Professional Documents
Culture Documents
INTRODUCCIN Fenmenos de Corrosin: Morfologa del ataque: - Uniforme, Localizado, intergranular etc. Medio atacante : Atmosfrica, cidos, sales fundidas, etc. Acciones fsicas: Corrosin bajo tensin, corrosin por cavitacin, corrosin por corrientes vagabundas, etc. Mecanismos de reaccin: - Corrosin Electroqumica - Oxidacin Directa
WBM
Corrosin Electroqumica
Se debe a la formacin de pilas electroqumicas, la disolucin del metal ocurre en las regiones andicas.
Fe(OH ) 2
Solucin cida
Fe +2
1 / 2O2 + H 2O + 2e 2OH
Fe +2
2 H + + 2e H 2
2e
Fe + 2e
nodo Ctodo
2e
Fe + 2e
nodo Ctodo
WBM
La reduccin de la sustancia agresiva y la oxidacin del metal Ocurren en diferentes interfases de una capa que recubre la Superficie metlica
2x 2 M ( S ) + O 2( g ) M X OY y y
1. Quimiadsorcin: Adsorcin del O2(g) sobre la superficie Metlica. 2. Difusin
WBM
1. Quimiadsorcin
(s)
+ O
2(g )
(s)
/ 2O
( ada )
M M
n+
+ ne .........O + ne nO
MO 2 ( S )
WBM
metal
atmosfera oxidante
O2
M O2
El O2 se adsorbe en la superficie del metal
O2 2O 2
M M
2+
MO
WBM
xido formado
Pelcula continua Ncleos separados Espesor: Delgada < 40 nm Media 40 500 nm Gruesa > 500 nm
WBM
metal
atmosfera oxidante
O2
continua de xido discontinua
MO O2
M MO
capa
metal
atmosfera oxidante
O2
WBM
M O2
VM
M+
O-2
Vo
O2
difusin
Metal
Oxide
Oxygen
Ni + O2
A
O2 N2 N2
Oxigen ions
Air N2 O2
Schematic diagram showing counter current diffusion, i.e., diffusion of oxigen Inward and metal ions plus electrons outward. Thus, the anode is at the metal/ Metal oxide interface A, where oxidation (M M++ + 2c) ocurrs. The cathode is At C, the oxide/air interface where reduction (1/2 O2 + 2c O--) ocurrs.
WBM
Tipo 1 Pelcula producida al principio es porosa Tipo 2 Si la pelcula no es porosa, la reaccin de oxidacin tiene lugar en la interfase xido-aire WBM
oxi met .
n
elevada, las tensiones generadas en la oxidacin pueden fracturar las pelculas, perjudicando o anulando su valor protector.
WBM
WBM
Vacancia aninica
Hueco electrnico
WBM
Impurezas
WBM
WBM
VACANTES ANIONICAS Vo (EXCESO DE METAL) VACANTES CATIONICAS Vm (DEFICIT DE METAL) ANIONES INTERSTICIALES Vi (EXCESO DE NO METAL) CATIONES INTERSTICIALES Mi (DEFICIT DE NO METAL)
+ +
N P P N
DEFECTOS ELECTRNICOS
Electrones Libres, eHuecos Positivos, h+ (Falta de Electrones) P Semiconductor: La carga electrnica es transportada por huecos positivos , (h+) N Semiconductor: La carga electrnica es transportada por electrones libres, (e-)
WBM
[V Fe ][h + ]2
p
1/ 2
[VFe ] = cp1/ 6O
WBM
p:
[defectos] p1/ nO
n : [defectos] p 1/ nO
Termodinmica de la oxidacin
M + O2 = MO2
aMO2 0 G = G + RT ln aMaO2
G = G 0 RT ln pO2
0 = G 0 RT ln pO2 ( eq ,T )
aM = 1 aMO2 = 1
G = G + RT ln
0
pO2 ( eq ,T ) pO2 (t )
WBM
WBM
WBM
V oxi . 1 . 0 V met .
y Metal
dy = k c ai dt
y: espesor de capa t: tiempo kc: constante de velocidad ai: actividad del oxidante en el medio
O2-
y = kc . t t
WBM
yi
Proceso Difusivo
i =
puro i
+ RT ln ai
a i r e Co
C0 C dy = kD dt y
kD coeficiente de difusin del oxgeno a travs de la capa de xido
y = kDt
2
WBM
dy k = y dt e
y = k ln ct
dy = k c ai dt
C0 C dy = kD dt y
2
y y C ot + c + 2kD kC
y = knt
n
WBM
WBM
CORROSIN GASEOSA DE VARIOS METALES EN DISTINTAS ATMSFERAS (EXPRESADAS EN GANANCIA DE PESO COMO mg/cm2da
TIPOS DE ATMOSFERA Temperatura Material C Fe Cr Ni Co Cu W Fe Cr Ni Co Cu W O2 51,1 0,47 0,96 3,7 12 41,2 124,3 2,2 2,8 93,1 43,9 376,2 H2O 62,2 0,05 0,03 0,8 3,3 2,1 57,5 1,2 1,4 25,9 15,3 179,2 CO2 57,7 0,27 0,39 2,7 6,5 13,9 113,3 1,3 3,6 44,3 12,3 13,9 SO2 35,4 0,16 92,3 59,8 0,13 47 >500 3,2 83,7 163,3 0,2 29
700
900
WBM
WBM
WBM
CAPA DE XIDO
EVITAR LA FORMACIN DE COMPUESTOS CON ESTRUCTURA DE WUSTITA (FeO) FORMACIN DE XIDOS TIPO ESPINELA SOBRE LA SUPERFICIE DE LA ALEACIN, CON PARAMETROS RETICULARES TAN PEQUEOS COMO SEA POSIBLE.
WBM
Influencia de los diferentes elementos de aleacin sobre la oxidacin del hierro a 900 1100 C
WBM
SULFURACIN
EL ATAQUE DEL AZUFRE CREA PROBLEMAS MAS GRAVES QUE LOS OCASIONADOS POR EL OXGENO LOS SULFUROS METLICOS FUNDEN A TEMPERATURAS MENORES QUE LOS XIDOS DEL MISMO METAL.
XIDO
4230
WBM
SULFURACIN TIENEN MENOR TENDENCIA QUE LOS XIDOS A FORMAR PELCULAS PROTECTORAS TENACES Y CONTINUAS. LOS XIDOS. COEFICIENTES DE DIFUSIN DE LOS CATIONES
FORMAS CORROSIVAS
SO2, H2S, VAPORES DE AZUFRE, SIENDO MS AGRESIVOS LOS DOS LTIMOS.
WBM
CAPA DE XIDO
CAPAS CONTINUAS Y ADHERENTES. ESTRUCTURA CRISTALOGRAFICA CON POCOS DEFECTOS RETICULARES ESTRUCTURA TIPO ESPINELA
MOM2O3
M M Mg, Fe, Zn, Mn Al, Fe, Cr
WBM