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Luiggi Antonio Salas Ccoscco

CUESTIONARIO N°4

1.- Indicar dos técnicas para disminuir la concentración de


tensiones, describir en qué consisten e ilustrar como se
aplican
1.- Modificando el diseño de piezas ,añadiendo en los diseños el uso de chaflanes En zonas de
cambio repentino en la forma de la pieza, se puede reducir la concentración de tensiones
suavizando dicha transición. se consigue una disminución de la tensión máxima al aumentar el
radio

2.- Utilizar concentradores múltiples de tensión, cuya idea es “guiar” las líneas de transmisión
de esfuerzo para evitar las zonas de concentración de tensiones. al introducir dos agujeros
(concentradores de tensión) laterales se reduce la concentración de tensiones en el agujero
del centro de la pieza disminuyendo de esta forma la tensión máxima. No obstante, esta
técnica reduce la rigidez de la pieza al quitarle material, con lo que debe emplearse con sumo
cuidado
2.- Indicar en que consiste la técnica de fotoelasticidad, en que
consiste su aplicación y puede ser usado en metales
La fotoelasticidad es una técnica experimental para la medición de esfuerzos y deformaciones.
Se basa en el uso de luz para dibujar figuras sobre piezas de materiales isotropos, transparentes
y continuos, que están siendo sometidas a esfuerzos. La medición se logra al evaluar el cambio
del índice de refracción de la pieza al someterse a una carga. En el caso de una pieza no
transparente, se cubre la pieza con una resina birrefringente.

Las aplicaciones de fotoelasticidad tienen que ver con la identificación y descripción de la


distribución de tensiones en materiales sólidos y estructuras de soporte; para ello se describen
los esfuerzos principales bajo la aplicación de recubrimientos hechos a partir de materiales
birrefringentes.

Se puede usar en metales ya para mejorar la calidad de la imagen obtenida así obtener mejor
resultado.

BIBLIOGRAFIA
[1] https://es.wikipedia.org/wiki/Fotoelasticidad

[2] Wong C. F. Birefringence Measurement Using APhotoelastic Modulator. Applied Optics Vol.
18, No. 23, pp 3996-3999, 1979.

[3] Achintya K. Bhowmik. Multiple-Reflection Effects Inphotoelastic Stress Analysis.Applied


Optics, Vol. 40, No. 16, pp. 2687-2691, 2000

[4] Ainola Leo AndAbenHillar. On The Optical Theory of Photoelastic Tomography.Optical


Society of America, Vol. 21, No. 6, pp 1093-1101, 2001

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