linear que define a reta de calibrao, que dada por:
F * N
i
N *F
i
2
i
29,399
A * Ni
n
0,5895
Tem-se:
F N * b * f
y A* x B
A f * b
B0
xN
yF
f
A 29,399
7,33Kgf / cm
b
4.01
35
Este resultado tambm pode ser obtido via regresso linear no programa Excel, ou em qualquer outro software de manipulao de dados ou, ainda, manualmente, utilizando papel milimetrado. A Figura 30 mostra a reta de calibrao obtida no programa Excel.
Curva de Calibrao
35
y = 28.218x + 0.7518
R2 = 0.9968
30
Fo ra(Kgf)
25
20
15
Calibrao
Linear (Calibrao)
10
0
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1.2
Ordem de Franja
A f * b
B0
xN
yF
A 28,218
f
7,037 Kgf / cm
b
4.01
36
6 REFERNCIAS BIBLIOGRFICAS
ARAJO, C.A. Notas de Aula Curso Anlise Experimental de Tenses. Curso de PsGraduao em Engenharia Mecnica UFU, Uberlndia, 2004.
DALLY, J.W.; RILLEY, W.F. Experimental Stress Analysis. McGraw-Hill, 1978.
DOYLE, F.D. Manual on Experimental Stress Analysis. Society for Experimental Mechanics,
5.ed., 1985.
OLIVEIRA, S.A.G. Introduo Fotoelasticidade Plana. Apostila UFU, Uberlndia, 1995.
SHIGLEY, J.E. Mechanical Engineering Desing. MacGraw-Hill, 1997.
THEOCARIS, P.S.; GDOUTOS, E.E. Matrix Theory of Photoelasticity. SpringerVerlag.
New York, 1979.
37