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Fe 2+ Fe 3+ + e -
Desde el punto de vista qumico REDUCCIN es el decremento (en el
sentido positivo)de la valencia de un elemento luego de una reaccin.
Fe 3+ + e - Fe 2+
Corrosin intergranular
Del mismo modo que en el anterior caso, deben presentarse las tres
condicionantes de material, medio y nivel mnimo de tensiones a la traccin
(generalmente muy por debajo del nivel de ruptura en aire). En este caso el efecto de las
reacciones electroqumicas que se dan en la superficie metlica en el medio deben
producir hidrgeno atmico, capaz de entrar en solucin en la red metlica. Dicho
hidrgeno tiene alta difusin en esta ltima y tiende a concentrarse en los lugares de
mximo estado de tensiones tractivas, fragilizando al material. Si consideramos una
pequea fisura el hidrgeno tendr avidez por concentrarse en la punta de la misma y
por lo tanto al fragilizar el material en dicha zona la fractura se propagar a velocidades
muy altas.
a Me + b O = Me a O b
G= Gproductos - Greactivos
si G < 0 entonces la reaccin se llevar a cabo en el sentido
si G > 0 entonces la reaccin se llevar a cabo en el sentido
Tabla 2.1. Energa libre de formacin de xidos metlicos (por
tomo de oxgeno) a 2270 C (5OOK) en kilocaloras
Calcio 138.2
Magnesio 130.8
Aluminio 120.7
Titanio 101.2
Sodio 83.0
Cromo 81.6
Cinc 71.3
Hidrgeno ---58.3
Hierro 55.5
Cobalto 47.9
Nquel 46.1
Cobre 31 .5
Plata +0.6
Oro +10.5
2 1. ESPESORES DE XIDO
Los estudios hechos en electrnica, catlisis y corrosin, han
demostrado la dificultad enorme de obtener una superficie metlica perfectamente
limpia. A veces es posible lograrlo con ultravaco acompaado de calentamiento o
bombardeo inico. (Por ultra vaco, entendemos las presiones menores que 10 -6 mm de
mercurio). Supongamos que exponemos una superficie metlica limpia a la accin del
oxgeno. El metal comenzar a reaccionar con el oxgeno formando xidos. Segn la
temperatura del ensayo y la concentracin de oxidante, se obtendrn diferentes
espesores de xido.
A bajas temperaturas, la primera etapa ser la formacin de la capa
adsorbida. Si la temperatura es suficientemente baja o la concentracin del oxidante
escasa, la reaccin puede detenerse luego de formar dicha capa adsorbida sobre la
superficie que se encuentra ligada sin cohesin. Se dice que dicha capa est adsorbida
fsicamente por fuerzas secundarias atractivas de Van der Waals entre los tomos
metlicos de la superficie y el gas. El oro, la plata, y el platino solo se recubren con una
capa de oxgeno adsorbido, cuando se han expuesto al aire. La mayora de los metales
restantes en contacto con el oxgeno reaccionan formando un compuesto qumico sobre
la superficie. Este puede ser un compuesto estequiomtrico verdadero de una o varias
molculas de espesor, o bien ser una capa de oxgeno que est quimioadsorbida.
Hasta hace poco tiempo se supona que las pelculas delgadas crecan a
partir de la capa adsorbida en una forma continua. Se supona que en todo momento el
espesor de dicha pelcula era uniforme, y se haban propuesto numerosos mecanismos
que trataban de explicar dicho crecimiento. Sin embargo tanto en oxidacin como en
sulfuracin de metales, durante la etapa inicial de crecimiento de la pelcula se forman
ncleos de sulfuro u xido. El proceso en si ocurre en tres etapas. Primero la superficie
del metal aparece, limpia y brillante por un tiempo. Luego aparecen abruptamente
ncleos de xido que comienzan a extenderse sobre la superficie del metal. Esta segunda
etapa concluye cuando los ncleos se encuentran entre si y cubren toda la superficie. La
tercer etapa es la de espesamiento del xido resultante de ste conglomerado de ncleos.
Se trata de un proceso de nucleacin homognea que depende de la temperatura y de la
presin de oxidante.
Corrosin = K * tiempo
a Me + b O = Me a O b
Relacin de P&B = Volumen de xido generado = Md
Volumen de metal consumido amD
Aluminio 1,28
Bario 0,78
Cadmio 1,32
Calcio 0,78
Cesio 0,42
Cobalto 2,10
Cobre 1,70
Cromo 3,92
Estao 1,33
Estroncio 0,69
Hierro 2,06
Litio 0,60
Magnesio 0,84
Manganeso 2,07
Nquel 1,68
Plomo 1,31
Potasio 0,51
Silicio 2,04
Sodio 0.32
Torio 1,36
Tungsteno 3,30
Zinc 1,59
Zirconio 1,55
(dy / dt) = K * (1 / y)
Que por integracin nos da una ley parablica de crecimiento del xido:
Corrosin = K * t (1/2)
Cada uno de los ltimos tres casos exige que la difusividad inica y la
conductividad elctrica en el xido sean elevadas. Si la conductividad elctrica es baja, la
velocidad de crecimiento est limitada por el pequeo nmero de electrones que se
mueven desde el metal a la interfase del gas-xido. El crecimiento del film puede tambin
ser retardado si la velocidad de paso de los electrones es muy grande comparada con la
de los iones metlicos positivos, ya que esto produce la formacin de una carga de
espacio de los iones positivos en el film (como si fuera la superficie cargada de un
condensador) que se opone a la difusin posterior dentro del mismo. La difusividad y la
conductividad elctrica de los xidos dependen de la composicin de los xidos la que
estudiaremos mas adelante.
x 2 = k1* t + k2 (2.3)
n = K(1/4) * p (1/8)
De lo visto hasta ahora resulta que un xido protector ser tanto mas
eficiente cuanto menor sea el numero de defectos inicos que contenga , y cuanto mas
difcil sea el movimiento de los mismos. As. Por ejemplo el FeO presenta una
concentracin de defectos muy grande, y su capacidad protectora a alta temperatura es
muy pobre. En cambio el. NiO tiene una concentracin de defectos baja y el Cr 203 y Al203
son muy buenos protectores debido a su muy bajo contenido de defectos
2.6.1. dopping
Li X Ni 1-X O
e e